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公开(公告)号：CN1704848B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200510073458.0
申请日：2005-05-30
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种曝光装置，防止由感光树脂层所挥发的挥发物质附着于凹面镜，从而可防止凹面镜的反射率降低及覆盖所述凹面镜表面的反射膜劣化。曝光装置在壳体内具有光源、平面镜、复眼透镜、凹面镜、掩模框架以及承载台，还具有：送风口，设于壳体内并沿着凹面镜的凹面送风；设于送风路径的空气净化过滤器；排气孔，设置于设有承载台的底板上，沿着凹面镜的凹面将送来的空气排出至壳体外；空调装置，配置于壳体的外部，并通过管道与送风口连接，且将从送风口送风的空气的温度和湿度保持在一定范围。曝光装置在经由凹面镜而与送风口相对置的壳体内的壁面上具有导风板，其将沿凹面镜的凹面送来的空气引导至排气孔。
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公开(公告)号：CN100535754C
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200510076091.8
申请日：2005-05-31
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H05K3/06
Abstract: 本发明提供一种可进行有效且迅速的检查维护作业的并使用于曝光装置的掩模框架搬运装置。该掩模框架搬运装置在壳体内用于通过掩模在基板上进行基板与上述掩模的相面对位置的整合作业及曝光作业的曝光装置，并搬运掩模框架，掩模框架保持与承载上述基板的承载台相对配置的上述掩模，具备：支撑框架，支撑上述掩模框架；输送辊子，设于该支撑框架上，并且将上述掩模框架向预先设定的移动方向搬运；导引框架，具有调整为该输送辊子的搬运高度的导引辊子，沿着上述移动方向与上述支撑框架邻接设置；安装机构，将该导引框架收容于上述壳体的内侧，同时，安装成能够沿着上述移动方向朝上述壳体外侧自由伸出。
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公开(公告)号：CN1841202A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610066090.X
申请日：2006-03-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 一种曝光工作台，和能流畅地进行一系列作业且可提高基板品质的曝光装置，曝光工作台即使是较薄的基板也能够适当地吸附保持，且即使在基板周缘呈波浪状的状态下也能够进行保持，在基板的载置面因使用而磨损的情况下，也能以简单的结构进行更换等，保养作业性优良。该曝光工作台(7)包括：基板的载置板(8)；工作台主体(9)；设置在载置板上的多个吸附孔；连通通道，其形成于工作台主体并与吸附孔连通，吸附孔具有第一吸附孔(8a)和第二吸附孔(8b)，第二吸附孔形成为小于第一吸附孔的小孔(8b1)，并形成为将多个小孔相邻地集合起来的吸附孔群，吸附孔群沿着基板的周缘的纵边和横边的至少一方，按规定间隔配置在预先设定的位置上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1704848A
公开(公告)日：2005-12-07
申请号：CN200510073458.0
申请日：2005-05-30
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种曝光装置，防止由感光树脂层所挥发的挥发物质附着于凹面镜，从而可防止凹面镜的反射率降低。该曝光装置在壳体(5)内具有光源(10)、平面镜(21、23)、复眼透镜(22)、凹面镜(24)、掩模框架(31)以及承载台(30)，所述曝光装置还具有：送风口(40)，设于该壳体(5)内并沿着凹面镜的凹面送风；设于该送风路径的空气净化过滤器(42)；以及排气孔(60)，设置于设有承载台的底板上，沿着凹面镜的凹面将送来的空气排出至壳体(5)外。并且，曝光装置(1)在经由凹面镜而与送风口相对置的壳体(5)内的壁面上具有导风板(50)，其将沿凹面镜的凹面送来的空气引导至排气孔。
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公开(公告)号：CN100533274C
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200510075829.9
申请日：2005-05-27
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，用简易的结构防止因感光树脂产生的挥发物质造成复眼透镜表面的污染。所述曝光装置具备：具有光源、反射镜及复眼透镜的光源室；以及经由分隔板而与该光源室分隔的曝光室，具备：收容上述复眼透镜的壳体；以及送风装置，将冷却风送至收容于上述壳体内的复眼透镜；上述壳体具有：开口部，形成于来自上述光源的照射光与相对于上述复眼透镜的入射光路及射出光路对应的位置上；进气口，形成于与该开口部的开口方向正交的位置上，并连结上述送风装置；以及排气口，形成于与该进气口相向的位置上，从而在上述壳体内形成一直线状的送风路径；在上述分隔板上，在与上述照射光的光路对应的位置上，设有使上述照射光透过的透光部件。
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公开(公告)号：CN100487585C
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200610066090.X
申请日：2006-03-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 一种曝光工作台，和能流畅地进行一系列作业且可提高基板品质的曝光装置，曝光工作台即使是较薄的基板也能够适当地吸附保持，且即使在基板周缘呈波浪状的状态下也能够进行保持，在基板的载置面因使用而磨损的情况下，也能以简单的结构进行更换等，保养作业性优良。该曝光工作台(7)包括：基板的载置板(8)；工作台主体(9)；设置在载置板上的多个吸附孔；连通通道，其形成于工作台主体并与吸附孔连通，吸附孔具有第一吸附孔(8a)和第二吸附孔(8b)，第二吸附孔形成为小于第一吸附孔的小孔(8b1)，并形成为将多个小孔相邻地集合起来的吸附孔群，吸附孔群沿着基板的周缘的纵边和横边的至少一方，按规定间隔配置在预先设定的位置上。
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公开(公告)号：CN1704849A
公开(公告)日：2005-12-07
申请号：CN200510076091.8
申请日：2005-05-31
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H05K3/06
Abstract: 一种可进行有效且迅速的检查维护作业的并使用于曝光装置的掩模框架搬运装置。在用于对基板进行曝光作业的曝光装置的掩模框架搬运装置中，具有：支撑掩模框架(4)的支撑框架(3)；设于该支撑框架(3)并将掩模框架(4)向预先设定的移动方向搬运的输送辊子(5)；整合为该输送辊子(5)的搬运高度并与支撑框架(3)邻接设置的导引框架(8)；以及将该导引框架(8)收容于曝光装置的内侧，同时安装成能够沿移动方向朝装置外侧自由伸出的保护门(6)(安装机构)。
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公开(公告)号：CN1702556A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510075829.9
申请日：2005-05-27
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种曝光装置，用简易的结构防止因感光树脂产生的挥发物质造成复眼透镜表面的污染。在所述曝光装置(1)中，具备：具有光源(21)、反射镜(41)及复眼透镜(42)的光源室(2)；以及经由分隔板(6)而与光源室(2)分隔的曝光室，其特征为，具备：收纳上述复眼透镜(42)的壳体(7)；以及将冷却风送至收容于上述壳体(7)内的复眼透镜(42)的调温单元(51)。上述壳体(7)具有：开口部(71、72)，形成于光源(21)发出的照射光的与相对于复眼透镜(42)的入射光路及射出光路对应的位置上；进气口(73)，形成于与该开口部(71、72)的开口方向正交的位置上，并连结调温单元(51)；以及排气口(74)，形成于与该进气口(73)相向的位置上。在分隔板(6)上，在与上述照射光的光路对应的位置上，设有使上述照射光透过的透光部件(61)。
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