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公开(公告)号：CN205069579U
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201520762781.8
申请日：2015-09-29
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: H01J61/30
Abstract: 短弧型放电灯。本实用新型的课题在于提供短弧型放电灯，其是具有防止密封管破损的灯头的过渡玻璃密封结构。所述短弧型放电灯的特征在于包括：内部包括一对电极的发光管、连接设置在发光管的两端部的密封管、分别与电极连接的一对电极芯棒、供密封管的一部分插入的有底筒状的灯头、以及密封管支撑部件，密封管支撑部件被配设在径向上的灯头的管状部与密封管之间的至少一部分处，在径向上支撑密封管，借助过渡玻璃将密封管与电极芯棒封接，其中，在径向上的密封管支撑部件与密封管之间的至少一部分处具有以碳为主成分的管状部件，所述管状部件抑制沿灯轴方向的应力从密封管支撑部件施加到密封管。
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公开(公告)号：CN119517730A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202410219238.7
申请日：2024-02-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供短弧型放电灯和短弧型放电灯的制造方法。在将金属箔密封于密封管的短弧型放电灯中，抑制金属箔的箔剥离。短弧型放电灯(10)在连接设置于放电管(12)的两侧的密封管(13A、13B)中封入有安装部件。在密封管(13A)形成有金属膜(40)。金属膜(40)通过金属线(50)而与设置于密封管(13A)的接头(19A)电连接。并且，铂(60)缠绕于金属线(50)。
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公开(公告)号：CN119439660A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202311399688.0
申请日：2023-10-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 三好久司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提供基板的对准方法。在曝光装置等中，对于提高了安装密度的多重图案基板，也高精度地进行对准。在曝光装置(10)中，能够在基板(W)上，在各单片基板区域(CS)的间隙(切割空间，SM)的设置于单片基板区域四角附近的空间(SS)中形成集合对准标记(L、L’、LL)，该集合对准标记(L、L’、LL)由呈十字状或L字状排列的点状标记(M)或者以包围各单片基板区域(CS)的方式排列的点状标记M构成。
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公开(公告)号：CN119368948A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202311395372.4
申请日：2023-10-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 清水大志
Abstract: 本发明提供激光加工装置和激光加工装置的投影光学系统。在使线状光束扫描的激光加工装置中，相对于基板等被加工物的伸缩，适当地对投影像进行校正。激光加工装置(100)具有单向变倍光学单元(32)，该单向变倍光学单元(32)由将凸型柱面透镜和凹型柱面透镜以凹凸面对置的方式配置的1组透镜构成，单向变倍光学单元(32)配置为其母线(BM)沿着线状光束(LB)的扫描方向。能够通过调整凸型柱面透镜与凹型柱面透镜的沿着光轴(C)的距离间隔(T)而沿着一个方向的Y轴对投影光学系统(30)的投影倍率进行校正，能够将投影像缩小或放大。
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公开(公告)号：CN119340196A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202311405663.7
申请日：2023-10-26
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供准分子灯。在线照射型准分子灯中，将从放电管内放射的紫外线等光高效地朝向照射对象物照射。准分子灯(10)的放电管(20)的外表面(20S)被外侧电极(40)覆盖，将未被外侧电极(40)覆盖的外表面部分构成为光透过用的窗(20W)。箔电极(30)形成有朝向宽度方向两端(E1、E2)尖锐化的楔形形状部(34A、34B)，一端(E2)与外侧电极(40)对置，一端(E1)与窗(20W)对置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118692893A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202311155897.0
申请日：2023-09-08
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供准分子灯，在双重管型的准分子灯中，具备提高紫外线照射效率并且稳定地支承内侧管的放电容器。在将外侧管(20)与内侧管(30)熔接而构成放电容器(15)的准分子灯(10)中，内侧管(30)具有：小径部(32)，其覆盖箔状的内侧电极(40)；以及大径部(34)，其形成有作为与外侧管(20)的熔接部分的凸缘状的扩径部(31)，小径部(32)和大径部(34)形成为在放电空间(S)内一体地相连。
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公开(公告)号：CN118689042A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202311167446.9
申请日：2023-09-11
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置用曝光头、曝光装置以及曝光方法。在具有DMD等光调制元件阵列的曝光装置中，提供适应图案的高分辨率化的分割光学系统。曝光装置(10)具有曝光头(20)，曝光头(20)具有DMD(22)和投影光学系统(25)，该投影光学系统(25)包含第1成像光学系统(30)、分割光学系统(40)、第2成像光学系统(50)。分割光学系统(40)将由位于第1成像光学系统(30)的成像面的入射面所分割出的图案像投影于不同的扫描带区域(B1～B3)。并且，分支光学系统(42)构成为使得各分割图案像的从成像面到投影区域(TA1～TA3)的光路长度相互相等。
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公开(公告)号：CN113448176B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202011470253.7
申请日：2020-12-15
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光方法。在曝光装置中，平滑地形成图案倾斜线。在曝光装置(10)中，矢量数据处理电路(40)将轮廓(BD0)的矢量数据变换为向±X方向(轮廓线外侧和/或在轮廓线内侧方向)移位后的轮廓线校正矢量数据(BD+)，并通过交替使用原始轮廓线矢量数据(BD0)和轮廓线校正矢量数据(BD+)来执行多重曝光动作。
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公开(公告)号：CN117806127A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202310402789.2
申请日：2023-04-14
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 长谷川祐哉
Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光装置的焦点检测方法。在曝光装置中，维持焦点检测精度并且迅速地进行焦点检测。曝光装置(10)在工作台(12)的端部附近具有测定部(40)，测定部(40)具有遮光部(41)和受光部(42)。遮光部(41)具有形成有多个透光部(50)的遮光面(41S)，遮光面(41S)相对于与投影光学系统(23)的光轴(C)垂直的方向倾斜了倾斜角度(θ)。在焦点检测时，一边使工作台(12)移动一边将图案光(FP)投影于测定部(40)的遮光面(41S)，根据从受光部(42)输出的光量信号而取得成像位置，以及进行焦点调整。
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公开(公告)号：CN116060797A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202211082532.5
申请日：2022-09-06
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供照明光学系统和激光加工装置。能够防止光学元件成为高温，并且能够防止光路长度变长、装置大型化。一种照明光学系统，其将激光向照射面引导，其中，所述照明光学系统具有光量均匀化部，该光量均匀化部使激光均匀，光量均匀化部具有沿着光轴依次排列的第1透镜阵列、第2透镜阵列以及第3透镜阵列，在比第1透镜阵列的焦点靠后的位置设置有第2透镜阵列，使得在第2透镜阵列之后，在到照射面之间的光路上不存在会聚点，第1透镜阵列和第3透镜阵列具有正光焦度，第2透镜阵列具有负光焦度。
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