公开(公告)号：CN1297834C

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN200410045545.0

申请日：2004-05-28

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 李

IPC: G02B15/16 ,  G02B13/22 ,  G02B17/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G02B27/0043

Abstract: 一种投影曝光装置的投影光学系统，用于在印刷电路板及LCD基板等的工件上进行规定图案的曝光。投影光学系统(1)包括：反射体(4)，设有改变投影光的行进方向的第一反射面(4a)及第二反射面(4b)；入射侧凸透镜(2)，使所述投影光折射通过，并将其引导向所述反射体的第一反射面；出射侧凸透镜(3)，使从所述反射体的第二反射面反射的所述投影光射出；以及支撑移动机构(8)，将所述两凸透镜支撑为相距规定的距离的同轴状态，并使其能够相对光轴方向进行平行移动；反射修正光学系(7)，将第一反射面所反射的投影光反射到第二反射面，所述反射修正光学系具有凹面反射镜(6)以及修正光学系(5)。以此，当进行倍率调整时，减小图案的变形，保证成像的质量。

公开(公告)号：CN1573405A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410045545.0

申请日：2004-05-28

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 李

IPC: G02B15/16 ,  G02B13/22 ,  G02B17/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G02B27/0043

Abstract: 一种投影曝光装置的投影光学系统，用于在印刷电路板及LCD基板等的工件上进行规定图案的曝光。投影光学系统(1)包括：反射体(4)，设有改变投影光的行进方向的第一反射面(4a)及第二反射面(4b)；入射侧凸透镜(2)，使所述投影光折射通过，并将其引导向所述反射体的第一反射面；出射侧凸透镜(3)，使从所述反射体的第二反射面反射的所述投影光射出；以及支撑移动机构(8)，将所述两凸透镜支撑为相距规定的距离的同轴状态，并使其能够相对光轴方向进行平行移动；反射修正光学系(7)，将第一反射面所反射的投影光反射到第二反射面，，所述反射修正光学系具有凹面反射镜(6)以及修正光学系(5)。以此，当进行倍率调整时，减小图案的变形，保证成像的质量。