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发明公开
激光加工装置和激光加工装置的投影光学系统审中-公开

公开(公告)号：CN119368948A

公开(公告)日：2025-01-28

申请号：CN202311395372.4

申请日：2023-10-25

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 清水大志

IPC: B23K26/70 , G02B15/14

Abstract: 本发明提供激光加工装置和激光加工装置的投影光学系统。在使线状光束扫描的激光加工装置中，相对于基板等被加工物的伸缩，适当地对投影像进行校正。激光加工装置(100)具有单向变倍光学单元(32)，该单向变倍光学单元(32)由将凸型柱面透镜和凹型柱面透镜以凹凸面对置的方式配置的1组透镜构成，单向变倍光学单元(32)配置为其母线(BM)沿着线状光束(LB)的扫描方向。能够通过调整凸型柱面透镜与凹型柱面透镜的沿着光轴(C)的距离间隔(T)而沿着一个方向的Y轴对投影光学系统(30)的投影倍率进行校正，能够将投影像缩小或放大。

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