公开(公告)号：CN114023701A

公开(公告)日：2022-02-08

申请号：CN202111356635.1

申请日：2021-11-16

申请人： 武汉京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 盛子沫 ,  殷蝶 ,  刘信 ,  郭坤 ,  程石 ,  杨志 ,  王静 ,  谢斌 ,  闵慧 ,  冯俊 ,  高翔宇

IPC分类号： H01L21/77 ,  H01L27/12 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/1368

摘要： 本发明公开一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，该阵列基板的制备方法包括：在基底的一侧依次层叠形成栅金属层、栅绝缘层、有源层、源漏金属层以及包括过孔的钝化层，栅金属层包括栅线和薄膜晶体管的栅极，源漏金属层包括薄膜晶体管的源漏极和数据线；钝化层远离基板一侧的表面包括第一部分、第二部分以及除第一部分和第二部分之外的第三部分，第一部分在基底上的正投影与栅线在基底上的正投影重合，第二部分在基底上的正投影与数据线在基底上的正投影重合，第一部分的边沿与第三部分的边沿之间的段差以及第二部分的边沿与第三部分的边沿之间的段差均小于预设阈值。