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公开(公告)号：CN117760608A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202311643015.5
申请日：2023-11-30
申请人： 武汉颐光科技有限公司
摘要： 本发明提供一种微光斑透镜应力测量方法，包括：分别获取两片左臂微光斑透镜和两片右臂微光斑透镜，通过组合得到三组微光斑透镜组，每一组微光斑透镜组包括一片左臂微光斑透镜和一片右微光斑透镜；依次在直通式双旋转穆勒矩阵椭偏仪上安装每一组微光斑透镜组，并通过旋转每一组微光斑透镜组中右臂微光斑透镜，分别获取相位延迟量最大值和相位延迟量最小值；基于三组微光斑透镜组分别获取的相位延迟量最大值和相位延迟量最小值，计算两片左臂微光斑透镜和两片右臂微光斑透镜各自的相位延迟量。本发明可利用直通式双旋转穆勒矩阵椭偏仪测量透镜的应力，通过旋转椭偏仪右臂透镜找到所测应力的最大值和最小值，解析计算出单片透镜的应力值大小。
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公开(公告)号：CN117269069A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311222985.8
申请日：2023-09-19
申请人： 武汉颐光科技有限公司
摘要： 本发明提供一种零级波片特征参数测量方法，包括：根据样件的测量穆勒矩阵，计算复合波片模型的第一个波长点特征参数初始值，基于复合波片模型进行逐波长迭代，得到全波段下复合波片特征参数；选取特定波长范围内的方位角，加权平均得到零级波片模型的固定方位角；以全波段下的每一个波长点的复合波片特征参数中的二向色衰减角和相位延迟量为初始值与样件的测量穆勒矩阵，基于零级波片模型进行逐波长迭代，得到全波段下的每一个波长点的零级波片特征参数。本发明通过复合波片模型计算零级波片的各个特征参数，再选取一波长范围内的方位角进行加权平均作为零级波片模型的固定值，然后通过零级波片模型与样件的穆勒矩阵得到样件的其他特征参数。
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公开(公告)号：CN116182720A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202211575088.0
申请日：2022-12-08
申请人： 武汉颐光科技有限公司
IPC分类号： G01B11/06
摘要： 本发明提供一种基于波长校准的样件厚度测量方法，椭偏系统通过逐波长校准的方式获得样品所需信息，但光谱仪波长标定存在偏差，使用光谱仪获取的光强信号与标定的波长非一一对应，波长的偏差通过校准过程全传递给样件厚度，影响最终的测量结果。本发明通过逐波长校准方式修正光强信号中的波长，并获取校准后的系统参数等信息，最终提升整个椭偏系统参数的校准精度以及样件厚度的测量精度。
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公开(公告)号：CN115753628A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211352578.4
申请日：2022-10-31
申请人： 武汉颐光科技有限公司
摘要： 本发明提供一种光学测量系统全局校准方法，针对复合波片可能存在的正反装，设计了各种不同安装方式的系统模型，并通过不同系统模型的迭代求解出正确的全局系统参数以及光学测量系统的当前安装方式，进而能够迭代求解出待测样件的参数，对于存在波片反装的情况，也能实现光学测量系统参数的全局校准，增加了光学测量系统的全局校准的鲁棒性。
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公开(公告)号：CN115711856B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202211328627.0
申请日：2022-10-27
申请人： 武汉颐光科技有限公司
摘要： 本发明提供一种椭偏测量光斑尺寸指标计算方法及计算系统，计算方法包括：获取测量样件微区内部和微区外部的膜层结构以及微区内部关键参数准确度指标；建立微区内部膜层的物理模型，计算微区内部理论光谱和微区内部关键参数准确度指标对应的光谱误差；建立微区外部膜层的物理模型，计算微区外部理论光谱；基于微区内部理论光谱和微区外部理论光谱，建立微区测量物理模型，计算微区理论光谱；基于微区理论光谱、微区内部理论光谱和微区内部关键参数准确度指标对应的光谱误差，计算光斑落在微区内部的比例系数。本发明能够根据微区内部关键参数准确度指标，给出落在微区内部的光斑比例系数的指标，为几何光路系统设计提供指导与约束。
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公开(公告)号：CN117889759A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202311716165.4
申请日：2023-12-13
申请人： 武汉颐光科技有限公司
IPC分类号： G01B11/06
摘要： 本发明提供一种基于测量设备的波长校准与测量方法，包括：获取待测样件的全波段光强信息，处理获得每一个波长对应的实测傅里叶系数；根据每一个波长的实测傅里叶系数和理论傅里叶系数，拟合迭代出各个波长对应的第一系统参数、样件厚度和入射角；通过特定函数拟合迭代出全局样件厚度和全局入射角；固定全局样件厚度和全局入射角，再次拟合迭代出各个波长对应的第二系统参数；根据每一个波长对应的实测傅里叶系数和第二系统参数，计算待测样件的全波段光谱穆勒矩阵。本发明通过迭代拟合的方式得到全局样件厚度和全局入射角等不随波长改变的参数，再对其它的参数进行校准，相比现有的根据经验确定全局样件厚度和全局入射角，更为准确。
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公开(公告)号：CN117760979A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202311578083.8
申请日：2023-11-22
申请人： 武汉颐光科技有限公司
摘要： 本发明提供一种高精度穆勒矩阵椭偏仪的控制方法和装置，通过控制器控制椭偏仪的两个电机运行到设定转速后，获取两个电机的实时位置和待测样件的光强信号，并计算两个电机原点之间的夹角θ1同步值，对系统进行校准；当椭偏仪的系统参数调整后，再次计算两个电机原点之间的夹角θ2同步值，根据两次的夹角值，可计算第二补偿器安装方位角的差值，进而根据校准的第二补偿器的安装方位角，得到系统参数调整后的第二补偿器的安装方位角，对系统参数进行修正补偿。在实际生产环节中，为了将不同椭偏仪进行匹配调试，需要反复进行系统参数修正补偿，通过本控制方法，可以减少反复对椭偏仪进行校准动作，明显增强了设备的适应性。
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公开(公告)号：CN116481649A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310264605.0
申请日：2023-03-14
申请人： 武汉颐光科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种单旋转椭偏系统的校准方法、系统、设备及存储介质，所述方法包括：分别确定标准样件在双旋转椭偏系统下和单旋转椭偏系统下对应的双旋转椭偏系统参数和单旋转椭偏系统参数；根据双旋转椭偏系统参数对单旋转椭偏系统参数进行调整，获得单旋转椭偏系统修正参数；基于单旋转椭偏系统修正参数对单旋转椭偏系统进行校准。相较于现有技术中由于电机的自身速度上限以及两个电机的转速比要求，导致测量速度以慢速电机为准，而本发明根据双旋转椭偏系统参数对单旋转椭偏系统参数进行调整，获得校准后的单旋转椭偏系统，之后从双旋转椭偏系统切换成单旋转椭偏系统，并将旋转电机进行提速，从而使单次测量时间大幅缩短，进而提高测量速度。
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公开(公告)号：CN116124742A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202211702725.6
申请日：2022-12-28
申请人： 武汉颐光科技有限公司
IPC分类号： G01N21/55
摘要： 本发明涉及一种偏振反射率测量方法及装置，包括利用椭偏仪针对一参考样件进行测量，采集光强信号，并进行椭偏仪系统校准，得到校准后的系统参数与参考样件膜厚；利用校准后的系统参数和所述光强信号，计算得到参考样件的测量穆勒矩阵；利用校准后的系统参数和参考样件膜厚，仿真得到参考样件的反射率；根据参考样件的测量穆勒矩阵和参考样件的反射率，计算得到等效光源光强；针对任意待测样件，利用椭偏仪采集光强信号，并利用校准后的系统参数计算得到待测样件的测量穆勒矩阵；利用等效光源光强和待测样件的测量穆勒矩阵，计算得到待测样件偏振反射率。
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公开(公告)号：CN117128875A
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202311220188.6
申请日：2023-09-20
申请人： 武汉颐光科技有限公司
摘要： 本发明提供一种基于波长修正的光学散射测量方法，包括：获取一组待提取结构参数的原始测量光谱SP和对应的形貌结构；通过调整形貌结构中的浮动结构参数和修正公式的参数对波长点序列进行修正，并基于LM非线性回归方法，在该方法的每一次迭代中，计算正向建模光谱，将建模光谱和测量光谱对比，通过不断迭代调整浮动结构参数和修正公式参数，直到建模光谱和测量光谱接近匹配，获取从原始测量光谱SP中提取到的结构参数。本发明对波长点进行修正，很好地解决了实际测量光谱中波长点不稳定因而造成实际结构参数提取时拟合较差的问题。
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