一种单宁酸-钴络合物修饰的NixP/CuO/NiO光电阴极及制备方法

    公开(公告)号:CN112458493B

    公开(公告)日:2021-10-29

    申请号:CN202011398889.5

    申请日:2020-12-02

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 本发明公开了一种单宁酸‑钴络合物修饰的NixP/CuO/NiO光电阴极及制备方法,属于材料科学技术和化学领域。本发明所述的制备单宁酸‑钴络合物修饰的NixP/CuO/NiO光电阴极的方法包括如下步骤:通过水热合成法将NiO薄膜沉积到FTO导电玻璃上、通过空气热氧化法制备CuO/NiO电极、采用光化学方法制备NixP/CuO/NiO电极、将NixP/CuO/NiO电极浸入CoCl2溶液10‑20min后取出,洗涤;再浸入单宁酸溶液中,调节pH为9‑10,反应0.5‑1.5h;反应结束后洗涤、干燥,得到单宁酸‑钴络合物修饰的NixP/CuO/NiO光电阴极。本发明所述的单宁酸‑钴络合物修饰的NixP/CuO/NiO光电阴极的产氢效率高,可以达到1.77μmol/h以上;稳定性良好,在测试长达8000s时,该电极的光电流密度仅比初始值略有下降。

    一种单宁酸-钴络合物修饰的NixP/CuO/NiO光电阴极及制备方法

    公开(公告)号:CN112458493A

    公开(公告)日:2021-03-09

    申请号:CN202011398889.5

    申请日:2020-12-02

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 本发明公开了一种单宁酸‑钴络合物修饰的NixP/CuO/NiO光电阴极及制备方法,属于材料科学技术和化学领域。本发明所述的制备单宁酸‑钴络合物修饰的NixP/CuO/NiO光电阴极的方法包括如下步骤:通过水热合成法将NiO薄膜沉积到FTO导电玻璃上、通过空气热氧化法制备CuO/NiO电极、采用光化学方法制备NixP/CuO/NiO电极、将NixP/CuO/NiO电极浸入CoCl2溶液10‑20min后取出,洗涤;再浸入单宁酸溶液中,调节pH为9‑10,反应0.5‑1.5h;反应结束后洗涤、干燥,得到单宁酸‑钴络合物修饰的NixP/CuO/NiO光电阴极。本发明所述的单宁酸‑钴络合物修饰的NixP/CuO/NiO光电阴极的产氢效率高,可以达到1.77μmol/h以上;稳定性良好,在测试长达8000s时,该电极的光电流密度仅比初始值略有下降。

    一种NiS/CuInS2/BiOCl电极及其制备方法

    公开(公告)号:CN112430826A

    公开(公告)日:2021-03-02

    申请号:CN202011387679.6

    申请日:2020-12-01

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 本发明公开了一种NiS/CuInS2/BiOCl电极及其制备方法,属于材料科学技术和化学领域。本发明所述的制备NiS/CuInS2/BiOCl电极的方法,包括如下步骤:在反应容器中将CuInS2/BiOCl电极固定,之后在反应容器中加入硫脲、醋酸镍和乙醇的混合水溶液,氮气脱气;脱气完成之后,置于氙灯下光照;光照之后洗涤、干燥,得到NiS/CuInS2/BiOCl电极。本发明的NiS/CuInS2/BiOCl电极的光催化活性高,可以用于光催化分解水产氢反应,反应1h后其产氢速率达到0.048μmol/h以上。

Patent Agency Ranking