一种碳化硅外延化学气相沉积系统的真空腔室

    公开(公告)号:CN115613131B

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN202211265450.4

    申请日:2022-10-17

    IPC分类号: C30B25/08 C30B29/36 C23C16/44

    摘要: 本发明公开了一种碳化硅外延化学气相沉积系统的真空腔室,涉及碳化硅外延片加工领域,解决了现有真空腔室不能对外延片多个尺寸通用加工的问题,包括包括安装于外延炉内部的外延炉内部密封板,外延炉内部密封板的下方安装有底托,且底托的下端安装有可使底托轴向位移的移动装置,本发明通过电动推杆对滑槽板的推动,可使四组立柱带着封闭板进行收缩,从而降低真空腔室的底面积,在收缩的过程中通过双向调节组件和传动组件的作用,可带动异向螺纹杆进行转动,其在转动过程中可触动推动组件一或推动组件二,将封闭框体一或封闭框体二下沉,对真空腔室的空间高度缩短,从而实现对真空腔室内部的空间缩放调节。

    一种印制电子喷印机缓冲式恒温连续供墨装置

    公开(公告)号:CN108724954A

    公开(公告)日:2018-11-02

    申请号:CN201810516241.X

    申请日:2018-05-25

    IPC分类号: B41J2/175

    CPC分类号: B41J2/17503 B41J2/17563

    摘要: 本发明属于喷墨印制电路技术领域,具体涉及一种印制电子喷印机缓冲式恒温连续供墨装置,包括依次连通的供墨机构、加热机构、恒温机构以及喷嘴机构;供墨机构包括外接墨盒与墨盒基座;墨盒基座的中间位置设有供墨口;加热机构包括加热墨箱、上水位探头与下水位探头、温度探头与加热器;加热墨箱的中间位置设有进墨口;进墨口连通于供墨口;恒温机构包括恒温墨箱、叶轮与电机;加热墨箱连通于恒温墨箱,用于向恒温墨箱供墨;叶轮设于恒温墨箱的底部,电机设于恒温墨箱的下方,电机传动连接于叶轮;喷嘴机构包括喷头板以及连通于喷头板的若干个喷嘴。其能改善现有技术中喷墨系统的不足,可有效解决因温度过低,喷印时出现断路、堵塞的现象。

    一种碳化硅外延化学气相沉积系统的真空腔室

    公开(公告)号:CN115613131A

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN202211265450.4

    申请日:2022-10-17

    IPC分类号: C30B25/08 C30B29/36 C23C16/44

    摘要: 本发明公开了一种碳化硅外延化学气相沉积系统的真空腔室,涉及碳化硅外延片加工领域,解决了现有真空腔室不能对外延片多个尺寸通用加工的问题,包括包括安装于外延炉内部的外延炉内部密封板,外延炉内部密封板的下方安装有底托,且底托的下端安装有可使底托轴向位移的移动装置,本发明通过电动推杆对滑槽板的推动,可使四组立柱带着封闭板进行收缩,从而降低真空腔室的底面积,在收缩的过程中通过双向调节组件和传动组件的作用,可带动异向螺纹杆进行转动,其在转动过程中可触动推动组件一或推动组件二,将封闭框体一或封闭框体二下沉,对真空腔室的空间高度缩短,从而实现对真空腔室内部的空间缩放调节。

    一种碳化硅外延化学气相沉积系统高温水循环冷却机构

    公开(公告)号:CN115652418A

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202211265499.X

    申请日:2022-10-17

    摘要: 本发明公开了一种碳化硅外延化学气相沉积系统高温水循环冷却机构,涉及水循环冷却技术领域,解决了化学气相沉积反应箱内冷却效率低的问题,包括安装于反应箱内壁的四个石墨管,石墨管为弯曲形状,且两端均固定贯穿反应箱底部,滑动插接于反应箱底部的支撑管,支撑管的顶部固定载台,且支撑管的外侧安装有与反应箱底部内壁固定的加热板,本发明通过优化现有反应箱,在其内壁安装石墨管,并在其底部设计流速调节装置能够对其内部气压进行调节,能够缓冲冷却水进入后蒸发产生的较大的气压,同时配合转动组件带动缓冲管内活塞板的主动移动,从而加速对石墨管内部水的流速提高水循环降温的效果。

    一种PCB板翘曲在线检测自动调节装置及调节方法

    公开(公告)号:CN108981600B

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201810360717.5

    申请日:2018-04-20

    IPC分类号: G01B11/16

    摘要: 本发明提供了一种PCB板翘曲在线检测自动调节装置及调节方法,装置包括PCB板、调节机构与检测机构;调节机构包括工作台、计算机,设于工作台中的吸盘、气泵、压力传感器、以及多通道控制器;检测机构包括第一导轨、第二导轨、激光发射器、PLC系统、与工业摄像机;第一导轨与第二导轨平行设置,并位于同一平面上;工业摄像机能拍摄激光发射器的激光射线,并将拍摄的信息传递至计算机;能够实现PCB板在工作台上被快速检测后进行校正打印,避免因PCB板翘曲导致喷墨打印时线路出现弯曲、断线、分辨率低等缺陷,有效降低了废品率。

    一种碳化硅外延化学气相沉积系统高温水循环冷却机构

    公开(公告)号:CN115652418B

    公开(公告)日:2023-11-14

    申请号:CN202211265499.X

    申请日:2022-10-17

    摘要: 本发明公开了一种碳化硅外延化学气相沉积系统高温水循环冷却机构,涉及水循环冷却技术领域,解决了化学气相沉积反应箱内冷却效率低的问题,包括安装于反应箱内壁的四个石墨管,石墨管为弯曲形状,且两端均固定贯穿反应箱底部,滑动插接于反应箱底部的支撑管,支撑管的顶部固定载台,且支撑管的外侧安装有与反应箱底部内壁固定的加热板,本发明通过优化现有反应箱,在其内壁安装石墨管,并在其底部设计流速调节装置能够对其内部气压进行调节,能够缓冲冷却水进入后蒸发产生的较大的气压,同时配合转动组件带动缓冲管内活塞板的主动移动,从而加速对石墨管内部水的流速提高水循环降温的效果。

    一种石英管水管连接密封组件
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115750974A

    公开(公告)日:2023-03-07

    申请号:CN202211353239.8

    申请日:2022-11-01

    IPC分类号: F16L49/00 F16L49/02 F16L59/18

    摘要: 本发明公开了一种石英管水管连接密封组件,涉及石英水管连接密封领域,解决了现有即热水器中的石英水管在安装时容易破碎的问题,包括底座和顶座,底座和顶座的内部均开设有容纳孔,底座的下端安装有进水口和出水口,且进水口和出水口与分布于底座内部的容纳孔连通,本发明通过安装机构和调节机构的配合,可直接将石英水管安装在底座和顶座之间,且安装的过程中可通过观察连接板和指数板的位置关系,避免石英水管承受超限度的压迫力,便可实现在有效安装的情况下保证石英水管不会破损,同时在底座和顶座靠近过程中,可通过注液组件和触动组件将压力液输送至环形胶套的内部,使其膨胀对石英水管的外周进行密封处理,无需后期人工打胶密封。

    一种PCB板翘曲在线检测自动调节装置及调节方法

    公开(公告)号:CN108981600A

    公开(公告)日:2018-12-11

    申请号:CN201810360717.5

    申请日:2018-04-20

    IPC分类号: G01B11/16

    摘要: 本发明提供了一种PCB板翘曲在线检测自动调节装置及调节方法,装置包括PCB板、调节机构与检测机构;调节机构包括工作台、计算机,设于工作台中的吸盘、气泵、压力传感器、以及多通道控制器;检测机构包括第一导轨、第二导轨、激光发射器、PLC系统、与工业摄像机;第一导轨与第二导轨平行设置,并位于同一平面上;工业摄像机能拍摄激光发射器的激光射线,并将拍摄的信息传递至计算机;能够实现PCB板在工作台上被快速检测后进行校正打印,避免因PCB板翘曲导致喷墨打印时线路出现弯曲、断线、分辨率低等缺陷,有效降低了废品率。