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公开(公告)号：CN117468056A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311556657.1
申请日：2023-11-21
申请人： 江西铜博科技股份有限公司 , 深圳诺好有方工业智能有限公司
IPC分类号： C25D1/04
摘要： 本申请的铜箔生产装置包括：用于容纳硫酸铜电解液的阳极槽；阴极辊，所述阴极辊的下部置于所述阳极槽内，所述阴极辊包括分别开设于两个端部的O型圈槽；用于为O型圈提供张力的提升机构，所述提升机构包括设于所述阳极槽的固定部、与固定部连接的伸缩调节部以及分别与所述伸缩调节部和所述O型圈连接的调节轮；设于所述阳极槽的导向机构，所述导向机构包括分别设于所述O型圈槽两端的两个第一导向部以及设于所述两个第一导向部之间的第二导向部；通过上述方式，提升机构可以通过伸缩调节部的伸缩改变O型圈的张力，当O型圈随着使用时间的延长产生一定形变时，张力变小，可以通过提升机构增大张力，保持O型圈传动效果的稳定以提高电解铜箔质量。
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公开(公告)号：CN117051446A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311073743.7
申请日：2023-08-24
申请人： 江西铜博科技股份有限公司
IPC分类号： C25D1/04
摘要： 本申请实施例提供的用于生成电解铜箔的添加剂以及电解铜箔的制备方法，用于制备厚度为6μm的电解铜箔，添加剂包括11.5～12.5质量份的整平剂、22～26质量份的光亮剂、0.15～0.25质量份的高抗剂以及3.5～4.5质量份的润湿剂；所述整平剂包括胶原蛋白和聚乙二醇，所述光亮剂包括聚二硫二丙烷磺酸钠，所述高抗剂包括硫脲，所述润湿剂包括多元醇聚氧乙烯醚；通过上述方式，对添加剂的组分及各组分的配比进行了改进，采用上述添加剂电解得到的6μm的电解铜箔同时具有良好的抗拉强度和延伸率。
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公开(公告)号：CN118028912A
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202311833425.6
申请日：2023-12-28
申请人： 江西铜博科技股份有限公司 , 深圳诺好有方工业智能有限公司
IPC分类号： C25D1/04 , C25D3/38 , H01M4/66 , H01M10/0525
摘要： 本申请涉及电解铜箔技术领域，尤其涉及一种电解铜箔防撕边生产方法及锂离子电池用电解铜箔。本申请的电解铜箔防撕边生产方法，包括：在硫酸铜溶液中加入添加剂，得到硫酸铜电解液；在阳极板和阴极辊之间供给硫酸铜电解液，并在阳极板和阴极辊之间施加电压，对硫酸铜溶液进行电解，以在阴极辊表面形成电解铜箔；其中，在阴极棍旋转过程中，在阴极辊的两个边部分别滴加第一氧化溶液，以在与阴极辊的两个边部表面形成第一氧化层；通过上述方式，在阴极辊的两个边部形成氧化层，大大减少铜离子在阴极辊的边部沉积，使铜离子集中在阴极辊两个边部之间的中间区域沉积，避免形成延伸率和抗拉强度均不佳的边部，防止电解铜箔在与阴极辊剥离时出现撕边。
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公开(公告)号：CN117051448A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311078356.2
申请日：2023-08-24
申请人： 江西铜博科技股份有限公司
IPC分类号： C25D1/04
摘要： 本申请实施例提供的电解铜箔的制备方法、电解铜箔及锂离子电池负极材料，第二电解液中的添加剂包括12～14质量份的整平剂、26～28质量份的光亮剂、0.2～0.4质量份的高抗剂以及4～6质量份的润湿剂；所述整平剂包括胶原蛋白和聚乙二醇，所述光亮剂包括聚二硫二丙烷磺酸钠，所述高抗剂包括硫脲，所述润湿剂包括多元醇聚氧乙烯醚；通过上述方式，对添加剂的组分及各组分的配比进行了改进，采用上述第二电解液电解得到的5μm的电解铜箔同时具有良好的抗拉强度和延伸率。
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公开(公告)号：CN118007087A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202311833332.3
申请日：2023-12-28
申请人： 江西铜博科技股份有限公司 , 深圳诺好有方工业智能有限公司
摘要： 本申请涉及复合铜箔技术领域，尤其涉及一种复合铜箔生产设备及生产方法，生产设备包括：旋转卷绕组件、蒸发镀膜组件、溅射镀膜组件以及导轨组件，旋转卷绕组件包括固定板、固定架、第一滑块机构以及分别设于固定架上的第一收放卷机构、镀膜卷绕机构以及第二收放卷机构；蒸发镀膜组件包括第一真空容器、蒸发源机构以及第二滑块机构；溅射镀膜组件包括第二真空容器、溅射源机构以及第三滑块机构；通过上述方式，旋转卷绕组件与蒸发镀膜组件组合时形成蒸发镀膜装置，旋转卷绕组件与溅射镀膜组件组合时形成磁控溅射镀膜装置，蒸发镀膜的卷绕方向和磁控溅射的卷绕方向相反，在切换过程中无需对有机薄膜层卷进行安装，有利于提高生产效率及镀铜质量。
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公开(公告)号：CN117552057A
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202311358427.4
申请日：2023-10-19
申请人： 江西铜博科技股份有限公司 , 深圳诺好有方工业智能有限公司
IPC分类号： C25D1/04
摘要： 本申请提供的电解铜箔制备装置，包括溶铜装置、电解装置以及挤水装置，电解装置用于形成电解铜箔；挤水装置包括用于对电解铜箔进行挤水的挤水棍机构以及用于对电解铜箔进行干燥的风干机构，风干机构包括具有输入腔的主体部以及具有加速腔的风干部，输入腔与加速腔连通，主体部包括用于供风干气流进入的进风口，风干部包括向电解铜箔输出风干气流的出风口，加速腔的第一截面沿从靠近输入腔的一端到出风口所在的一端的方向内径逐渐变小，第一截面与所述风干部的长度方向垂直，出风口沿所述风干部的长度方向延伸；通过上述方式，出风更均匀，同时能够对进入挤水装置的风干气流进行加速，去除残留的硫酸铜电解液的效果较好，有利于生产效率的提高。
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公开(公告)号：CN115285746B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202210870939.8
申请日：2022-07-22
申请人： 江西铜博科技股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种铜箔消应力收卷装置及方法，其中工作槽内盛有工作液，工作槽两侧侧壁分别装有相同数量的换能器，工作槽槽内设有多个横向并列设置的下导辊，并浸没于工作液中，下导辊上方设有多个横向并列设置的上导辊，多个上导辊组成横向阵列的一端设有一个收卷辊，收卷辊与相邻的上导辊之间设有干燥器。通过下导辊、上导辊分别在工作槽内、外并列分布，令铜箔在槽体中呈现多列竖向布置的S形路径，并以两侧换能器共同朝向槽内输出并合成超声驻波，通过下导辊间距设置令每列竖向铜箔箔体均处于超声驻波的波腹位置，在超声去应力作用下充分消除铜箔各段残余应力并防止出现翘曲缺陷，保障铜箔及动力电池的优良性能品质。
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公开(公告)号：CN118407095A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202410774465.6
申请日：2024-06-17
申请人： 江西铜博科技股份有限公司 , 江西理工大学
摘要： 本发明公开了一种高强超薄电解铜箔材料用稀土Ce离子改性添加剂，所述添加剂中各组分的浓度为：硫酸铈0.2～1.0 mg/L、木糖醇络合剂5～10 mg/L、聚乙二醇2.0～4.0 mg/L、甲基紫1.5～4.5 mg/L、骨胶3.5～6.5 mg/L、胶原蛋白15～20 mg/L、盐酸30～40 mg/L。采用本发明的添加剂显著改善了电解制备的铜箔的抗氧化性能，使高强超薄电解铜箔材料在140℃下烘烤15min无氧化变色。
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公开(公告)号：CN118007200A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202311833610.5
申请日：2023-12-28
申请人： 江西铜博科技股份有限公司 , 深圳诺好有方工业智能有限公司
摘要： 本申请涉及铜箔制备技术领域，尤其涉及一种铜箔生产系统及铜箔生产方法。该铜箔生产系统包括：阳极槽；阴极辊；导向机构，包括分别设于所述O型圈槽两端的两个第一导向部以及设于所述两个第一导向部之间的第二导向部；其中一个所述第一导向部将所述O型圈从所述O型圈槽的第一端输送至第二导向部，第二导向部将O型圈输送至另一第一导向部，另一第一导向部将O型圈经过调节轮输送至O型圈槽的第二端；清洗槽，第二导向部设于清洗槽内，O型圈被输送至第二导向部时进入清洗槽内；通过上述方式，O型圈每次从硫酸铜电解液中离开后都会被第二导向机构和清洗槽形成的清洗机构进行清洗，避免O型圈上形成硫酸铜结晶导致的铜箔撕边。
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公开(公告)号：CN115342740B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202210923411.2
申请日：2022-08-02
申请人： 江西铜博科技股份有限公司
IPC分类号： G01B11/06
摘要： 本发明提供一种铜箔测厚设备，包括机架、放料组件、水平组件及测厚组件，放料组件包括分别设于机架两侧的两个料辊；水平组件包括设于两个料辊之间的两个水平辊，其中至少一个水平辊可调式设于机架上；测厚组件包括固定设于机架一侧的激光测厚组件，激光测厚组件包括相对设于水平辊上下两侧的第一激光位移传感器及第二激光位移传感器。本发明中的铜箔测厚设备，通过设置两个料辊，上述两个料辊其中一个用于放置铜箔料，另一个用于对铜箔料进行收卷移动，以便于测厚组件对铜箔卷的不同位置进行检测，通过在两个料辊之间设置水平辊，且其中至少一个水平辊可调试设于机架上，可使待检测的部分铜箔保持水平状态，以保证测试精度。
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