一种铁灰色金属釉及其制备方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117285253A

    公开(公告)日:2023-12-26

    申请号:CN202311335490.6

    申请日:2023-10-16

    IPC分类号: C03C8/00 C04B41/86

    摘要: 本发明提供了一种金属光泽釉,所述金属光泽釉的制备原料由以下质量百分含量的组分组成:SiO2:46‑49%;Al2O3:10‑13%;CaO:3‑5%;MgO:1‑3%;BaO:5‑7%;K2O:1‑3%;Na2O:0‑2%;Li2O:0‑2%;TiO2:6‑8%;Fe2O3:1‑3%;CuO:2‑4%;MnO2:7‑9%;Cr2O3:0‑1%;CoO:0‑1%。本发明通过调控SiO2/Al2O3的质量比、熔剂组分CaO和MgO的含量,并在此基础上引入适量Li2O,可以使产品呈现出柔和的铁灰色金属光泽,与生产坯体完全匹配,热稳定性高,耐酸碱,成本低,适合大规模生产。

    一种低放射性陶瓷釉料的制备方法及其制备的陶瓷釉料

    公开(公告)号:CN113264681A

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202110686098.0

    申请日:2021-06-21

    IPC分类号: C03C8/20

    摘要: 本发明涉及陶瓷釉料技术领域,尤其涉及一种低放射性陶瓷釉料的制备方法及其制备的陶瓷釉料。制备方法包括如下步骤:(1)预磨:将工业硅酸锆研磨至0.3μm≤D10≤0.4μm,0.8μm≤D50≤1μm,D90≤2.5μm,得硅酸锆预磨浆料;(2)终磨:不经烘干,将所述硅酸锆预磨浆料直接与钾长石、钠长石、石英、氧化铝、方解石、白云石、硅灰石、熔块、氧化锌和高岭土混合,加水后进行球磨,过筛,得釉浆;(3)施釉、烧制:以所述釉浆施釉,煅烧,得产品。本发明通过对工业硅酸锆进行预磨处理,控制硅酸锆颗粒级配,使其粒度最大程度分布在可见光波长范围内,在保证陶瓷釉料硬度和白度的前提下降低硅酸锆的用量,从而实现陶瓷釉料的低放射性。

    一种低放射性陶瓷釉料的制备方法及其制备的陶瓷釉料

    公开(公告)号:CN113264681B

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202110686098.0

    申请日:2021-06-21

    IPC分类号: C03C8/20

    摘要: 本发明涉及陶瓷釉料技术领域,尤其涉及一种低放射性陶瓷釉料的制备方法及其制备的陶瓷釉料。制备方法包括如下步骤:(1)预磨:将工业硅酸锆研磨至0.3μm≤D10≤0.4μm,0.8μm≤D50≤1μm,D90≤2.5μm,得硅酸锆预磨浆料;(2)终磨:不经烘干,将所述硅酸锆预磨浆料直接与钾长石、钠长石、石英、氧化铝、方解石、白云石、硅灰石、熔块、氧化锌和高岭土混合,加水后进行球磨,过筛,得釉浆;(3)施釉、烧制:以所述釉浆施釉,煅烧,得产品。本发明通过对工业硅酸锆进行预磨处理,控制硅酸锆颗粒级配,使其粒度最大程度分布在可见光波长范围内,在保证陶瓷釉料硬度和白度的前提下降低硅酸锆的用量,从而实现陶瓷釉料的低放射性。

    一种曜变天目铁红金圈结晶釉及其制备方法

    公开(公告)号:CN117401907A

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202311335494.4

    申请日:2023-10-16

    IPC分类号: C03C8/00 C04B41/86

    摘要: 发明涉及卫生陶瓷生产技术领域,尤其涉及一种曜变天目铁红金圈结晶釉及其制备方法,所述曜变天目铁红金圈结晶釉,包括釉料,按照原料化学组成质量百分比计,所述釉料包括:SiO2 49%‑55%、Al2O3 6%‑11%、CaO 6%‑10%、MgO4%‑5%、Fe2O3 10%‑15%、P2O5 5%‑8%、K2O 4%‑5%、Na2O 1%‑3%。本发明通过优化釉料原料的化学组成,使釉熔体在高温烧成过程中具有合适的高温粘度,避免出现釉熔体因高温粘度过低而导致析出的晶体重新溶解甚至消失,或者因部分晶体溶解后导致晶花残缺甚至流成条纹状/片状的现象,烧成后的釉面均匀分布着大小不一的圆形晶花,且圆形晶花尺寸较大并呈现出圆形分立状态,具备强烈的立体感、极高的色彩饱和度和多彩的光泽。