公开(公告)号：CN104471738A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201380038012.7

申请日：2013-07-16

Applicant: 法国圣戈班玻璃厂

Inventor： S.马佐耶 ,  F.利恩哈特 ,  V.绍维内

IPC: H01L51/52

CPC classification number: H01L51/5215 ,  H01L51/5209 ,  H01L51/5212 ,  H01L51/5268

Abstract: 本发明涉及用于有机电致发光二极管的电极，接连地包括：(a)非导体衬底（1），透明或半透明，折射指数被包括在1.3和1.6之间，(b)透明电极层（2），其由透明导体氧化物或者由透明导体有机聚合物形成，以及(c)金属线的连续网（3），其沉积在透明电极层（2）上，其特征在于，所述电极还包括：(d)作为光漫射装置的漫射半透明层（4），其具有被包括在1.7和2.4之间的折射指数，位于非导体衬底（1）和电极层（2）之间，并且特征在于，金属线的连续网（3）至少在与透明电极（2）的接触界面处由在可见光谱的至少一部分上具有至少等于80%的反射率的金属或金属合金构成。

公开(公告)号：CN103250267A

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN201180060751.7

申请日：2011-12-19

Applicant: 法国圣戈班玻璃厂

Inventor： M.比莱内 ,  F.利恩哈特 ,  L-Y.耶 ,  M.阿尔辛格

IPC: H01L51/52 ,  C03C17/36

CPC classification number: H01L51/0021 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/3655 ,  C03C17/3671 ,  C03C2217/948 ,  C03C2218/32 ,  H01L51/5203 ,  H01L51/5215

Abstract: 本发明涉及用于制造包含至少一个基于沉积在基底上的导电薄层堆叠体的电极的含有机电致发光二极管的器件的方法，其中所述堆叠体的沉积包括下列步骤：-在所述基底的至少一个面上沉积包含在至少两个薄层之间的至少一个薄银层的薄层堆叠体，和-使用至少一种在500至2000纳米的至少一个波长中发射的激光辐射热处理该至少一个涂覆面，使得该堆叠体的薄层电阻降低至少5%。

公开(公告)号：CN105409029A

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：CN201480043463.4

申请日：2014-07-29

Applicant: 法国圣戈班玻璃厂

Inventor： F.利恩哈特

IPC: H01L51/52

CPC classification number: H01L51/0021 ,  H01L51/5209 ,  H01L51/5212 ,  H01L51/56 ,  H01L2251/305 ,  H01L2251/558

Abstract: 本发明涉及用于制备用于OLED的电极的方法，包括下列连续步骤：(a)在透明基材上沉积由银或者银合金组成的金属层，其具有在35nm至70nm，优选地45nm至65nm范围中的厚度；(b)将该用金属层覆盖的基材加热至200℃至400℃的温度，持续至少等于5分钟，优选地在20至60分钟的时间段，以便获得该金属层的反润湿并且在透明基材上形成无规的金属格栅；(c)使用连续透明导电材料层覆盖该透明基材和无规的金属格栅。

公开(公告)号：CN104094439A

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：CN201380008699.X

申请日：2013-02-07

Applicant: 法国圣戈班玻璃厂

Inventor： V.索维内 ,  F.利恩哈特 ,  G.勒康

IPC: H01L51/52

CPC classification number: H01L51/5215 ,  H01L51/5209 ,  H01L51/5212 ,  H01L51/5262 ,  H01L51/5271

Abstract: 本发明涉及一种用于OLED的所承载电极，包括：-折射率被包括在1,3和1,6之间的透明或半透明的非导体衬底（1），-被沉积在衬底表面的至少一个区上的金属线的连续网（2），所述金属线由呈现至少等于5.106S.m-1电导率的金属或金属合金所构成，所述金属线具有被包括在0,05和3μm之间、优选地在0,2和2μm之间、特别地在0,3和1,5μm之间的平均宽度L，这些金属线限定多个非金属化区域，其具有被包括在0,1和7,0pm之间的平均等效直径D，D/L比被包括在0,8和5之间、优选地在1,2和4,5之间并且特别地在2和3,5之间，并且金属线连续网的表面的至少20%呈现相对于衬底和电极的平面形成被包括在15和75°之间的角的切线，-透明或半透明层（3），其呈现被包括在1,6和2,4之间的折射率以及大于金属线连续网的电阻率并且小于104Ω.cm的电阻率，所述层完全覆盖金属线的网和所述非金属化区域，金属线的连续网（2）以及透明或半透明层（3）一起形成被称为电极层的合成层。