包含类金刚石碳的可回火涂层

    公开(公告)号:CN110914474A

    公开(公告)日:2020-03-24

    申请号:CN201880049292.4

    申请日:2018-07-19

    Abstract: 本发明涉及经涂覆的基底,其中涂层从基底开始按下列顺序包含:a)类金刚石碳(DLC)层,b)金属单片或多片层,和c)阻氧层,其中所述金属单片或多片层含有b1)锡;或锡和至少一种用于锡的合金元素,它们未成合金和/或成合金地存在,或b2)镁和至少一种用于镁的合金元素,它们未成合金和/或成合金地存在。根据本发明涂覆的基底保护DLC层,因此可将所述层回火。该涂层在热处理前具有良好的机械稳定性和良好的老化稳定性。相对无反应性材料的根据本发明的使用在EHS方面有利。所述保护层在回火后容易除去。然后,获得具有出色质量和高耐划伤性的DLC涂层。

    包含基于银和铟的功能涂层的窗玻璃

    公开(公告)号:CN107709264A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201680039907.6

    申请日:2016-06-30

    Inventor: J.哈根 N.胡恩

    Abstract: 本发明涉及一种材料,其包含涂覆有包含至少一个银基金属功能涂层,至少两个含至少一个电介质层的电介质涂层的薄层堆叠体的透明基材,使得每个金属功能涂层被设置于两个电介质涂层之间,其特征在于所述金属功能涂层包含相对于在所述金属功能涂层中的银和铟的重量的至少1重量%的铟。

    借助PECVD磁控管法用类金刚石碳进行涂覆

    公开(公告)号:CN110914468A

    公开(公告)日:2020-03-24

    申请号:CN201880049489.8

    申请日:2018-07-19

    Abstract: 本发明涉及在安置了带有靶(9)的磁控管(10)和基底(1)的真空室(3)中使用借助磁控靶生成等离子体的PECVD法(磁控管PECVD)用类金刚石碳(DLC)层涂覆基底(1)的方法,其中所述方法包括将至少一种反应物气体引入在真空室中由磁控靶(9)生成的等离子体中,因此形成反应物气体的片段,所述片段沉积在基底(1)上以形成DLC层。根据本发明的方法适于用DLC层大面积涂覆基底(1),例如玻璃板。所得DLC层在耐划伤性和光学性质方面具有出色质量。根据本发明的方法可用常规沉积装置实施。基底加热不是必要的。

    电铬玻璃
    4.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203311141U

    公开(公告)日:2013-11-27

    申请号:CN201190000347.6

    申请日:2011-02-17

    Abstract: 本实用新型涉及一种电铬玻璃,带有至少一个基底和施加到基底上的层结构,其中,层结构具有至少两个电极层,在它们之间存在第一电化学主动层和第二电化学主动层,其相应适合用于离子的可逆结合,其中,第一主动层由电铬材料构成,并且其中,这两个主动层通过电解层相互分离。在此,层结构通过一个或多个过渡区划分成串联的电铬单元,其中,每个过渡区包括:第一沟槽,通过其将第一电极层划分成彼此电绝缘的第一电极区段;第二沟槽,通过其将第二电极层划分成彼此电绝缘的第二电极区段;和利用导电的材料填充的第三沟槽,通过其将邻接到过渡区处的单元的第一电极区段和第二电极区段相互电连接;其中,第三沟槽布置在第一沟槽和第二沟槽之间。此外,其涉及一种制造方法,在其中在带有相应的层结构的基底中制造第一至第三沟槽。

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