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公开(公告)号：CN103265046B
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201310200684.5
申请日：2013-05-27
Applicant: 浙江大学
IPC: C01B33/44
Abstract: 本发明公开了一种以1.0nm水合高岭石为插层前驱体制备的丝氨酸/高岭石插层复合物及制备方法，该方法为：以层间距为d001=1.0nm的水合高岭石，与丝氨酸溶液混合后，先控制体系在较低温度下搅拌几分钟，然后再控制在相对较高温度下反应几分钟，制备得到丝氨酸/高岭石插层复合物。高岭石层间距由插入丝氨酸前的d001=1.0nm扩大至插入丝氨酸后的d001=1.14nm，插层率可达到90%~100%，丝氨酸在高岭石层间以平行于高岭石片层方式呈单层排列，其羧基与高岭石的内表面羟基形成氢键，氨基与高岭石硅氧层的氧原子形成氢键。本发明制备工艺简单，可批量生产，得到的丝氨酸/高岭石插层复合物可稳定长时间存在。
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公开(公告)号：CN103265047A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201310200687.9
申请日：2013-05-27
Applicant: 浙江大学
IPC: C01B33/44
Abstract: 本发明公开了一种以水合高岭石制备甘氨酸-高岭石插层复合物的方法，该方法为：每1g水合高岭石与200ml2~3mol/L的甘氨酸溶液混合，调节pH值为6~7，在65~80℃下搅拌48~24h进行反应。再将反应产物经混合液经离心，水洗后，得到甘氨酸-高岭石插层复合物。这种插层复合物的层间距为d001=1.03nm，插层率为74~84%。本发明制备的甘氨酸-高岭石在空气中能够长时间稳定存在，可以作为氨基酸类药物缓释系统研究的基础。本发明制备工艺简单快速，成本低，易于实现。特别地，水合高岭石是一种无毒的材料，作为前驱体应用于制备甘氨酸-高岭石插层复合物，可以扩展其在药物研究领域的应用价值。
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公开(公告)号：CN103265046A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201310200684.5
申请日：2013-05-27
Applicant: 浙江大学
IPC: C01B33/44
Abstract: 本发明公开了一种以1.0nm水合高岭石为插层前驱体制备的丝氨酸/高岭石插层复合物及制备方法，该方法为：以层间距为d001=1.0nm的水合高岭石，与丝氨酸溶液混合后，先控制体系在较低温度下搅拌几分钟，然后再控制在相对较高温度下反应几分钟，制备得到丝氨酸/高岭石插层复合物。高岭石层间距由插入丝氨酸前的d001=1.0nm扩大至插入丝氨酸后的d001=1.14nm，插层率可达到90%~100%，丝氨酸在高岭石层间以平行于高岭石片层方式呈单层排列，其羧基与高岭石的内表面羟基形成氢键，氨基与高岭石硅氧层的氧原子形成氢键。本发明制备工艺简单，可批量生产，得到的丝氨酸/高岭石插层复合物可稳定长时间存在。
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公开(公告)号：CN103265047B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201310200687.9
申请日：2013-05-27
Applicant: 浙江大学
IPC: C01B33/44
Abstract: 本发明公开了一种以水合高岭石制备甘氨酸-高岭石插层复合物的方法，该方法为：每1g水合高岭石与200ml2~3mol/L的甘氨酸溶液混合，调节pH值为6~7，在65~80℃下搅拌48~24h进行反应。再将反应产物经混合液经离心，水洗后，得到甘氨酸-高岭石插层复合物。这种插层复合物的层间距为d001=1.03nm，插层率为74~84%。本发明制备的甘氨酸-高岭石在空气中能够长时间稳定存在，可以作为氨基酸类药物缓释系统研究的基础。本发明制备工艺简单快速，成本低，易于实现。特别地，水合高岭石是一种无毒的材料，作为前驱体应用于制备甘氨酸-高岭石插层复合物，可以扩展其在药物研究领域的应用价值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103274424A
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201310200685.X
申请日：2013-05-27
Applicant: 浙江大学
IPC: C01B33/44
Abstract: 本发明公开了一种以0.84nm水合高岭石经两步液相置换法制备的丝氨酸/高岭石插层物及制备方法，该方法为：水合高岭石与乙二醇混合并搅拌反应得到乙二醇/高岭石插层复合物，再取乙二醇/高岭石插层复合物与丝氨酸溶液混合反应得到丝氨酸/高岭石插层复合物。高岭石层间距扩大至d001=1.13nm，插层率可达到35%~75%，丝氨酸在高岭石层间以平行于高岭石片层方式呈单层排列，其羧基与高岭石的内表面羟基形成氢键，氨基与高岭石硅氧层的氧原子形成氢键。本发明制备工艺简单，可批量生产，得到的丝氨酸/高岭石插层复合物可稳定长时间存在。
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公开(公告)号：CN103274424B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201310200685.X
申请日：2013-05-27
Applicant: 浙江大学
IPC: C01B33/44
Abstract: 本发明公开了一种以0.84nm水合高岭石经两步液相置换法制备的丝氨酸/高岭石插层物及制备方法，该方法为：水合高岭石与乙二醇混合并搅拌反应得到乙二醇/高岭石插层复合物，再取乙二醇/高岭石插层复合物与丝氨酸溶液混合反应得到丝氨酸/高岭石插层复合物。高岭石层间距扩大至d001=1.13nm，插层率可达到35%~75%，丝氨酸在高岭石层间以平行于高岭石片层方式呈单层排列，其羧基与高岭石的内表面羟基形成氢键，氨基与高岭石硅氧层的氧原子形成氢键。本发明制备工艺简单，可批量生产，得到的丝氨酸/高岭石插层复合物可稳定长时间存在。
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公开(公告)号：CN102701229A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201210195865.9
申请日：2012-06-14
Applicant: 浙江大学
IPC: C01B33/40
Abstract: 本发明公开了一种水合肼-高岭石插层复合物制备0.84nm水合高岭石的方法。将高岭石粉末与水合肼按比例混合搅拌24~48h，得到水合肼-高岭石插层复合物和多余的水合肼的混合物；混合物用无水乙醇离心清洗两次后，得到水合肼-高岭石插层复合物；最后将得到的复合物在40~80℃下热处理8~1h即可得到0.84nm水合高岭石，本发明制备的0.84nm水合高岭石在空气中能够长时间稳定存在，被用来作为制备其他高岭石插层复合物的前驱体。采用的原料对环境无污染，制备工艺简单快速，成本低，易于实现工业化生产。
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公开(公告)号：CN103271942B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201310200686.4
申请日：2013-05-27
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种以水合高岭石为载体制备纳米银-高岭石复合物的方法，该方法为：每1g水合高岭石与200ml0.01~0.03mol/L的纳米银溶液混合，在室温~60℃下搅拌48~24h，混合物离心，水洗后，得到表面负载了纳米银的纳米银-高岭石复合物；本发明制备的纳米银-高岭石复合物中的纳米银颗粒分布在高岭石表面，颗粒尺寸主要分布在2~25nm之间，其中7~9nm的纳米银颗粒约占40%左右。纳米银-高岭石复合物可以作为一种兼具高岭石止血性能和纳米银抗菌性能的复合材料；本发明制备工艺简单快速，成本低，易于实现。
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公开(公告)号：CN103271942A
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201310200686.4
申请日：2013-05-27
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种以水合高岭石为载体制备纳米银-高岭石复合物的方法，该方法为：每1g水合高岭石与200ml0.01~0.03mol/L的纳米银溶液混合，在室温~60℃下搅拌48~24h，混合物离心，水洗后，得到表面负载了纳米银的纳米银-高岭石复合物；本发明制备的纳米银-高岭石复合物中的纳米银颗粒分布在高岭石表面，颗粒尺寸主要分布在2~25nm之间，其中7~9nm的纳米银颗粒约占40%左右。纳米银-高岭石复合物可以作为一种兼具高岭石止血性能和纳米银抗菌性能的复合材料；本发明制备工艺简单快速，成本低，易于实现。
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