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公开(公告)号：CN102661956B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201210122901.9
申请日：2012-04-24
申请人： 浙江大学
IPC分类号： G01N21/95
摘要： 本发明提出了一种超光滑表面缺陷检测系统的畸变校正方法。本发明解决了超光滑表面缺陷检测系统中因为存在光学畸变而造成的子图像拼接时的缺陷断裂问题。本发明的技术特点在于，设计了一种超光滑表面缺陷检测系统和畸变校正标准板及标准板的夹持装置，利用检测系统对标准板采集得到暗场畸变图像，通过该畸变图像和计算机按照物面尺寸和像面像素关系重构的标准板理想图像的匹配建立畸变退化模型，并提出一种基于二次极坐标正反变换和二次灰度线性插值的畸变校正方法。本方法能够校正超光滑表面缺陷检测系统中因畸变造成的相邻子图像的拼接错位，同时也适用于校正其他基于图像拼接的大视场光学系统中存在的畸变。
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公开(公告)号：CN104833679A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510217110.8
申请日：2015-04-29
申请人： 浙江大学 , 杭州晶耐科光电技术有限公司
IPC分类号： G01N21/88
摘要： 本发明公开了一种微观缺陷三维尺度逆向标定及检测方法。本发明具体步骤如下：1、通过FDTD仿真软件建立仿真缺陷模型和仿真缺陷暗场散射模型；对缺陷进行电磁场仿真；外推获得仿真缺陷模型在光学成像系统像面上的理想光强分布；提取理想光强分布特征；在理想光强分布中加高斯型光学系统像差模型；构建多维特征参数向量并创建仿真模型样本库。2、元件缺陷暗场散射成像，显微成像系统采集缺陷图像；提取缺陷图像中垂直于待测缺陷长度方向的灰度分布；提取灰度分布中的灰度分布特征。3、建立相似度评价函数；搜寻仿真模型样本库中特征参数向量；判断相似度是否达到要求。本发明易于操作且具有较高的检测效率，能够达到纳米量级的纵向分辨率。
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公开(公告)号：CN104833679B
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201510217110.8
申请日：2015-04-29
申请人： 浙江大学 , 杭州晶耐科光电技术有限公司
IPC分类号： G01N21/88
摘要： 本发明公开了一种微观缺陷三维尺度逆向标定及检测方法。本发明具体步骤如下：1、通过FDTD仿真软件建立仿真缺陷模型和仿真缺陷暗场散射模型；对缺陷进行电磁场仿真；外推获得仿真缺陷模型在光学成像系统像面上的理想光强分布；提取理想光强分布特征；在理想光强分布中加高斯型光学系统像差模型；构建多维特征参数向量并创建仿真模型样本库。2、元件缺陷暗场散射成像，显微成像系统采集缺陷图像；提取缺陷图像中垂直于待测缺陷长度方向的灰度分布；提取灰度分布中的灰度分布特征。3、建立相似度评价函数；搜寻仿真模型样本库中特征参数向量；判断相似度是否达到要求。本发明易于操作且具有较高的检测效率，能够达到纳米量级的纵向分辨率。
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公开(公告)号：CN102636496B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201210121716.8
申请日：2012-04-24
申请人： 浙江大学
IPC分类号： G01N21/93
摘要： 本发明公开了一种光学表面疵病暗场检测中疵病宽度标定标准化系统及方法。本发明解决了疵病检测中物面疵病的实际宽度与CCD成像像素宽度的关联问题。本发明的技术特点在于：为模拟存在疵病的光学表面，制作一个刻有一系列标准宽度刻线的石英定标板，并用扫描电镜标定刻线的实际宽度；使用一个光学表面疵病暗场检测系统，利用其中的精密导轨移动石英定标板并配合CCD采集每条定标线的暗场灰度图；对这些灰度图进行特征识别和特征提取，并与其实际宽度进行比对建立暗场物像关联函数。获得暗场物像关联函数后即可通过处理在同样成像条件下采集的被测件图像来对其表面划痕的宽度进行标定。实现了对光学表面宽度在微米及亚微米量级的疵病的标定的标准化。
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公开(公告)号：CN102680477A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210123930.7
申请日：2012-04-24
申请人： 浙江大学
IPC分类号： G01N21/88
摘要： 本发明公开了一种大尺寸光学元件高精度调平方法与装置。本发明利用高倍率显微镜对元件表面不同位置的三特征点分别进行连续多幅暗场灰度图像采集，计算图像灰度信息熵值，拟合灰度信息熵值与显微镜轴向移动距离曲线，通过搜寻曲线中极小值的方法，获得正焦位置，获得各特征点离焦量。设计一种两板式弹性预紧，两点调整俯仰与侧摆的调平装置。通过建立离焦量与调整量换算模型，将三特征点处的离焦量换算为两调整点的调整量，进行调平操作。本发明解决了大尺寸光学元件在显微镜全范围扫描检测过程中出现的因光学元件与显微镜焦平面的不平行而造成的离焦问题。
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公开(公告)号：CN102661956A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201210122901.9
申请日：2012-04-24
申请人： 浙江大学
IPC分类号： G01N21/95
摘要： 本发明提出了一种超光滑表面缺陷检测系统及其畸变校正方法。本发明解决了超光滑表面缺陷检测系统中因为存在光学畸变而造成的子图像拼接时的缺陷断裂问题。本发明的技术特点在于，设计了一种超光滑表面缺陷检测系统和畸变校正标准板及标准板的夹持装置，利用检测系统对标准板采集得到暗场畸变图像，通过该畸变图像和计算机按照物面尺寸和像面像素关系重构的标准板理想图像的匹配建立畸变退化模型，并提出一种基于二次极坐标正反变换和二次灰度线性插值的畸变校正方法。本方法能够校正超光滑表面缺陷检测系统中因畸变造成的相邻子图像的拼接错位，同时也适用于校正其他基于图像拼接的大视场光学系统中存在的畸变。
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公开(公告)号：CN102680477B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201210123930.7
申请日：2012-04-24
申请人： 浙江大学
IPC分类号： G01N21/88
摘要： 本发明公开了一种大尺寸光学元件高精度调平方法与装置。本发明利用高倍率显微镜对元件表面不同位置的三特征点分别进行连续多幅暗场灰度图像采集，计算图像灰度信息熵值，拟合灰度信息熵值与显微镜轴向移动距离曲线，通过搜寻曲线中极小值的方法，获得正焦位置，获得各特征点离焦量。设计一种两板式弹性预紧，两点调整俯仰与侧摆的调平装置。通过建立离焦量与调整量换算模型，将三特征点处的离焦量换算为两调整点的调整量，进行调平操作。本发明解决了大尺寸光学元件在显微镜全范围扫描检测过程中出现的因光学元件与显微镜焦平面的不平行而造成的离焦问题。
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公开(公告)号：CN102636496A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN201210121716.8
申请日：2012-04-24
申请人： 浙江大学
IPC分类号： G01N21/93
摘要： 本发明公开了一种光学表面疵病暗场检测中疵病宽度标定标准化系统及方法。本发明解决了疵病检测中物面疵病的实际宽度与CCD成像像素宽度的关联问题。本发明的技术特点在于：为模拟存在疵病的光学表面，制作一个刻有一系列标准宽度刻线的石英定标板，并用扫描电镜标定刻线的实际宽度；使用一个光学表面疵病暗场检测系统，利用其中的精密导轨移动石英定标板并配合CCD采集每条定标线的暗场灰度图；对这些灰度图进行特征识别和特征提取，并与其实际宽度进行比对建立暗场物像关联函数。获得暗场物像关联函数后即可通过处理在同样成像条件下采集的被测件图像来对其表面划痕的宽度进行标定。实现了对光学表面宽度在微米及亚微米量级的疵病的标定的标准化。
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