公开(公告)号：CN118595947A

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202410761198.9

申请日：2024-06-13

申请人： 浙江工业大学

发明人： 陈泓谕 ,  洪彬彬 ,  吕冰海 ,  韩云晓 ,  王佳焕 ,  万红兵 ,  马剑

IPC分类号： B24B13/00 ,  B24B13/005 ,  B24B27/033 ,  B24C1/08 ,  B24B53/017

摘要： 本发明提供了光学零件的抛光头自修整可控紫外光辅助抛光装置及方法，其中，抛光装置包括抛光头、抛光头驱动装置、工件驱动装置、供液装置、可控紫外光发生装置、抛光头修整块及抛光液储蓄池；可控紫外光发生装置设于抛光杆上，加工时跟着抛光杆移动，且可以调节紫外光辐照范围，从而可以使紫外光始终照射在加工区域。抛光过程中，通过紫外光与催化剂和氧化剂的化学作用对工件进行改性，光化学改性作用与磨料对氧化层的机械去除交替进行，实现加工工件的局部和全面的高效高质量抛光；此外，本发明还配备抛光头修整块，能够实现抛光头自修整，从而提高抛光头使用寿命；本发明装置，可实现大口径非球面光学零件的高效高质量加工。

公开(公告)号：CN117584024A

公开(公告)日：2024-02-23

申请号：CN202410022881.0

申请日：2024-01-08

申请人： 浙江工业大学

发明人： 陈泓谕 ,  吴正超 ,  吕冰海 ,  杭伟 ,  洪彬彬 ,  马剑 ,  万红兵

IPC分类号： B24B29/02 ,  B24B1/04 ,  B24B47/12 ,  B24B41/00 ,  B24B41/06 ,  B24B47/22 ,  B24B1/00 ,  B24B57/02

摘要： 本发明公开了超声振动及电化学辅助的液膜剪切高效抛光装置和方法；所述抛光装置包括抛光槽，用于盛放抛光液；所述抛光槽的槽底设有抛光盘，抛光盘设于抛光盘驱动主轴上；所述抛光槽的内部，位于抛光盘的下方，设有超声波发生器；所述抛光槽的上方设有工件夹持驱动机构，用于夹持工件并驱动工件作旋转运动；所述工件夹持驱动机构与调节机构相连接，可以在调节机构的驱动下上下移动；所述抛光槽与脉冲电源的负极相连，所述工件夹持驱动机构与脉冲电源的正极相连，在抛光时结合抛光槽内的抛光液构成闭合回路。本发明的抛光装置将超声振动、电化学阳极氧化、液膜剪切抛光三项技术进行结合，对工件进行抛光，提高了工件的材料去除效率和加工均匀性。

公开(公告)号：CN117718873A

公开(公告)日：2024-03-19

申请号：CN202410082835.X

申请日：2024-01-19

申请人： 浙江工业大学

发明人： 陈泓谕 ,  彭枫 ,  吕冰海 ,  杭伟 ,  洪彬彬 ,  万红兵 ,  马剑

IPC分类号： B24B31/116 ,  B24B31/12 ,  B24B1/00 ,  B24B51/00 ,  B24B49/00 ,  B24B49/16 ,  B24B57/02

摘要： 本发明提供了多参数自主调节的液膜剪切抛光装置，包括机座，以及抛光盘模块和工件夹持驱动模块；所述工件夹持驱动模块包括用于夹持工件的载物盘；所述载物盘的下侧设有温度传感器和压力传感器，所述抛光液槽的槽壁上设有PH传感器，所述抛光液槽上方设有PH调节模块，所述PH调节模块能够向抛光液槽中添加PH调节剂；抛光时，控制模块通过BP网络神经模型对当前抛光PH值、抛光温度及工件压力进行评估，再通过遗传优化算法寻找最优抛光参数，最后对抛光参数进行自主调节。本发明还提供了多参数自主调节的液膜剪切抛光方法。本发明通过对抛光参数进行自主调节，有效消除加工过程中因抛光环境变化带来的不稳定性，实现高效、高质量、稳定的抛光加工。