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公开(公告)号:CN105397639B
公开(公告)日:2017-12-08
申请号:CN201510908897.2
申请日:2015-12-09
申请人: 浙江工业大学
摘要: 本发明公开了一种悬浮抛光加工间隙检测方法,所采用的液动压抛光设备包括抛光盘,抛光液容器、抛光液容器固定板、测距传感器、螺旋机构、微调机构;通过调节微调机构将抛光盘与抛光液容器的中心位置对准,再调节螺旋机构,实现抛光盘和抛光液容器在Z轴方向的相对运动,从而调整悬浮抛光的加工间隙;再利用抛光液底部安装的测距传感器检测抛光液容器的移动距离,计算出抛光盘与抛光液容器之间的加工间隙。本发明能够准确的检测出加工间隙,并能实时的检测出由于液动压力的产生而使加工间隙发生的变化值,能够实现微米级的测量精度;本发明采用的电涡流式位移传感器具有高精度的位移测量精度,能适应复杂测试环境都,保证实验的精确性。
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公开(公告)号:CN105397639A
公开(公告)日:2016-03-16
申请号:CN201510908897.2
申请日:2015-12-09
申请人: 浙江工业大学
CPC分类号: B24B49/165 , B24B49/00 , B24B49/105
摘要: 本发明公开了一种悬浮抛光加工间隙检测方法,所采用的液动压抛光设备包括抛光盘,抛光液容器、抛光液容器固定板、测距传感器、螺旋机构、微调机构;通过调节微调机构将抛光盘与抛光液容器的中心位置对准,再调节螺旋机构,实现抛光盘和抛光液容器在Z轴方向的相对运动,从而调整悬浮抛光的加工间隙;再利用抛光液底部安装的测距传感器检测抛光液容器的移动距离,计算出抛光盘与抛光液容器之间的加工间隙。本发明能够准确的检测出加工间隙,并能实时的检测出由于液动压力的产生而使加工间隙发生的变化值,能够实现微米级的测量精度;本发明采用的电涡流式位移传感器具有高精度的位移测量精度,能适应复杂测试环境都,保证实验的精确性。
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公开(公告)号:CN205342814U
公开(公告)日:2016-06-29
申请号:CN201521017992.5
申请日:2015-12-09
申请人: 浙江工业大学
摘要: 本实用新型公开了一种悬浮抛光加工间隙检测装置,所采用的液动压抛光设备包括抛光盘,抛光液容器、抛光液容器固定板、测距传感器、螺旋机构、微调机构;通过调节微调机构将抛光盘与抛光液容器的中心位置对准,再调节螺旋机构,实现抛光盘和抛光液容器在Z轴方向的相对运动,从而调整悬浮抛光的加工间隙;再利用抛光液底部安装的测距传感器检测抛光液容器的移动距离,计算出抛光盘与抛光液容器之间的加工间隙。本实用新型能够准确的检测出加工间隙,并能实时的检测出由于液动压力的产生而使加工间隙发生的变化值,能够实现微米级的测量精度;本实用新型采用的电涡流式位移传感器具有高精度的位移测量精度,能适应复杂测试环境都,保证实验的精确性。
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