公开(公告)号：CN116786084B

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202310656604.0

申请日：2023-06-05

Applicant: 浙江工业大学

Inventor： 邱月 ,  严佳萍 ,  吕飞 ,  任灏 ,  陈张喜 ,  丁玉庭

IPC: B01J20/22 ,  B01J20/30 ,  B01J20/34 ,  B01J27/24 ,  B01J37/08 ,  B01D15/08

Abstract: 本发明公开了一种可再生展青霉素吸附剂及其制备方法，本发明通过在g‑C3N4材料表面接枝‑SH，提高其对PAT的吸附性能，同时，利用g‑C3N4材料在可见光下的光催化效应，通过“避光吸附‑光催化再生”过程，实现吸附剂的循环利用，降低吸附剂的成本；与目前普通巯基功能化PAT吸附剂相比，具有光催化活性的巯基化g‑C3N4不仅具有高吸附容量和选择性，同时解决了一直以来备受关注的循环使用问题，有效降低了吸附剂成本，有利于产业化应用推广。

公开(公告)号：CN116786084A

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202310656604.0

申请日：2023-06-05

Applicant: 浙江工业大学

Inventor： 邱月 ,  严佳萍 ,  吕飞 ,  任灏 ,  陈张喜 ,  丁玉庭

IPC: B01J20/22 ,  B01J20/30 ,  B01J20/34 ,  B01J27/24 ,  B01J37/08 ,  B01D15/08

Abstract: 本发明公开了一种可再生展青霉素吸附剂及其制备方法，本发明通过在g‑C3N4材料表面接枝‑SH，提高其对PAT的吸附性能，同时，利用g‑C3N4材料在可见光下的光催化效应，通过“避光吸附‑光催化再生”过程，实现吸附剂的循环利用，降低吸附剂的成本；与目前普通巯基功能化PAT吸附剂相比，具有光催化活性的巯基化g‑C3N4不仅具有高吸附容量和选择性，同时解决了一直以来备受关注的循环使用问题，有效降低了吸附剂成本，有利于产业化应用推广。