X射线产生装置及X射线产生方法

    公开(公告)号:CN104285270A

    公开(公告)日:2015-01-14

    申请号:CN201380024680.4

    申请日:2013-03-15

    Abstract: 本发明的X射线产生装置(1)具备:电子枪部(3),其射出电子束(EB);靶部(T),具有由钻石所构成的基板(21)、及由通过电子束(EB)的入射而产生X射线(XR)的材料所构成且紧贴地埋设于基板(21)的靶体(23)。靶体(23)的外径是0.05~1μm的范围。电子束(EB)的靶部(T)上的照射域的外径为靶体(23)的外径的1.1~2.5倍的范围。X射线产生装置(1)以靶体(23)包含于照射域的方式将电子束(EB)照射于靶体(23),由此从靶体(23)产生X射线(XR)。由此,通过电子束入射于靶部中的靶体以外的部分而产生的X射线成分被抑制为对空间分辨率不产生影响的程度,因此,能够提供抑制了空间分辨率的降低的X射线产生装置。

    X射线产生装置
    2.
    发明公开
    X射线产生装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117716463A

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202280045947.7

    申请日:2022-02-15

    Abstract: 一种X射线产生装置,具备:壳体;电子枪,其具有在上述壳体内出射电子的电子出射部、及用于引出自上述电子出射部出射的上述电子的引出电极;靶,其在上述壳体内通过上述电子的入射而产生X射线;窗构件,其将上述壳体的开口密封,且使上述X射线透过;及管电压施加部,其对上述电子出射部与上述靶之间施加管电压;上述靶的厚度具有分布,上述靶配置成,相对于与上述电子枪的轴线正交的假想面倾斜,且相较于施加于上述引出电极的引出电压相对高时的上述电子的入射位置,在上述引出电压相对低时的上述电子的入射位置上,该靶的厚度变薄。

    X射线产生装置
    3.
    发明公开
    X射线产生装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117597759A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202280045962.1

    申请日:2022-02-14

    Abstract: 一种X射线产生装置,具备:壳体;电子枪,其具有在上述壳体内出射电子的电子出射部;靶,其在上述壳体内通过入射上述电子而产生X射线;窗构件,其将上述壳体的开口密封,且使上述X射线透过;管电压施加部,其对上述电子出射部与上述靶之间施加管电压;及磁场形成部,其用于通过在上述电子出射部与上述靶之间形成磁场,而使上述电子偏向;上述靶的厚度具有分布,上述靶以相较于上述管电压相对高时,在上述管电压相对低时上述电子在该靶的厚度上入射至相对薄的部分的方式配置。

    X射线产生装置
    5.
    发明公开
    X射线产生装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117501398A

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202280043213.5

    申请日:2022-03-09

    Abstract: 本发明的X射线产生装置包括X射线管和电子束调节部。X射线管具有箱体、电子枪、靶材和窗构件。电子束调节部在靶材存在第1缺陷的情况下,调节电子束以使得靶材的电子束照射区域不包含第1缺陷,在窗构件存在第2缺陷的情况下,调节电子束以使得窗构件的电子束投影区域不包含第2缺陷。

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