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公开(公告)号：CN102274812B
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201110182193.3
申请日：2011-06-30
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
CPC分类号： B05C11/1002 , B05C5/02 , B05C11/1047
摘要： 本发明提供一种防护胶涂布机系统及其涂胶方法，所述的防护胶涂布机涂布系统包括：涂布枪，用来涂布防护胶；供胶罐，用来向所述涂布枪供应防护胶；储胶罐，用来向所述供胶罐补充防护胶；单向阀，连通所述供胶罐和储胶罐，并用来供所述储胶罐中的防护胶单向流动到所述供胶罐中。本发明提供的技术方案能实现涂布防护胶与向供胶罐及储胶罐中补充防护胶同时进行，不需要涂胶系统停止涂胶作业以补充防护胶。
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公开(公告)号：CN102274812A
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN201110182193.3
申请日：2011-06-30
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
CPC分类号： B05C11/1002 , B05C5/02 , B05C11/1047
摘要： 本发明提供一种防护胶涂布机系统及其涂胶方法，所述的防护胶涂布机涂布系统包括：涂布枪，用来涂布防护胶；供胶罐，用来向所述涂布枪供应防护胶；储胶罐，用来向所述供胶罐补充防护胶；单向阀，连通所述供胶罐和储胶罐，并用来供所述储胶罐中的防护胶单向流动到所述供胶罐中。本发明提供的技术方案能实现涂布防护胶与向供胶罐及储胶罐中补充防护胶同时进行，不需要涂胶系统停止涂胶作业以补充防护胶。
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公开(公告)号：CN109333337A
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201811379341.9
申请日：2018-11-19
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号： B24B37/10 , B24B37/04 , B24B37/34 , B24B37/005 , B24B55/06
摘要： 本发明提供一种研磨装置及研磨方法。该研磨装置包括具有间隔设置的放片区域与取片区域的运动轴、设于所述运动轴上方并位于放片区域与取片区域之间的研磨单元、设于所述运动轴上的承载平台、设于所述研磨单元上的清洗单元以及与所述清洗单元连接的控制单元，所述承载平台用于在放片区域、研磨单元及取片区域之间往复运动，并将待研磨的面板从放片区域搬运至研磨单元，将研磨后的面板从研磨单元搬运至取片区域，所述控制单元用于控制清洗单元在承载平台从取片区域运动至研磨单元时对承载平台进行清洗，去除面板研磨产生的玻璃碎渣等残留物，避免造成大批量面板产生mura或者破片的风险。
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