公开(公告)号：CN110273134B

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN201910679780.X

申请日：2019-07-25

Applicant: 深圳清华大学研究院

Inventor： 刘浩 ,  赵祖珍 ,  沈洋 ,  孙兵妹

IPC: C23C14/50 ,  C23C16/458 ,  C25D17/06

Abstract: 本申请公开了一种全口径薄膜沉积夹具，涉及工装夹具的技术领域，以解决现有技术中的镀膜表面质量较差的技术问题。本申请的全口径薄膜沉积夹具包括第一固定座、第二固定座和调整杆，第一固定座具有第一贯穿孔；第二固定座具有第二贯穿孔，第一固定座与第二固定座连接；以及调整杆设置于第二贯穿孔内，其中，第一贯穿孔用以容置待加工件，并藉由调整杆固定待加工件。故本申请通过第一固定座、第二固定座和调整杆来夹持待加工件，既可以实现待加工件的底面的全口径薄膜沉积，也可以避免待加工件的侧面的薄膜沉积，从而可以精准地进行薄膜沉积，提高薄膜沉积的质量，可以适应对镀膜表面要求较高的场合且结构简单、安全可靠。

公开(公告)号：CN112538613A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN201910900627.5

申请日：2019-09-23

Applicant: 深圳清华大学研究院

Inventor： 刘浩 ,  赵祖珍 ,  沈洋 ,  孙兵妹

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/48 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明涉及光学薄膜沉积领域，公开了一种光学薄膜沉积设备及方法。光学薄膜沉积设备包括离子源、基片夹具、夹具底座、底座固件、真空室、均匀性修正挡板、气路系统、宽光谱膜厚监控系统；离子源位于真空室的顶部，基片夹具置于离子源下方，基片夹具放置于夹具底座上部，夹具底座置于底座固件内部，底座固件位于真空室底部，均匀性修正挡板设置于离子源与基片夹具之间；气路系统与真空室相连通，气路系统向真空室内运输气体进行薄膜沉积并维持真空室内压强稳定；宽光谱膜厚监控系统与真空室连接，实时监控薄膜沉积的厚度。本发明利用离子束辅助原子层沉积技术，从而对原子层沉积薄膜的应力实现控制，降低薄膜沉积的应力。

公开(公告)号：CN110273134A

公开(公告)日：2019-09-24

申请号：CN201910679780.X

申请日：2019-07-25

Applicant: 深圳清华大学研究院

Inventor： 刘浩 ,  赵祖珍 ,  沈洋 ,  孙兵妹

IPC: C23C14/50 ,  C23C16/458 ,  C25D17/06

Abstract: 本申请公开了一种全口径薄膜沉积夹具，涉及工装夹具的技术领域，以解决现有技术中的镀膜表面质量较差的技术问题。本申请的全口径薄膜沉积夹具包括第一固定座、第二固定座和调整杆，第一固定座具有第一贯穿孔；第二固定座具有第二贯穿孔，第一固定座与第二固定座连接；以及调整杆设置于第二贯穿孔内，其中，第一贯穿孔用以容置待加工件，并藉由调整杆固定待加工件。故本申请通过第一固定座、第二固定座和调整杆来夹持待加工件，既可以实现待加工件的底面的全口径薄膜沉积，也可以避免待加工件的侧面的薄膜沉积，从而可以精准地进行薄膜沉积，提高薄膜沉积的质量，可以适应对镀膜表面要求较高的场合且结构简单、安全可靠。

公开(公告)号：CN112538613B

公开(公告)日：2023-02-21

申请号：CN201910900627.5

申请日：2019-09-23

Applicant: 深圳清华大学研究院

Inventor： 刘浩 ,  赵祖珍 ,  沈洋 ,  孙兵妹

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/48 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明涉及光学薄膜沉积领域，公开了一种光学薄膜沉积设备及方法。光学薄膜沉积设备包括离子源、基片夹具、夹具底座、底座固件、真空室、均匀性修正挡板、气路系统、宽光谱膜厚监控系统；离子源位于真空室的顶部，基片夹具置于离子源下方，基片夹具放置于夹具底座上部，夹具底座置于底座固件内部，底座固件位于真空室底部，均匀性修正挡板设置于离子源与基片夹具之间；气路系统与真空室相连通，气路系统向真空室内运输气体进行薄膜沉积并维持真空室内压强稳定；宽光谱膜厚监控系统与真空室连接，实时监控薄膜沉积的厚度。本发明利用离子束辅助原子层沉积技术，从而对原子层沉积薄膜的应力实现控制，降低薄膜沉积的应力。

公开(公告)号：CN210176947U

公开(公告)日：2020-03-24

申请号：CN201921189954.6

申请日：2019-07-25

Applicant: 深圳清华大学研究院

Inventor： 刘浩 ,  赵祖珍 ,  沈洋 ,  孙兵妹

IPC: C23C14/50 ,  C23C16/458 ,  C25D17/06

Abstract: 本申请公开了一种全口径薄膜沉积夹具，涉及工装夹具的技术领域，以解决现有技术中的镀膜表面质量较差的技术问题。本申请的全口径薄膜沉积夹具包括第一固定座、第二固定座和调整杆，第一固定座具有第一贯穿孔；第二固定座具有第二贯穿孔，第一固定座与第二固定座连接；以及调整杆设置于第二贯穿孔内，其中，第一贯穿孔用以容置待加工件，并借由调整杆固定待加工件。故本申请通过第一固定座、第二固定座和调整杆来夹持待加工件，既可以实现待加工件的底面的全口径薄膜沉积，也可以避免待加工件的侧面的薄膜沉积，从而可以精准地进行薄膜沉积，提高薄膜沉积的质量，可以适应对镀膜表面要求较高的场合且结构简单、安全可靠。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利