氮碳共渗镀膜一体化设备及氮碳共渗镀膜工件制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116623123A

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202310819771.2

    申请日:2023-07-05

    申请人: 清华大学

    IPC分类号: C23C8/30 C23C14/35

    摘要: 本发明公开了一种氮碳共渗镀膜一体化设备及氮碳共渗镀膜工件制备方法和应用。该设备包括氮碳共渗镀膜一体化设备本体、阴极罩、靶材挡板和工件架,氮碳共渗镀膜一体化设备本体上部形成真空腔室,氮碳共渗镀膜一体化设备本体下部形成共渗溅射腔,共渗溅射腔的内侧壁绝缘连接靶材;阴极罩间隔环绕共渗溅射腔内壁设置,阴极罩上设有多个通孔,阴极罩上端连接升降杆,阴极罩的下端可绝缘设在共渗溅射腔的底端;靶材挡板可旋转移动位于靶材与阴极罩之间;工件架位于阴极罩内,工件架与阴极罩内壁间隔,工件架下端绝缘连接共渗溅射腔底端。该设备实现了工件的氮碳共渗和镀膜在同一设备中进行,使工件的氮碳共渗镀膜一体化,大大提高了生产效率。

    渗氮镀膜一体化设备及方法和应用

    公开(公告)号:CN116641015A

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202310819775.0

    申请日:2023-07-05

    申请人: 清华大学

    IPC分类号: C23C8/24 C23C14/32 C23C14/02

    摘要: 本发明公开了一种渗氮镀膜一体化设备及方法和应用。该设备包括渗氮镀膜一体化设备本体、挡板、阴极筒体和工件架,渗氮镀膜一体化设备本体的内侧壁上绝缘连接靶材;挡板可旋转地环绕渗氮镀膜一体化设备本体的内壁设置,挡板与渗氮镀膜一体化设备本体的内壁间隔,挡板上设有第一开口,第一开口可旋转至靶材对应位置;阴极筒体包括第一阴极筒体和第二阴极筒体,挡板和阴极筒体均与渗氮镀膜一体化设备本体的底部绝缘连接,第一阴极筒体和第二阴极筒体上分别设有的第二开口和第三开口均与靶材对应设置;工件架位于第二阴极筒体内。该设备将工件的渗氮和镀膜在同一设备中完成,实现了工件的渗氮镀膜一体化。