公开(公告)号：CN108908063A

公开(公告)日：2018-11-30

申请号：CN201810806550.0

申请日：2018-07-20

申请人： 清华大学 ,  天津华海清科机电科技有限公司

发明人： 崔利鹏 ,  吴云龙 ,  王同庆 ,  赵德文 ,  路新春 ,  姚宇 ,  董兵超 ,  崔凯 ,  尹士龙

IPC分类号： B24B29/00 ,  B24B1/00

CPC分类号： B24B29/00 ,  B24B1/00

摘要： 本发明公开了一种根据耗材生命周期调整抛光压力的控制方法和控制系统，该控制方法包括：根据抛光垫的使用寿命设定多个抛光次数区间，并设定根据所述多个抛光次数区间和所述抛光头的压力分区确定压力调整系数的压力调整系数明细表；在使用所述抛光头进行抛光时，根据所述抛光垫的当前抛光次数所属的抛光次数区间和使用所述抛光头的压力分区对所述压力调节表进行查表得到当前抛光的压力调整系数；根据所述当前抛光的压力调整系数、所述抛光垫的当前抛光次数和使用所述抛光头的压力分区调整所述抛光头的压力。本发明具有如下优点：对抛光头的压力控制稳定性高，可以降低抛光垫的磨损影响。

公开(公告)号：CN208276735U

公开(公告)日：2018-12-25

申请号：CN201820124417.2

申请日：2018-01-24

申请人： 清华大学 ,  天津华海清科机电科技有限公司

发明人： 许振杰 ,  董兵超 ,  贾弘源 ,  陈映松 ,  姚宇 ,  尹士龙 ,  崔凯 ,  李昆 ,  路新春

IPC分类号： B24B53/017 ,  B08B3/02

摘要： 本实用新型公开了一种修整器清洗机构，修整器清洗机构适于设于化学机械抛光机的工作平台上，工作平台上还设有抛光盘和修整器，修整器包括固定座和修整主体，固定座固定于工作平台，修整主体与固定座枢接以使修整主体可在位于抛光盘上方的修整位置和偏离抛光盘的清洗位置之间摆动，修整器清洗机构包括：清洗主体，清洗主体设于工作平台上，且清洗主体偏离抛光盘设置，清洗主体被构造成：当修整主体位于清洗位置时，清洗主体可朝向修整主体的至少两个方位喷洒清洗液；防溅组件，防溅组件设于清洗主体上以防止清洗液飞溅至抛光盘处。根据本实用新型的修整器清洗机构，清洗效果好，且同时可避免清洗液飞溅至抛光盘上而影响抛光质量。

公开(公告)号：CN208162141U

公开(公告)日：2018-11-30

申请号：CN201820117098.2

申请日：2018-01-23

申请人： 清华大学 ,  天津华海清科机电科技有限公司

发明人： 许振杰 ,  姚宇 ,  董兵超 ,  尹士龙 ,  崔凯 ,  赵德文 ,  王同庆 ,  路新春

IPC分类号： B08B3/02

摘要： 本实用新型公开了一种抛光盘清洗装置，抛光盘清洗装置适于设于化学机械抛光机的工作平台上，工作平台上还设有抛光盘，抛光盘清洗装置包括：固定座，固定座固定于工作平台上；喷臂，喷臂的一端与固定座相连，喷臂的另一端延伸至抛光盘的上方，喷臂内限定出沿其长度方向延伸的流道，喷臂上设有与流道连通的进口和至少一个第一出口，第一出口设有第一喷嘴，进口连通清洗液源，第一喷嘴的喷口的中心线与第一基准线之间的夹角α为钝角，以使由第一喷嘴喷射的清洗液对所述抛光盘形成由内向外的冲刷力。根据本实用新型的抛光盘清洗装置，可使抛光盘表面的抛光残屑顺畅排出至抛光盘之外，清洗效果好，有利于提高抛光质量。

公开(公告)号：CN208120095U

公开(公告)日：2018-11-20

申请号：CN201820302926.X

申请日：2018-03-05

申请人： 清华大学 ,  天津华海清科机电科技有限公司

发明人： 王剑 ,  董兵超 ,  许振杰 ,  姚宇 ,  尹士龙 ,  崔凯 ,  王同庆 ,  路新春

IPC分类号： B65G35/00

摘要： 本实用新型公开了一种晶圆的输送装置，包括：滑轨，所述滑轨内限定出沿其长度方向延伸的滑槽；滑块，所述滑块可移动地设在所述滑槽内，所述晶圆与所述滑块相连；防护罩，所述防护罩设在所述滑轨上且覆盖所述滑槽，所述防护罩位于所述滑块上方；支撑件，所述支撑件设在所述滑块上且与所述滑块在所述滑槽内共同移动，所述支撑件支撑在所述防护罩下方以避免所述防护罩与所述滑块接触。根据本实用新型实施例的晶圆的输送装置具有干净整洁、使用寿命长、精度高等优点。

公开(公告)号：CN208018809U

公开(公告)日：2018-10-30

申请号：CN201820203197.2

申请日：2018-02-05

申请人： 清华大学 ,  天津华海清科机电科技有限公司

发明人： 贾弘源 ,  董兵超 ,  许振杰 ,  姚宇 ,  尹士龙 ,  崔凯 ,  王同庆 ,  李昆 ,  路新春

IPC分类号： B05B7/04

摘要： 本实用新型公开了一种CMP设备腔室保湿用喷雾器，CMP设备腔室保湿用喷雾器包括：储液罐；喷雾管座，喷雾管座设在储液罐上，喷雾管座上设有进液接头以向储液罐内注入液体；喷雾组件，喷雾组件与喷雾管座相连，喷雾组件包括：喷液吸管，喷液吸管的一端与储液罐连通；二流体喷雾头，二流体喷雾头设在喷液吸管的另一端以将储液罐内的液体雾化喷出。根据本实用新型实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器，通过喷雾组件便于将储液罐中的液体经由喷液吸管再由二流体喷雾头喷出，且二流体喷雾头的位置可以灵活设置，从而满足抛光腔室内部及各个模块表面保湿的需求。

公开(公告)号：CN207923357U

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201820390444.4

申请日：2018-03-21

申请人： 清华大学 ,  天津华海清科机电科技有限公司

发明人： 许振杰 ,  姚宇 ,  贾弘源 ,  董兵超 ,  崔凯 ,  尹士龙 ,  王同庆 ,  路新春

IPC分类号： G01L19/12

摘要： 本实用新型公开了一种风压误报警消除装置，风压误报警消除装置包括：工作腔室；风管，风管的一端与工作腔室连通且另一端与风管厂务端连通；压力检测装置，与工作腔室连通以检测工作腔室内的压力，压力检测装置包括：传感器压力表，用于检测工作腔室内的压力，传感器压力表内气压从工作范围内的值变化到工作范围极限值的时间为T1，工作腔室内气压从工作范围内的值短暂超出工作范围极限值后再恢复到工作范围内的时间为T2；调节阀，与传感器压力表相连，且调节阀调节传感器压力表与工作腔室之间的气体流动速度以使T1和T2满足：T1>T2。根据本实用新型的风压误报警消除装置，有利于解决排风管道内部正常瞬时压力波动对厂务系统造成误报警的问题。

公开(公告)号：CN207873955U

公开(公告)日：2018-09-18

申请号：CN201820203198.7

申请日：2018-02-05

申请人： 清华大学 ,  天津华海清科机电科技有限公司

发明人： 贾弘源 ,  董兵超 ,  许振杰 ,  姚宇 ,  王玉 ,  尹士龙 ,  崔凯 ,  王同庆 ,  路新春

IPC分类号： B24B41/00

摘要： 本实用新型公开了一种用于刷洗模块的测量和校准工装，所述刷洗模块包括两个刷子、支撑部和固定套，每个刷子两端分别设在支撑部上，每个刷子两端分别设有固定套，工装设在两个刷子间以测量和校准两个刷子间的间距，工装包括手柄和测量块，测量块连接在手柄上，测量块插接在固定套之间以测量固定套相切面间的间距；手柄与测量块限定出第一测量区域和第二测量区域，两个刷子同一端的固定套分别位于第一测量区域和第二测量区域内，每个测量区域均包括水平面和竖直面，固定套与水平面相切且固定套与竖直面相切。根据本实用新型的用于刷洗模块的测量和校准工装，校准刷子的角度准确且一致，节省校准时间，提高操作效率，便于检验核实。

公开(公告)号：CN208020018U

公开(公告)日：2018-10-30

申请号：CN201820357514.6

申请日：2018-03-15

申请人： 清华大学 ,  天津华海清科机电科技有限公司

发明人： 许振杰 ,  董兵超 ,  贾弘源 ,  姚宇 ,  尹士龙 ,  崔凯 ,  王同庆 ,  李昆 ,  路新春

IPC分类号： B24B57/02

摘要： 本实用新型公开了一种自清洁抛光液输送装置，自清洁抛光液输送装置包括：基座、悬臂、清洗装置、用于向容水腔内供水的第一输水管和抛光液管，基座上设有基座孔；悬臂可转动地设在基座上，悬臂内限定出容水腔，悬臂下端设有连通容水腔的喷嘴；清洗装置设在悬臂上方以对悬臂进行喷水清洗；第一输水管穿过基座孔后与容水腔连通；抛光液管向上穿过基座孔后向下伸出悬臂。由此，通过基座、悬臂和清洗装置配合，能够把悬臂上的抛光液冲洗掉，可以保证悬臂的表面清洁，从而可以防止抛光液在悬臂上产生结晶，进而可以提升产品的抛光质量。