公开(公告)号：CN113514913B

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202110782375.8

申请日：2021-07-12

申请人： 清华大学深圳国际研究生院

发明人： 周倩 ,  倪凯 ,  梁久久 ,  王翀宇 ,  陈垚鑫

IPC分类号： G02B5/18

摘要： 本发明公开了一种大面积光栅的制备方法，包括：S1：搭建干涉曝光光路；S2：选定制备大面积光栅所需的光刻胶和基底材料，再依次进行匀胶和前烘步骤；S3：预设曝光时间并曝光；S4：预设显影时间并显影；S5：观察基底中心的光刻胶是否已经溶解完，如果是，则减小显影时间并再次执行步骤S2～S4，如果否，则继续执行步骤S6：S6：观察基底中心的光刻胶占空比是否已经达到光刻胶的极限分辨率，如果是，则继续执行步骤S7，如果否，则增加曝光时间并再次执行步骤S2～S5；S7：测量达到光刻胶的极限分辨率的面积，该面积为干涉曝光光路能够曝光得到的光栅的最大面积，并记录此时的曝光时间和显影时间。本发明降低了大面积光栅制造的成本。

公开(公告)号：CN113514913A

公开(公告)日：2021-10-19

申请号：CN202110782375.8

申请日：2021-07-12

申请人： 清华大学深圳国际研究生院

发明人： 周倩 ,  倪凯 ,  梁久久 ,  王翀宇 ,  陈垚鑫

IPC分类号： G02B5/18

摘要： 本发明公开了一种大面积光栅的制备方法，包括：S1：搭建干涉曝光光路；S2：选定制备大面积光栅所需的光刻胶和基底材料，再依次进行匀胶和前烘步骤；S3：预设曝光时间并曝光；S4：预设显影时间并显影；S5：观察基底中心的光刻胶是否已经溶解完，如果是，则减小显影时间并再次执行步骤S2～S4，如果否，则继续执行步骤S6：S6：观察基底中心的光刻胶占空比是否已经达到光刻胶的极限分辨率，如果是，则继续执行步骤S7，如果否，则增加曝光时间并再次执行步骤S2～S5；S7：测量达到光刻胶的极限分辨率的面积，该面积为干涉曝光光路能够曝光得到的光栅的最大面积，并记录此时的曝光时间和显影时间。本发明降低了大面积光栅制造的成本。