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公开(公告)号：CN218747087U
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202223305511.3
申请日：2022-12-08
申请人： 湖北鼎汇微电子材料有限公司 , 武汉鼎龙汇达材料科技有限公司 , 湖北鼎龙控股股份有限公司
IPC分类号： B24B53/017
摘要： 本实用新型涉及一种化学机械抛光修整器，所述化学机械抛光修整器包括：圆盘基体、沟槽以及固定在圆盘基体上的磨料颗粒，其中沟槽分布在圆盘基体表面，磨料颗粒分布在所述沟槽区域以外；本实用新型所涉及的化学机械抛光修整器通过在表面设计沟槽，有利于碎屑以及研磨副产物的排出，降低晶圆划伤的风险，同时避免碎屑粘附于磨料颗粒之间，延长修整器的工作寿命，除此之外，由于修整器表面设计有沟槽，还可以促进抛光液更加均匀的分布，提高研磨效率，且该化学机械抛光修整器结构简单，便于加工与生产。
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公开(公告)号：CN115674018A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202211355468.3
申请日：2022-11-01
申请人： 武汉鼎龙汇达材料科技有限公司
IPC分类号： B24B53/017
摘要： 本发明涉及半导体制备技术中的抛光技术领域，具体涉及一种化学机械抛光修整盘。该修整盘包括基座和镶嵌在基座内的磨料，所述磨料凸出于所述基座的工作面，所述磨料至少包括含有n条棱线的多面体颗粒磨料和含有m个面的多面体颗粒磨料，其中，n≥8，m≥6，n和m为整数。所述n条棱线的多面体颗粒磨料和所述m个面的多面体颗粒磨料的数量比例为10:90‑90:10。本发明的化学机械抛光修整盘，提供具有合适棱线的多面体颗粒磨料和合适面数的多面体颗粒磨料，使磨料兼具适当的切削能力及较强的清理能力，可以有效延长抛光垫使用寿命，减少机台维护次数，大幅提高抛光效率的同时节省成本。
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公开(公告)号：CN115679395A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202211355454.1
申请日：2022-11-01
申请人： 武汉鼎龙汇达材料科技有限公司
IPC分类号： C25D3/20 , C25D7/00 , C25D15/00 , B24B53/017
摘要： 本发明涉及一种用于制造抛光垫修整器的镀铁溶液，包括：三价铁离子的草酸配合物，pH缓冲剂，氯化盐类辅助试剂，去应力剂，润湿剂；所述镀铁溶液的pH为3.0‑3.8。本发明提供一种用于制造抛光垫修整器的镀铁溶液的制备方法。本发明提供一种用于制造抛光垫修整器的镀铁溶液的电镀工艺。本发明还提供一种用于制造抛光垫修整器的镀铁溶液的电镀工艺得到的抛光垫修整器。本发明镀铁溶液采用三价铁离子作为主盐，并采用草酸铵与三价铁离子络合形成稳定的可溶性铁盐，消除了常用的二价铁离子主盐在镀液中的氧化问题，防止了氢氧化铁的生成和沉淀，解决了镀铁溶液的稳定性问题。
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公开(公告)号：CN117325081A
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202311510612.0
申请日：2023-11-14
申请人： 武汉鼎龙汇达材料科技有限公司
IPC分类号： B24B53/017 , B24D11/00
摘要： 本发明公开了一种组合式CMP抛光垫修整器，包括一个修整器基体、刷毛和磨片，所述修整器基体加工有植纤维槽、安装孔、定位孔、磨片安装槽和基体顶面，所述刷毛是由高分子材料制备而成，所述磨片包括磨片基体、连接层、磨粒和磨片顶面，所述磨片基体位于磨片安装槽内设置，所述磨片基体和磨片安装槽的内壁之间通过固定料相连，所述刷毛通过植入纤维的方式固定在修整器基体上构成毛刷区域，所述刷毛设置在植纤维槽内设置，所述刷毛和植纤维槽的内壁之间通过高分子胶相连，所述刷毛包括刷毛顶面。本发明中能够有效避免修整器在使用末期由于犁削作用衰减导致的清理能力降低的情况。
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公开(公告)号：CN118617326A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410387447.2
申请日：2024-04-01
申请人： 武汉鼎龙汇达材料科技有限公司
IPC分类号： B24D18/00 , B23K26/362 , B24B53/017
摘要： 本申请涉及一种金刚石修整器制造方法及其金刚石修整器，其包括：将陶瓷粉末制成陶瓷衬底；在陶瓷衬底上表面激光雕刻呈阵列布置的且具有金字塔外形的塔体；在陶瓷衬底上表面沉积金刚石薄膜保护层；将陶瓷衬底装配在基体上得到金刚石修整器。本发明中，采用激光雕刻的方式在陶瓷衬底上表面制作塔体，与陶瓷衬底非接触加工，使陶瓷衬底不会变形和产生内应力；不需要模具压制烧结，因此避免了脱模过程中塔体结构损坏的可能；可根据修整器的实际使用调整塔体的参数，不会局限于模具的固定结构而重新开模，同时能保证塔体的统一性和一致性。
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