公开(公告)号：CN115592557A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202211350571.9

申请日：2022-10-31

申请人： 湖南凯通电子有限公司(CN)

发明人： 王共海 ,  李国春 ,  邓统 ,  林春燕 ,  王旭锦

IPC分类号： B24B37/08 ,  B24B37/34 ,  B24B47/22 ,  B24B49/00 ,  B24B55/03

摘要： 本发明涉及陶瓷基板预处理技术领域，具体涉及陶瓷基板的预处理设备及其工作方法，包括研磨底座、研磨机构、扇形上下料平台、取料驱动机构和喷淋机构，研磨底座上通过多个支撑架固定安装有上扇形研磨箱和下扇形研磨箱，研磨机构包括两组研磨组件，两组研磨组件分别设置在上扇形研磨箱和下扇形研磨箱上，本发明，在对陶瓷基板进行预处理时，不仅便于对陶瓷基板的上下表面进行同时研磨抛光处理的同时，可很好的控制陶瓷基板上下表面的平行度，同时可对陶瓷基板上下表面的平行度进行一定的检测，且在对陶瓷基板进行预处理时，无需一批一批的加工处理，可对陶瓷基板进行持续上料的处理，大大提高了陶瓷基板的预处理加工效率和处理质量。