一种用于对20(S)喜树碱结构进行修饰的化合物及其合成方法

    公开(公告)号:CN118047687A

    公开(公告)日:2024-05-17

    申请号:CN202410130683.6

    申请日:2024-01-29

    发明人: 杨云明 张建平

    摘要: 本发明提供了一种用于对20(S)喜树碱结构进行修饰的化合物,还提供了其制备方法:S1,以4,5‑二氟‑2‑硝基苯甲酸作为起始原料,先用苄氧基取代苯环5号位的氟原子,得到化合物2;S2,将化合物2中的苯环2号位的硝基还原成氨基,得到化合物3;S3,将化合物3中的苯环2号位的氨基转变为氨基的衍生物,得到化合物4;S4,将化合物3中苯环上的羧基变成Weinreb酰胺,得到化合物5;S5,用格氏试剂和第四步中的Weinreb酰胺反应,生成相应的酮,即得到化合物6;S6,用钯碳加氢脱去氨基上的Cbz保护基团和苯环5号位上的苄基,得到相应的目标产物,即化合物7。本发明制备的化合物能够对20(S)喜树碱结构进行修饰,且其制备方法简单易得,制备纯度高。