一种低衰减环形纤芯光纤

    公开(公告)号:CN110244404A

    公开(公告)日:2019-09-17

    申请号:CN201910527466.X

    申请日:2019-06-18

    Abstract: 本发明公开了一种低衰减环形纤芯光纤,涉及低衰减光纤领域。该光纤由内至外依次包括内石英包层、环形纤芯和外石英包层,其中,内石英包层和外石英包层均由掺钾、锂或硼的二氧化硅组成,环形纤芯由仅掺锗或者锗钾、锗锂共掺的二氧化硅组成;内石英包层的折射率与外石英包层的折射率相等,且环形纤芯的折射率大于内石英包层的折射率。该光纤还包括位于内石英包层与环形纤芯之间的内下凹石英包层以及位于环形纤芯与外石英包层之间的外下凹石英包层;内下凹石英包层和外下凹石英包层均由仅掺氟或者氟钾、氟锂共掺的二氧化硅组成,内下凹石英包层的折射率与外下凹石英包层的折射率相等。本发明提供的光纤具有低衰减和高阶OAM模式传输的优点。

    一种低衰减环形纤芯光纤

    公开(公告)号:CN110244404B

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN201910527466.X

    申请日:2019-06-18

    Abstract: 本发明公开了一种低衰减环形纤芯光纤,涉及低衰减光纤领域。该光纤由内至外依次包括内石英包层、环形纤芯和外石英包层,其中,内石英包层和外石英包层均由掺钾、锂或硼的二氧化硅组成,环形纤芯由仅掺锗或者锗钾、锗锂共掺的二氧化硅组成;内石英包层的折射率与外石英包层的折射率相等,且环形纤芯的折射率大于内石英包层的折射率。该光纤还包括位于内石英包层与环形纤芯之间的内下凹石英包层以及位于环形纤芯与外石英包层之间的外下凹石英包层;内下凹石英包层和外下凹石英包层均由仅掺氟或者氟钾、氟锂共掺的二氧化硅组成,内下凹石英包层的折射率与外下凹石英包层的折射率相等。本发明提供的光纤具有低衰减和高阶OAM模式传输的优点。

    VAD制备弯曲不敏感光纤预制棒的喷灯及光纤预制棒

    公开(公告)号:CN111875248B

    公开(公告)日:2022-06-17

    申请号:CN202010664151.2

    申请日:2020-07-10

    Abstract: 本申请涉及VAD制备弯曲不敏感光纤预制棒的喷灯及光纤预制棒,包括柱形喷灯体,柱形喷灯体上设有中心供料孔以及围绕中心供料孔的多层环形分布气孔;多层环形分布气孔包括从内向外依次分布的内层火焰气孔和外层火焰气孔;内层火焰气孔包括从内向外依次分布的内层氧气气孔和内层氢气气孔;外层火焰气孔包括从内向外依次分布的外层氢气气孔和外层氧气气孔;外层火焰气孔沿气体喷射方向向外倾斜,且倾斜角度等于外层火焰气孔中心线与中心供料孔中心线的夹角。本申请能够解决相关技术中为了补偿光学包层中的氟元素向芯层扩散而引起芯层折射率下降,通过增加芯层GeO2掺杂,保证芯层折射率符合预期设计,进而引起光纤瑞利散射损耗增大的问题。

    一种OVD沉积工艺的生产系统及OVD沉积工艺

    公开(公告)号:CN114507006A

    公开(公告)日:2022-05-17

    申请号:CN202210198810.7

    申请日:2022-03-02

    Abstract: 本申请涉及一种OVD沉积工艺的生产系统及OVD沉积工艺,光棒夹持装置组设于反应腔室内,并用于对芯棒进行夹持、旋转以及驱使芯棒在水平方向上做往复直线运动;多喷灯沉积设备组设于反应腔室内,且其沉积区域至少部分覆盖于芯棒;喷灯补料设备可移动地组设于反应腔室内,且其沉积区域至少部分覆盖于芯棒;测径装置可移动地组设于反应腔室内,并用于检测芯棒的外径;控制装置与光棒夹持装置、多喷灯沉积设备、喷灯补料设备和测径装置相连接,并用于控制光棒夹持装置、多喷灯沉积设备工作,以及根据测量的外径与设定外径分布标准曲线,控制喷灯补料设备工作。本申请可以解决相关技术中多喷灯的OVD工艺存在的光棒均匀性差问题。

    一种用于光纤预制棒包层沉积的供料装置

    公开(公告)号:CN113912281A

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202111114819.7

    申请日:2021-09-23

    Abstract: 本申请涉及一种用于光纤预制棒包层沉积的供料装置,其包括蒸发罐、液体分布器、刮膜机构和加热机构,蒸发罐上组设有D4液体进料管和D4蒸汽出料管;液体分布器位于蒸发罐内,液体分布器上开设有与D4液体进料管连通的若干布料孔,布料孔用于供D4液体流至蒸发罐内壁上;刮膜机构包括刮膜板,刮膜板位于蒸发罐内,并用于将蒸发罐内壁上的D4液体刮涂成液膜;加热机构组设于蒸发罐外,并用于加热蒸发罐。本申请能够解决相关技术中存在蒸发器蒸发量小、D4蒸汽输出一致性和均匀性差的问题。

    一种适用于VAD法沉积的喷灯

    公开(公告)号:CN109694185A

    公开(公告)日:2019-04-30

    申请号:CN201910012989.0

    申请日:2019-01-07

    Abstract: 本发明公开了一种适用于VAD法沉积的喷灯,包括灯体,灯体上开设有呈一字型的供料孔以及围绕在供料孔外侧的多层环形气孔;多层环形气孔的形状与供料孔的形状相适配,其包括从内向外依次布置的内层隔离气孔、内层火焰孔、外层火焰孔和外层隔离气孔;内层火焰孔包括内层氢气孔和内层氧气孔,外层火焰孔包括外层氢气孔和外层氧气孔;供料孔、内层氢气孔、内层氧气孔、外层氢气孔和外层氧气孔分别被分隔并形成多个支孔;支孔、内层隔离气孔和外层隔离气孔分别连通有进气管道,进气管道上设有流量调节阀。采用连续区域沉积,沉积端面更为平缓、均匀,有利于沉积端面的温度控制;调节外层不同区域的氢气流量,可以均匀温度场,减少粉棒开裂、断裂问题。

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