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公开(公告)号：CN103805967A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201210459091.6
申请日：2012-11-14
申请人： 理想能源设备(上海)有限公司
IPC分类号： C23C16/46
摘要： 本发明涉及一种金属有机化学气相沉积装置。所述金属有机化学气相沉积装置包括反应腔、传输腔，传输装置，所述反应腔上部具有喷淋组件，所述反应腔下部设置有加热器，所述喷淋组件和所述加热器之间设置有承载部件，用以承载基片，所述反应腔还具有致动装置，所述致动装置驱动所述承载部件，所述承载部件包括上层承载部件与下层承载部件，所述上层承载部件与下层承载部件之间具有缓冲间隙，所述下层承载部件被所述加热器以非接触加热方式加热，且所述上层承载部件被所述下层承载部件以非接触传热方式加热并同时加热设置在其上的基片，所述传输装置用以在所述传输腔和所述反应腔之间传输所述上层承载部件。本发明的金属有机化学气相沉积装置可以使得待处理基片的受热更均匀。
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公开(公告)号：CN103805967B
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201210459091.6
申请日：2012-11-14
申请人： 理想能源设备(上海)有限公司
IPC分类号： C23C16/46
摘要： 本发明涉及一种金属有机化学气相沉积装置。该装置包括反应腔、传输腔、传输装置，反应腔上部具有喷淋组件，下部设有加热器，喷淋组件和加热器之间设有用以承载基片的承载部件，反应腔还具有驱动承载部件的致动装置，该承载部件包括上层承载部件与下层承载部件，上、下层承载部件之间具有缓冲间隙，下层承载部件被加热器以非接触加热方式加热，上层承载部件被下层承载部件以非接触传热方式加热并同时加热设于其上的基片，传输装置在传输腔和反应腔之间传输上层承载部件，上层承载部件在沿喷淋组件到承载部件的方向上覆盖下层承载部件，以避免反应气体直接落入下层承载部件上。本发明的金属有机化学气相沉积装置可以使得待处理基片的受热更均匀。
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公开(公告)号：CN202116643U
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201120207153.5
申请日：2011-06-20
申请人： 理想能源设备(上海)有限公司
IPC分类号： C23C16/44
摘要： 本实用新型公开了一种衬底处理设备，包括处理腔和直线运动装置；处理腔具有开孔；直线运动装置包括驱动杆和波纹管；驱动杆穿过所述处理腔上的开孔并延伸到处理腔外，且驱动杆能够沿其轴线方向做直线运动并在衬底处理设备处理衬底时处于第一位置；波纹管的一端密封连接处理腔开孔周围的处理腔外壁，另一端密封连接驱动杆位于处理腔外的部分；所述衬底处理设备还包含密封机构，其包括设置在位于处理腔内部的驱动杆上的密封板，该密封板在驱动杆处于第一位置时，密封开孔。本实用新型通过在驱动杆位于处理腔密封空间内的部分上设置密封机构，以密封处理腔上的开孔，防止反应气体进入波纹管内部，从而有效解决现有技术中波纹管被反应气体侵蚀损害的问题。
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公开(公告)号：CN202246856U
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201120346715.4
申请日：2011-09-16
申请人： 理想能源设备(上海)有限公司
IPC分类号： C23C16/455
摘要： 本实用新型涉及一种化学气相薄膜沉积设备，其包含了环绕所述基板支承座设置的泵环，上面分布有若干均气孔；至少一个抽气孔设置在反应腔底部并位于基板支承座的周围；所述泵环还与反应腔体的底板间隔了大于等于50mm的距离，以形成连通所述至少一个抽气孔的排气通道，因而反应腔体中的气体可以比较均匀地从所述泵环上的若干个均气孔流入所述排气通道，并最终流向所述至少一个抽气孔；从而使得所述基板支承座表面上气体流速和压力分布均匀，提高基板表面薄膜沉积的均匀性。
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公开(公告)号：CN202181352U
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201120207152.0
申请日：2011-06-20
申请人： 理想能源设备(上海)有限公司
CPC分类号： Y02P70/521
摘要： 本实用新型公开了一种连续沉积系统，其包括依次设置的装载台、两个以上沉积腔以及卸载台；其中，所述装载台和所述卸载台分别用于装载和卸载大面积基板，所述装载台和所述卸载台中至少一个具有基板检测调节机构；所述基板检测调节机构包括检测机构和位置调节机构；所述检测机构检测所述基板位置；所述位置调节机构根据所述检测机构的检测结果调节所述基板相对所述装载台或卸载台的位置。本实用新型在当基板在被送入各腔室之前的装载台处以及当基板在各腔室内被处理完毕送出至卸载台处时，能及时检测并调整基板的位置，保证基板处于预设的理想位置，因此可有效避免基板因位置偏移而与腔室发生碰撞，导致损伤甚至损坏，提高生产效率和产品的优良率。
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