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公开(公告)号：CN116223374B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202310054182.X
申请日：2023-02-03
申请人： 电子科技大学
摘要： 本发明公开了一种光学相干断层多点分布式成像方法，将相干光源在测量臂和参考臂分成若干子光路干涉对，通过对参考臂进行偏移，使得每个子光路干涉对在系统成像深度范围内不同的深度区间内干涉成像，最后根据预先设定的A扫窗口位置及宽度对每个干涉对进行截断与后处理，得到每个相应测点的A扫图。相较于传统机械式扫描方法，本发明能够同步高速地采集多个兴趣点的断层图像，具有布点灵活、检测原位同步等优点，特别是对多测点同步要求高的高频动态过程监测，以及测点分布在狭窄、凹凸复杂的空间等机械式扫描难以扫描到的应用场景。另外，相较于现有的多探头系统实现多点分布式测量，本发明具有同步性高、算力功耗小、集成度高、硬件成本低的优势。
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公开(公告)号：CN118342143B
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202410479883.2
申请日：2024-04-19
申请人： 电子科技大学
IPC分类号： B23K26/70 , G01B11/22 , B23K26/382
摘要： 本发明公开了一种激光微纳钻孔深度实时检测方法，先对加工样品进行A扫，然后通过光谱仪捕获样品反射至测量臂的光束与参考臂中的光束发生干涉后的干涉信号，将该干涉信号重采样进行波长域到波束域的变换，通过已知的当前深度向上和向下若干个像素构建一个检测序列，根据序列中的每一个像素的位置对应的频率生成若干组零差波形，并用变换后的波束域信号与零差波形相乘，并把结果中的各项相加作低通滤波得到信号的同相分量和正交分量，求同相分量和正交分量的平方和开根得到信号的幅值，将这若干组的信号比较，最大值对应像素的位置即为当前的加工深度，通过对当前深度决策调整激光实现实时控制激光加工的深度。
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公开(公告)号：CN116223374A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310054182.X
申请日：2023-02-03
申请人： 电子科技大学
摘要： 本发明公开了一种光学相干断层多点分布式成像方法，将相干光源在测量臂和参考臂分成若干子光路干涉对，通过对参考臂进行偏移，使得每个子光路干涉对在系统成像深度范围内不同的深度区间内干涉成像，最后根据预先设定的A扫窗口位置及宽度对每个干涉对进行截断与后处理，得到每个相应测点的A扫图。相较于传统机械式扫描方法，本发明能够同步高速地采集多个兴趣点的断层图像，具有布点灵活、检测原位同步等优点，特别是对多测点同步要求高的高频动态过程监测，以及测点分布在狭窄、凹凸复杂的空间等机械式扫描难以扫描到的应用场景。另外，相较于现有的多探头系统实现多点分布式测量，本发明具有同步性高、算力功耗小、集成度高、硬件成本低的优势。
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公开(公告)号：CN118342143A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202410479883.2
申请日：2024-04-19
申请人： 电子科技大学
IPC分类号： B23K26/70 , G01B11/22 , B23K26/382
摘要： 本发明公开了一种激光微纳钻孔深度实时检测方法，先对加工样品进行A扫，然后通过光谱仪捕获样品反射至测量臂的光束与参考臂中的光束发生干涉后的干涉信号，将该干涉信号重采样进行波长域到波束域的变换，通过已知的当前深度向上和向下若干个像素构建一个检测序列，根据序列中的每一个像素的位置对应的频率生成若干组零差波形，并用变换后的波束域信号与零差波形相乘，并把结果中的各项相加作低通滤波得到信号的同相分量和正交分量，求同相分量和正交分量的平方和开根得到信号的幅值，将这若干组的信号比较，最大值对应像素的位置即为当前的加工深度，通过对当前深度决策调整激光实现实时控制激光加工的深度。
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