口腔护理设备和方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115916004A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202180038345.4

    申请日:2021-05-20

    Abstract: 一种口腔护理设备(8)适于生成用于执行口腔清洁功能的RF场。该设备包括用于接收在口腔中的清洁单元(10),该清洁单元(10)包括导体布置(18、19),该导体布置(18、19)由驱动信号驱动以生成清洁口腔中的表面的RF场。还提供了一种用于感测由RF能量与口腔中的物体的相互作用产生的电信号或电磁信号的部件,该电信号或电磁信号用于利用用于生成用于清洁或治疗的RF场的相同RF系统组件来执行感测功能。

    口腔处理设备
    2.
    发明公开
    口腔处理设备 审中-实审

    公开(公告)号:CN115666443A

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202180038443.8

    申请日:2021-05-20

    Abstract: 本发明提供了口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件,其用于限制具有在100kHz到300MHz范围内的频率的电磁场并且适于插入到口腔中,口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件可以与基部单元组合而形成口腔清洁设备的一部分,且包括与口腔处理单元耦合的第一清洁元件。口腔处理单元还包括与口腔处理单元耦合的材料结构,其适于接收初始电磁场并输出经聚焦的电磁场,其中材料结构具有无源电磁场聚焦功能,该功能将所接收的初始电磁场聚焦在材料结构的近场区域中。本发明的另一方面提供了口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件,其用于限制和调制具有在1MHz到300GHz范围内的频率的电磁场并且适于插入到口腔中,口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件可以与基部单元组合而形成口腔清洁设备的一部分且包括与口腔处理单元耦合的第一清洁元件。口腔处理单元还包括电磁场聚焦元件,其适于接收具有初始频率的电磁场并输出经聚焦的电磁场。电磁场聚焦元件包括具有第一无源电磁场聚焦功能的第一材料结构,第一材料结构通过执行以下各项中的一项或多项来将经调制的电磁场限制在距第一材料结构给定距离的位置处:第一材料结构的近场区域中的衰减率控制功能;或者对电磁场的传播方向进行修改的功能。电磁场聚焦元件具有对经限制的电磁场进行调制从而生成经调制的电磁场的调制功能。

    口腔护理设备和方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115916004B

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202180038345.4

    申请日:2021-05-20

    Abstract: 一种口腔护理设备(8)适于生成用于执行口腔清洁功能的RF场。该设备包括用于接收在口腔中的清洁单元(10),该清洁单元(10)包括导体布置(18、19),该导体布置(18、19)由驱动信号驱动以生成清洁口腔中的表面的RF场。还提供了一种用于感测由RF能量与口腔中的物体的相互作用产生的电信号或电磁信号的方法,该电信号或电磁信号用于利用用于生成用于清洁或治疗的RF场的相同RF系统组件来执行感测功能。

    致动器设备和致动方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111937169A

    公开(公告)日:2020-11-13

    申请号:CN201980020956.9

    申请日:2019-03-20

    Abstract: 致动器设备包括将电活性聚合物材料并入的致动器构件(62)。控制器(72)控制致动信号和叠加的AC信号的供应,其具有引起加热的效应。致动器构件具有对施加的不同水平的致动信号的已知的一组变形或偏移响应,以及对施加的不同水平的AC信号的已知的一组相反方向的变形或偏移响应。为了实现加速致动响应,致动信号被供应,其具有比已知为实现给定的期望致动水平所必需的更高的信号水平,并且AC信号被供应,其具有足以将得到的致动响应降低到期望的水平的水平。在示例中,在实现期望的致动水平之后,致动信号和AC信号的过驱动部分可以渐缩。

    基于电活性材料的致动器设备
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113519070A

    公开(公告)日:2021-10-19

    申请号:CN202080018052.5

    申请日:2020-01-17

    Abstract: 一种致动器设备具有离子电活性材料致动器单元(50)。所述离子电活性材料致动器单元包括整体膜(52),其中,第一致动电极(54)和第二致动电极(56)在所述整体膜(52)上。在所述致动电极(54、56)之间施加DC驱动信号以引起从所述整体膜(52)的一个部分朝向所述整体膜(52)的另一部分的电荷迁移。另外,在所述整体膜(52)的第一表面上提供紧密间隔的测量电极对(64、66),其间距小于在测量电极(64、66)之间的位置处的所述整体膜(52)的厚度(h)的10倍。使用局部表面效应阻抗变化作为信号测量的基础,以用于提供与所述设备的致动状态有关的反馈。

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