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公开(公告)号：CN100522566C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200480012895.5
申请日：2004-05-10
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·F·M·亨德里克斯 , S·斯塔林加 , H·J·戈斯申斯 , G·W·特胡特 , A·M·范德里 , F·J·P·舒尔曼斯 , R·J·M·沃勒斯 , R·库特 , B·H·W·亨德里克斯 , L·P·巴克
CPC classification number: B29C59/022 , B29C2059/023 , B29D17/005 , B29L2017/003 , G11B7/00736 , G11B7/263
Abstract: 在所介绍的用于生产承载作为光学结构的相同印模印记的多个主体的方法中，首先通过在辅助主体(16)的表面(15)上附着颗粒(14)而生产出印模(13)；然后，采用印模(13)在多个主体(10)上产生印记(11)。光学结构可接受照射，从而在屏幕上产生表示密钥的斑纹图样。利用现有技术手段复制给定的光学结构是基本不可能的。光学结构代表物理单向函数，其易于在正向方向上计算而不能反向计算。这样，这类光学结构可用于构建出为与主体(10)相关的信息载体中所含的用户信息进行访问/复制提供保护的系统。光学结构的可再现性使本方法适用于光盘。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1527139A
公开(公告)日：2004-09-08
申请号：CN200410008010.6
申请日：2004-03-05
Applicant: ASML荷兰有限公司 , 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·F·M·肯德里克斯 , E·伦德林克 , R·蒙肖维 , A·M·范德里 , G·W·特胡夫特
CPC classification number: G03F7/70483 , G03F7/70216 , G03F9/7065
Abstract: 一种光刻投影装置，包括：辐射系统，用于产生辐射的投射光束；支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想的图案而对投射光束构图；基底台，用于固定基底；投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上，以及偏轴对准系统，包括辐射源，该辐射源照射可用于对准的至少一个标记，该标记位于固定在所述基底台的基底上，辐射源包括用于产生具有高亮度和相对较窄的第一波长谱的激光或类似激光射线的第一装置，以及用于引导射线并且产生基本上在该射线波长范围内具有第二波长谱的光的第二装置，其中第二波长谱基本上比第一波长谱宽。
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公开(公告)号：CN1787907A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200480012895.5
申请日：2004-05-10
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·F·M·亨德里克斯 , S·斯塔林加 , H·J·戈斯申斯 , G·W·特胡特 , A·M·范德里 , F·J·P·舒尔曼斯 , R·J·M·沃勒斯 , R·库特 , B·H·W·亨德里克斯 , L·P·巴克
CPC classification number: B29C59/022 , B29C2059/023 , B29D17/005 , B29L2017/003 , G11B7/00736 , G11B7/263
Abstract: 在所介绍的用于生产承载作为光学结构的相同印模印记的多个主体的方法中，首先通过在辅助主体(16)的表面(15)上附着颗粒(14)而生产出印模(13)；然后，采用印模(13)在多个主体(10)上产生印记(11)。光学结构可接受照射，从而在屏幕上产生表示密钥的斑纹图样。利用现有技术手段复制给定的光学结构是基本不可能的。光学结构代表物理单向函数，其易于在正向方向上计算而不能反向计算。这样，这类光学结构可用于构建出为与主体(10)相关的信息载体中所含的用户信息进行访问/复制提供保护的系统。光学结构的可再现性使本方法适用于光盘。
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公开(公告)号：CN100520581C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200410008010.6
申请日：2004-03-05
Applicant: ASML荷兰有限公司 , 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·F·M·肯德里克斯 , E·伦德林克 , R·蒙肖维 , A·M·范德里 , G·W·特胡夫特
CPC classification number: G03F7/70483 , G03F7/70216 , G03F9/7065
Abstract: 一种光刻投影装置，包括：-辐射系统，用于产生辐射的投射光束；-支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想的图案而对投射光束构图；-基底台，用于固定基底；-投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上，以及-偏轴对准系统，包括辐射源，该辐射源照射可用于对准的至少一个标记，该标记位于固定在所述基底台的基底上，辐射源包括用于产生具有高亮度和相对较窄的第一波长谱的激光或类似激光射线的第一装置，以及用于引导射线并且产生基本上在该射线波长范围内具有第二波长谱的光的第二装置，其中第二波长谱基本上比第一波长谱宽。
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公开(公告)号：CN1791915A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200480013679.2
申请日：2004-05-13
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： C·布斯奇 , J·T·A·维德比克 , A·M·范德里
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/252 , B82Y10/00 , G11B7/24 , G11B7/2585 , G11B7/259 , G11B7/2595
Abstract: 本发明涉及一种用于信息的光存储和恢复的记录载体，包括：基底(1)，用于保存信息的活性层(2)，该活性层对信息的存储和恢复使用位单元编码，和用于在向活性层中写入信息期间屏蔽能量的能量屏蔽层。优选地，能量屏蔽层包括图案化反射掩膜层(3)或可转换掩膜层。优选地，反射掩膜层包括具有相对高导热率的材料。优选地，图案化反射掩膜层包括金属或金属合金，优选包括银化铝、金或铜。优选地，可转换掩膜层包括热变色层且在从活性层中恢复信息期间基本上是透明的。依据本发明，记录载体具有相当高的信息密度。
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公开(公告)号：CN1726536A
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：CN200380106485.2
申请日：2003-11-20
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: G11B7/0037 , G11B7/0045 , G11B7/007 , G11B7/013 , G11B7/24 , G11B7/26
CPC classification number: G11B7/24085 , G11B7/007 , G11B7/14 , G11B7/24 , G11B7/263
Abstract: 本发明涉及一种用于信息的光存储和检索的存储介质，该存储介质包括：衬底和用于保存数据的活动层。根据本发明，活动层配有位单元(14，14’，…)的预定图案(4)。优选地，衬底配有位单元(14，14’，…)的预定图案(4)。该存储介质具有相对较高的数据密度。
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