太阳能电池制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118231514A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202211635207.7

    申请日:2022-12-19

    IPC分类号: H01L31/18 H01L31/0352

    摘要: 本发明提供一种太阳能电池制备方法,包括如下步骤:选用N型硅片,在其正面制绒;在制绒后的硅片正面形成选择性发射极,所述选择性发射极包括重掺杂区、轻掺杂区,所述重掺杂区与所述轻掺杂区在硅片的厚度方向上具有高度差;在所述重掺杂区的正面形成正面金属电极。该方法中,所述重掺杂区与所述轻掺杂区在硅片的厚度方向上具有高度差,扩大了正面的受光面积;且与传统的二次硼扩技术兼容性高,SE提效效果好。

    太阳能电池
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219696463U

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202223422454.7

    申请日:2022-12-19

    摘要: 本实用新型提供一种太阳能电池,包括硅片、位于硅片正面的选择性发射极、正面金属电极,其特征在于,所述选择性发射极包括重掺杂区、轻掺杂区,所述重掺杂区与所述轻掺杂区在硅片的厚度方向上具有高度差,所述正面金属电极位于所述重掺杂区的正面并与其接触。所述重掺杂区与所述轻掺杂区在硅片的厚度方向上具有高度差,扩大了正面的受光面积;且与传统的二次硼扩技术兼容性高,SE技术提效高。

    背接触电池的制备方法及背接触电池

    公开(公告)号:CN114695593A

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202011611034.6

    申请日:2020-12-30

    IPC分类号: H01L31/18

    摘要: 本申请提供了一种背接触电池的制备方法与背接触电池,所述制备方法包括对硅基底进行表面处理后,在硅基底的背面进行扩散,形成第一掺杂层及位于所述第一掺杂层背离硅基底一侧表面上的氧化层,然后,去除第一区域背面的氧化层与第一掺杂层;在硅基底背面依次制备隧穿层与掺杂多晶硅层,然后,去除第二区域背面的掺杂多晶硅层;再依次进行清洗、镀膜与金属化,得到背接触电池。上述制备方法在第一掺杂层及掺杂多晶硅层的去除过程中,通过氧化层对第二区域进行保护,避免第二区域背面的第一掺杂层出现损伤,无需另行制备保护层,后续清洗亦较为方便,简化工艺,降低生产成本。

    太阳能电池的测试方法

    公开(公告)号:CN112825302A

    公开(公告)日:2021-05-21

    申请号:CN201911147740.7

    申请日:2019-11-21

    IPC分类号: H01L21/66 G01R31/389

    摘要: 本申请提供一种太阳能电池的测试方法,包括制备测试样品,所述测试样品包括硅衬底、位于硅衬底一侧表面的隧穿层、设置在所述隧穿层背离硅衬底一侧的掺杂多晶硅层、设置在所述掺杂多晶硅层上的若干金属电极;根据测试样品的结构,确定相邻金属电极之间的电阻R的算式,测试获取N组不同相邻金属电极之间的电阻R;再建立方程组,计算得到所述隧穿层的隧穿电阻R2与隧穿电阻率ρ1、所述掺杂多晶硅层的薄层电阻R3与方阻R□、所述金属电极的接触电阻R4与接触电阻率ρ2。所述测试方法能够测试得到掺杂多晶硅层的方阻、隧穿层的隧穿电阻率与金属电极的接触电阻率,更有效的评估太阳能电池的各膜层与金属电极的性能,利于调整优化相应的工艺制程。

    背接触电池的制备方法及背接触电池

    公开(公告)号:CN114695593B

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202011611034.6

    申请日:2020-12-30

    IPC分类号: H01L31/18

    摘要: 本申请提供了一种背接触电池的制备方法与背接触电池,所述制备方法包括对硅基底进行表面处理后,在硅基底的背面进行扩散,形成第一掺杂层及位于所述第一掺杂层背离硅基底一侧表面上的氧化层,然后,去除第一区域背面的氧化层与第一掺杂层;在硅基底背面依次制备隧穿层与掺杂多晶硅层,然后,去除第二区域背面的掺杂多晶硅层;再依次进行清洗、镀膜与金属化,得到背接触电池。上述制备方法在第一掺杂层及掺杂多晶硅层的去除过程中,通过氧化层对第二区域进行保护,避免第二区域背面的第一掺杂层出现损伤,无需另行制备保护层,后续清洗亦较为方便,简化工艺,降低生产成本。

    太阳能电池的制备方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112951927A

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN201911253664.8

    申请日:2019-12-09

    发明人: 陈海燕 邓伟伟

    摘要: 本申请提供一种太阳能电池的制备方法,包括在硅片的一侧表面制备隧穿层,再于所述隧穿层表面依次制备第一掺杂多晶硅层、第二掺杂多晶硅层,所述第一掺杂多晶硅层的掺杂浓度小于第二掺杂多晶硅层的掺杂浓度,并经后续退火得到掺杂多晶硅层。本申请通过对掺杂多晶硅层的制备过程进行优化,先在靠近隧穿层的位置制备掺杂浓度较低的第一掺杂多晶硅层,再层叠制备掺杂浓度较高的第二掺杂多晶硅层,后续高温退火形成掺杂多晶硅层的过程中,能够减小对隧穿层钝化效果的影响,提高电池性能。