公开(公告)号：CN1503929A

公开(公告)日：2004-06-09

申请号：CN02808303.2

申请日：2002-02-12

Applicant: 硅谷集团公司

Inventor： E·古勒 ,  T·钟 ,  J·刘易冷 ,  E·C·李 ,  R·P·曼达尔 ,  J·C·格拉姆博 ,  T·C·贝特斯 ,  D·R·绍尔 ,  E·R·沃德 ,  J-H·纯 ,  S·韩

IPC: G03F7/16 ,  B05D1/00 ,  B05D3/04 ,  B05C11/02 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C5/0208 ,  B05C5/0245 ,  B05C5/0254 ,  B05D1/005 ,  B05D1/265 ,  B05D3/0486 ,  G03F7/162

Abstract: 一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置，其包括将基片安装在封闭式箱体内，以及使控制气体通过入口进入箱体，控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上，然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和粒子杂质通过出口从箱体排出，并且通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度，含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。

公开(公告)号：CN1503928A

公开(公告)日：2004-06-09

申请号：CN02808302.4

申请日：2002-02-21

Applicant: 硅谷集团公司

Inventor： E·古勒 ,  T·钟 ,  J·刘易冷 ,  E·C·李 ,  R·P·曼达尔 ,  J·C·格拉姆博 ,  T·C·贝特斯 ,  D·R·绍尔 ,  E·R·沃德

IPC: G03F7/16 ,  B05D1/00 ,  B05D3/04 ,  B05C11/02 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C5/0208 ,  B05C5/0245 ,  B05C5/0254 ,  B05D1/005 ,  B05D1/265 ,  B05D3/0486 ,  G03F7/162

Abstract: 一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置，其包括将基片安装在封闭式箱体内，以及使控制气体通过入口进入箱体，控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上，然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和粒子杂质通过出口从箱体排出，并通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度，含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。

公开(公告)号：CN1265245C

公开(公告)日：2006-07-19

申请号：CN02808302.4

申请日：2002-02-21

Applicant: 硅谷集团公司

Inventor： E·古勒 ,  T·钟 ,  J·刘易冷 ,  E·C·李 ,  R·P·曼达尔 ,  J·C·格拉姆博 ,  T·C·贝特斯 ,  D·R·绍尔 ,  E·R·沃德

IPC: G03F7/16 ,  B05D1/00 ,  B05D3/04 ,  B05C11/02 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C5/0208 ,  B05C5/0245 ,  B05C5/0254 ,  B05D1/005 ,  B05D1/265 ,  B05D3/0486 ,  G03F7/162

Abstract: 一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置，其包括将基片安装在封闭式箱体内，以及使控制气体通过入口进入箱体，控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上，然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和粒子杂质通过出口从箱体排出，并通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度，含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。