公开(公告)号：CN101405845B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200780010345.3

申请日：2007-03-23

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 日野守 ,  今井克广 ,  竹内裕人 ,  中森勇一 ,  高桥英则 ,  屋代进

IPC: H01L21/3065 ,  C23C16/455 ,  B01J19/08 ,  H05H1/24

CPC classification number: H01J37/32825 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/3277 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412

Abstract: 本发明在被处理物为大型的情况下，也能够以简单的结构进行表面处理。用第一单元11L和第二单元11R构成表面处理装置1的处理头10。在这些单元11中，用于喷出处理气体的喷出口34沿第一方向延伸。第一方向与使被处理物移动的第二方向正交。两个单元11配置为相互在第一方向错开，且在第二方向错开。两个单元11的喷出口34之间在从第二方向观察的情况下重叠。

公开(公告)号：CN101658076A

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200880009956.0

申请日：2008-03-21

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 竹内裕人 ,  中森勇一 ,  功刀俊介

IPC: H05H1/24 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/304

CPC classification number: H05H1/2406 ,  H05H2001/2412

Abstract: 本发明提供一种等离子处理装置。防止异常放电落在等离子处理装置的接地电极中的喷出口的内面。在等离子处理装置的接地电极(40)中的面向电场施加电极(30)的放电面(42)上配置介电部件(60)。在介电部件(60)形成与电极间的放电空间(1p)连通的喷出导孔(62)，并在接地电极(40)形成与喷出导孔(62)连通的喷出口(41)。使介电部件(60)中的喷出导孔(62)的内面比接地电极(40)中的喷出口(41)的内面突出。在介电部件(60)设置从与接地电极(40)的抵接面(63)沿齐面延长的阶梯面(64)。

公开(公告)号：CN101405845A

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN200780010345.3

申请日：2007-03-23

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 日野守 ,  今井克广 ,  竹内裕人 ,  中森勇一 ,  高桥英则 ,  屋代进

IPC: H01L21/3065 ,  C23C16/455 ,  B01J19/08 ,  H05H1/24

CPC classification number: H01J37/32825 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/3277 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412

Abstract: 本发明在被处理物为大型的情况下，也能够以简单的结构进行表面处理。用第一单元11L和第二单元11R构成表面处理装置1的处理头10。在这些单元11中，用于喷出处理气体的喷出口34沿第一方向延伸。第一方向与使被处理物移动的第二方向正交。两个单元11配置为相互在第一方向错开，且在第二方向错开。两个单元11的喷出口34之间在从第二方向观察的情况下重叠。