磁光记录介质及其制造方法

    公开(公告)号:CN1543645A

    公开(公告)日:2004-11-03

    申请号:CN02816048.7

    申请日:2002-05-14

    CPC classification number: G11B11/10586 G11B7/00

    Abstract: 一磁光盘(1)顺包括有在主表面上存在有凸面和凹槽的一盘基(2);第一介电层(3);包含有在室温下具有垂直磁各向异性的第一磁层(4)、在室温下具有共面磁各向异性的第二磁层(5)、以及在室温下具有垂直磁各向异性的第三磁层(6)的一多层磁膜(10);第二介电层7;反射层8和保护层9,其中该层和膜是顺序层积在盘基(2)上所形成的。第二磁层(5)的磁饱和被设置为从8.80×10-2至1.76×10-1Wb/m2。在此之下的第二磁层(5)的气压被设置为从0.6至3.0Pa。第三磁层(6)包含15atom%至17atom%的Co。

    光记录介质及其制造方法

    公开(公告)号:CN104183248A

    公开(公告)日:2014-12-03

    申请号:CN201210487081.3

    申请日:2007-01-26

    Abstract: 本发明的目的是确保一次性写入型双层记录介质中的记录再现性质和数据存储可靠性。从记录介质中将经受记录再现光照射的一侧,将化学式3表示的有机染料和化学式4表示的有机染料添加到第二记录层中,从而赋予所述记录介质确保的耐久性。在化学式3中,R1和R2独立地表示具有1~4个碳原子的烷基,Yl和Y2独立地表示有机基团,以及X为ClO4、BF4、PF6、SbF6;以及在化学式4中,R1和R4独立地表示具有1~4个碳原子的烷基;R2和R3独立地表示具有1~4个碳原子的烷基或一同形成3~6元环;Yl和Y2独立地表示有机基团;以及X为ClO4、BF4、PF6或SbF6。

Patent Agency Ranking