-
公开(公告)号:CN102395708A
公开(公告)日:2012-03-28
申请号:CN201080016265.0
申请日:2010-04-02
申请人: 纳幕尔杜邦公司 , 东友FINE-CHEM株式会社
摘要: 本发明提供了蚀刻剂组合物以及使用所述组合物蚀刻基板的方法,所述组合物包含:A)提供约0.025重量%至约0.8重量%活性氧的高浓度过一硫酸氢钾;B)按所述组合物的重量计约0.01%至约30%的B1)有机酸、有机酸的碱金属盐、有机酸的铵盐、或有机酸的均聚物,或B2)四唑或苯的卤盐或硝酸盐,或B3)组分B1)和B2)的混合物;和C)按所述组合物的重量计约0%至约97.49%的水。
-
公开(公告)号:CN102395708B
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201080016265.0
申请日:2010-04-02
申请人: 纳幕尔杜邦公司 , 东友FINE-CHEM株式会社
摘要: 本发明提供了蚀刻剂组合物以及使用所述组合物蚀刻基板的方法,所述组合物包含:A)提供约0.025重量%至约0.8重量%活性氧的高浓度过一硫酸氢钾;B)按所述组合物的重量计约0.01%至约30%的B1)有机酸、有机酸的碱金属盐、有机酸的铵盐、或有机酸的均聚物,或B2)四唑或苯的卤盐或硝酸盐,或B3)组分B1)和B2)的混合物;和C)按所述组合物的重量计约0%至约97.49%的水。
-
-