公开(公告)号：CN1530205A

公开(公告)日：2004-09-22

申请号：CN200410028320.4

申请日：2004-02-03

申请人： 罗德尔控股公司

发明人： 约翰·V·H·罗伯茨

IPC分类号： B24B37/04 ,  B24B49/12 ,  H01L21/302

CPC分类号： B24B37/205

摘要： 一种在化学机械整平(CMP)系统中使用的用于抛光垫窗口的抗散射层。发明尤其适用于具有粗糙下表面窗口的情况。以显著减小光散射的方式在窗口的粗糙下表面上形成抗散射层，同时使得晶片的光学原位测量经受CMP工艺。减小的光散射导致信号强度增加，其有利于更耐久的光学原位测量能力。

公开(公告)号：CN1118354C

公开(公告)日：2003-08-20

申请号：CN98804962.7

申请日：1998-05-08

申请人： 罗德尔控股公司

发明人： 约翰·V·H·罗伯茨 ,  李·迈尔伯纳·库克 ,  戴维·B·詹姆斯 ,  海因茨·F·雷恩哈德特

IPC分类号： B24D11/00

CPC分类号： B24B37/26 ,  B24B41/047 ,  B24D7/066

摘要： 本发明提供一种抛光垫的镶片，该镶片由于其几何形状和表面特征而可以排列形成镶嵌垫，该垫在接缝处具有沟槽，在抛光工件期间该沟槽有利于抛光流体的流动。

公开(公告)号：CN1255080A

公开(公告)日：2000-05-31

申请号：CN98804962.7

申请日：1998-05-08

申请人： 罗德尔控股公司

发明人： 约翰·V·H·罗伯茨 ,  李·迈尔伯纳·库克 ,  戴维·B·詹姆斯 ,  海因茨·F·雷恩哈德特

IPC分类号： B24D11/00

CPC分类号： B24B37/26 ,  B24B41/047 ,  B24D7/066

摘要： 本发明提供一种抛光垫的镶片,该镶片由于其几何形状和表面特征而可以排列形成镶嵌垫,该垫在接缝处具有沟槽,在抛光工件期间该沟槽有利于抛光流体的流动。

公开(公告)号：CN100509288C

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：CN200410028320.4

申请日：2004-02-03

申请人： 罗德尔控股公司

发明人： 约翰·V·H·罗伯茨

IPC分类号： B24B37/04 ,  B24B49/12 ,  H01L21/302

CPC分类号： B24B37/205

摘要： 一种在化学机械整平(CMP)系统中使用的用于抛光垫窗口的抗散射层。发明尤其适用于具有粗糙下表面窗口的情况。以显著减小光散射的方式在窗口的粗糙下表面上形成抗散射层，同时使得晶片的光学原位测量经受CMP工艺。减小的光散射导致信号强度增加，其有利于更耐久的光学原位测量能力。

公开(公告)号：CN1073912C

公开(公告)日：2001-10-31

申请号：CN95190278.4

申请日：1995-03-30

申请人： 罗德尔控股公司

发明人： 李·梅尔布尔尼·库克 ,  约翰·V·H·罗伯茨 ,  查尔斯·威廉·詹金斯 ,  拉易·拉加夫·皮莱

IPC分类号： B24D11/00

CPC分类号： B24B37/26 ,  A47L13/28 ,  B24D3/28 ,  B24D11/005 ,  B24D11/02 ,  B24D13/00 ,  B24D2203/00

摘要： 本发明提供一种由固态均匀聚合物薄片(5)组成的改进型抛光衬垫。上述薄片没有本征的吸收或输送研浆颗粒的能力，在应用期间有表面纹理或图形。它们具有同时存在的大(7)小(6)流通通路。这两种通路允许穿越抛光衬垫表面输送研浆。其中上述通路并不是材料构成的一部分而是用机械性方法制作到衬垫表面上的。在本发明的一个最佳形式中，衬垫纹理由粗纹理和细纹理组成。粗纹理在使用之前制作，细纹理则在衬垫使用期间在一个固定的经过选择的工作间隔用许多小的研磨尖状物进行研磨制作的。