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发明公开
掩模图案光学转移的最适化方法审中-实审

公开(公告)号：CN117784526A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202211148267.6

申请日：2022-09-20

申请人： 联华电子股份有限公司

发明人： 张君毅 , 黄文良

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明公开一种掩模图案光学转移的最适化方法，包括下述步骤：首先，进行投影光学模拟，以获取对应于一虚拟掩模图案的较佳光瞳配置方案。接着，进行位置扫描，变更较佳光瞳配置方案，产生多个调整光瞳配置方案。进行掩模图案转移模拟，以获取对应于虚拟掩模图案的多个光瞳配置方案‑关键尺寸关系数据。后续，根据多个掩模图案‑光瞳配置方案‑关键尺寸关系数据，选择一个适于一实作掩模图案的实作光瞳配置方案，由此进行实际掩模图案转移。