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公开(公告)号：CN1680200B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200510068589.X
申请日：2005-03-30
申请人： 肖特股份有限公司
CPC分类号： C03B5/1675 , C03B5/163 , C03B5/225 , C03B5/24
摘要： 在一种制备玻璃的方法中——其中熔融的玻璃至少部分地被贵金属壁和/或难熔金属壁包裹，并且其中利用一个操作机构来影响熔融玻璃的氧偏压从而避免杂质干挠一常常会由于过补偿而重新形成气泡或其它杂质干挠。可以通过如下所述的方法来避免这种过补偿，即设置至少一个探测器(20)来测定玻璃熔体/金属壁界面附近区域上的氧偏压，并且借助调节器(39，45)将操作机构对氧偏压的影响调节到安全的氧偏压范围内。
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公开(公告)号：CN1721348A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200510083286.5
申请日：2005-07-13
申请人： 肖特股份有限公司
摘要： 一种玻璃浮法设备典型地由一个具有一个金属熔池(9)的浮法槽(10)、一个玻璃熔槽和把玻璃熔液(6)供给到浮法槽的金属熔池(9)里的成套设备(5，7，7a，8)以及必要的辅助成套设备构成，其中所述玻璃熔槽具有用于产生玻璃熔液(6)的熔化槽(1)和净化槽。为了将吹气错误最小化以及通过合适地设计电气设备来延长铂－成套设备的使用寿命，本发明规定，一方面具有金属熔池(9)的浮法槽(10)与地面(3)电连接并且另一方面至少一个与地面(3)相连的辅助电极(2)与玻璃熔液(6)接触地设置在玻璃熔槽(1)上。
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公开(公告)号：CN1680200A
公开(公告)日：2005-10-12
申请号：CN200510068589.X
申请日：2005-03-30
申请人： 肖特股份有限公司
CPC分类号： C03B5/1675 , C03B5/163 , C03B5/225 , C03B5/24
摘要： 在一种制备玻璃的方法中——其中熔融的玻璃至少部分地被贵金属壁和/或难熔金属壁包裹，并且其中利用一个操作机构来影响熔融玻璃的氧偏压从而避免杂质干挠——常常会由于过补偿而重新形成气泡或其它杂质干挠。可以通过如下所述的方法来避免这种过补偿，即设置至少一个探测器(20)来测定玻璃熔体/金属壁界面附近区域上的氧偏压，并且借助调节器(39，45)将操作机构对氧偏压的影响调节到安全的氧偏压范围内。
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公开(公告)号：CN1721348B
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN200510083286.5
申请日：2005-07-13
申请人： 肖特股份有限公司
摘要： 一种玻璃浮法设备典型地由一个具有一个金属熔池(9)的浮法槽(10)、一个玻璃熔槽和把玻璃熔液(6)供给到浮法槽的金属熔池(9)里的成套设备(5，7，7a，8)以及必要的辅助成套设备构成，其中所述玻璃熔槽具有用于产生玻璃熔液(6)的熔化槽(1)和净化槽。为了将吹气错误最小化以及通过合适地设计电气设备来延长铂-成套设备的使用寿命，本发明规定，一方面具有金属熔池(9)的浮法槽(10)与地面(3)电连接并且另一方面至少一个与地面(3)相连的辅助电极(2)与玻璃熔液(6)接触地设置在玻璃熔槽(1)上。
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公开(公告)号：CN1283571C
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：CN00137181.9
申请日：2000-11-20
申请人： 肖特股份有限公司
摘要： 本发明涉及一种抑制在玻璃熔液和由贵金属制成的玻璃熔化装置部件之间的接触面上生成O2气泡的方法，所述部件特别是给料槽的贵金属衬里。其中所述的贵金属包括铂、金、铼、铂族中的所有其他金属、所述金属的合金以及所述金属或其合金的分散氧化增强型产物。在贵金属和玻璃熔液之间的相界面上产生小气泡的现象长久以来就是公知的，但是迄今为止，没有出现有效的解决措施，也没有对玻璃制品的质量和成品率作出明显的改进，而且在玻璃生产中，还必须在普通的用于从熔液中去除气泡的澄清装置中设置贵金属部件。本发明对以上任务的解决方案是，所述贵金属部件与一个或多个电极建立导电连接，所述电极在玻璃熔液内与贵金属部件呈一定间隔设置，并且在所述电极和贵金属部件之间产生一个有电流流动的电位降。
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