公开(公告)号：CN101379583A

公开(公告)日：2009-03-04

申请号：CN200680053147.0

申请日：2006-12-20

申请人： 艾克塞利斯科技公司

发明人： 威廉·雷诺斯 ,  克里斯托弗·雷格登 ,  威廉·狄佛吉利欧 ,  丹尼尔·堤格 ,  辛·乔伊丝

IPC分类号： H01J37/08 ,  H01J37/317

CPC分类号： H01J37/3171 ,  B08B7/0035 ,  H01J27/022 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/31705

摘要： 一种用于从离子源内表面清除沉积的沉积清洁系统，包括：氟源、节流机构、以及控制器。氟源将氟作为清洁材料供至离子源。节流机构通过至少部分覆盖源孔径的方式，减少通过离子源的源孔径的氟损失。控制器控制从氟源到离子源的供氟以及流速，还控制节流机构的定位。

公开(公告)号：CN101379583B

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN200680053147.0

申请日：2006-12-20

申请人： 艾克塞利斯科技公司

发明人： 威廉·雷诺斯 ,  克里斯托弗·雷格登 ,  威廉·狄佛吉利欧 ,  辛·乔伊丝 ,  丹尼尔·堤格

IPC分类号： H01J37/08 ,  H01J37/317

CPC分类号： H01J37/3171 ,  B08B7/0035 ,  H01J27/022 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/31705

摘要： 一种用于从离子源内表面清除沉积的沉积清洁系统，包括：氟源、节流机构、以及控制器。氟源将氟作为清洁材料供至离子源。节流机构通过至少部分覆盖源孔径的方式，减少通过离子源的源孔径的氟损失。控制器控制从氟源到离子源的供氟以及流速，还控制节流机构的定位。