半导体制造中的波长补偿方法

    公开(公告)号:CN1158731C

    公开(公告)日:2004-07-21

    申请号:CN99814617.X

    申请日:1999-12-15

    CPC classification number: H01L33/0062 H01S5/0265 H01S5/2077

    Abstract: 本发明涉及一种制造多个半导体光电集成电路的方法,所说半导体光电集成电路至少包括彼此光学相连的激光器和调制器。每个激光器和调制器具有实现在一个衬底上的波导层,其中所说调制器利用选择区生长技术形成。通过提供具有可选择宽度的调制器掩蔽部分,补偿激光器和调制器间波导层的带隙能量差,可以使光学相连的激光器和调制器间带隙能量差大致一致。

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