一种采用磁控溅射制备柔性稀土氧化物薄膜的方法

    公开(公告)号:CN105970171A

    公开(公告)日:2016-09-28

    申请号:CN201610400932.4

    申请日:2016-06-08

    发明人: 宋立军 陈轶

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/08

    摘要: 本发明公开了一种采用磁控溅射制备柔性稀土氧化物薄膜的方法,包括如下步骤:a:选用4N稀土金属靶材;b:采用液态PDMS前体作为衬底;c:抽真空,通入氩气,预溅射清洗靶材表面;d:升温加热台到沉积薄膜所需要的温度并保温;e:通入混合气体,施加溅射功率,控制气体流量,开始向衬底表面镀膜1小时;f:恒温3小时,待温度降至室温时即制得柔性薄膜。本发明解决了现有常规刚性衬底上无法制备可剥离功能薄膜的技术问题,改变了之前稀土金属氧化物薄膜只能沉积在刚性衬底的现状,而且稀土金属氧化物薄膜膜厚可精确控制。