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公开(公告)号:CN118929577A
公开(公告)日:2024-11-12
申请号:CN202411252568.2
申请日:2024-09-06
申请人: 武汉香榭轩新材料技术有限公司 , 苏州香榭轩表面工程技术咨询有限公司
IPC分类号: C01B7/07
摘要: 本发明公开了一种采用异质流制备超高纯盐酸的方法、氯化氢的提纯方法,该方法首先采用加络合剂和还原剂对氯化氢进行除杂处理,以两种试剂的同时作用,克服盐酸与四氯化锡共沸难去除问题及游离氯的影响,采用非氯化氢物料人为制造超高纯异质流介质膜层,形成气液交换,进行异质流净化提纯氯化氢气体,用超纯水等吸收得超高纯盐酸,该超高纯盐酸单项金属小于10ppt,达到国际半导体协会SEMIC12标准,满足12寸以上芯片制备要求,可用于高集成度芯片的清洗和刻蚀;另可经冷冻压缩获得超高纯氯化氢,该氯化氢纯度可以达到6.5N,满足半导体特气要求。与现有技术相比,本发明具有工艺流程简单,生产效率高,节能环保等优点。
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公开(公告)号:CN114014282A
公开(公告)日:2022-02-08
申请号:CN202210003433.7
申请日:2022-01-05
申请人: 苏州香榭轩表面工程技术咨询有限公司
IPC分类号: C01B21/46
摘要: 本发明公开了一种高纯硝酸的连续生产方法,该生产方法为采用循环载气方法进行提纯工业硝酸,该循环载气方法为利用不同温度下硝酸的饱和蒸汽压不同,将载气气体鼓入硝酸物料中,获得硝酸饱和的混合气,而后在换热器中降温,实现硝酸的过饱和析出,进而实现硝酸物料的传输与提纯工作,载气气体在工艺中循环使用。采用本发明工艺制备的超高纯硝酸各单项金属离子含量低于10ppt,除硝酸根外,各单项阴离子小于50ppb。与已有方法相比,本发明工艺和设备简单,生产效率高,产品质量稳定,能耗低,产品满足甚至超过SEMI C12标准的要求,可用于高集成度芯片的清洗和刻蚀。
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公开(公告)号:CN114014282B
公开(公告)日:2022-04-01
申请号:CN202210003433.7
申请日:2022-01-05
申请人: 苏州香榭轩表面工程技术咨询有限公司
IPC分类号: C01B21/46
摘要: 本发明公开了一种高纯硝酸的连续生产方法,该生产方法为采用循环载气方法进行提纯工业硝酸,该循环载气方法为利用不同温度下硝酸的饱和蒸汽压不同,将载气气体鼓入硝酸物料中,获得硝酸饱和的混合气,而后在换热器中降温,实现硝酸的过饱和析出,进而实现硝酸物料的传输与提纯工作,载气气体在工艺中循环使用。采用本发明工艺制备的超高纯硝酸各单项金属离子含量低于10ppt,除硝酸根外,各单项阴离子小于50ppb。与已有方法相比,本发明工艺和设备简单,生产效率高,产品质量稳定,能耗低,产品满足甚至超过SEMI C12标准的要求,可用于高集成度芯片的清洗和刻蚀。
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