公开(公告)号：CN107621755A

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：CN201710575782.5

申请日：2017-07-14

Applicant: 苏斯微技术光刻有限公司

Inventor： 保罗·凯撒

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02B26/08 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/201 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/70575 ,  H01L21/027

Abstract: 一种用于光刻曝光系统(10)的光源布置(12)，包括：具有不同波长的至少三个光源(18、20、22)；以及分束单元(16)，其包括至少三个输入、一个输出和至少两个反射面。输入被分配给每个光源(18、20、22)和每个反射面。反射面将从分配给其对应输入的光源(20、22)发射的光反射到输出中。三个光源(18、20、22)被布置在分束单元(16)周围的三个不同的侧上。另外，示出了光刻曝光系统(10)。

公开(公告)号：CN106054536A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201610088033.5

申请日：2016-02-16

Applicant: 苏斯微技术光刻有限公司

Inventor： 保罗·凯撒

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种用于通过以下步骤调节包括多个LED的光刻曝光系统的光源的方法：检测特定的波长范围内的单个LED的光输出，且将检测到的光输出与在整个光谱上期望的光输出分布进行比较。操作LED使得以可能的最精确的方式完成期望的光谱光输出分布。本发明也涉及一种用于光刻设备的曝光组件，其具有包括多个LED的光源、控制供应到单个LED的电功率的控制装置以及能够检测在波长的相应范围中的LED的光输出的传感器。