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公开(公告)号：CN101945730A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200980105414.8
申请日：2009-02-24
申请人： 萨特隆股份公司
IPC分类号： B24B13/005
CPC分类号： B24B13/0057
摘要： 本发明提出了一种用于保持工件特别是镜片坯件(B)的封堵件(10)及其使用方法，所述封堵件包括基体(12)，所述基体具有工件安装面部分(14)，通过封堵材料(16)可以将所述工件封堵在所述工件安装面部分上；以及夹紧部分(18)，通过所述夹紧部分可以将封堵的工件固定在加工所述工件的机器或装置。所述基体由具有限定的低吸水性的材料组成和/或被密封成至少减小真空条件下水份形成湿气排出，使得所述封堵件适合用在真空涂敷工艺中。另外，所述夹紧部分适合被基本上垂直于径向的力夹紧，这些力互相抵消，因而不会使基体变形，和/或所述工件安装面部分设有预定的棱镜度数。
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公开(公告)号：CN108456856B
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN201810154032.5
申请日：2018-02-22
申请人： 萨特隆股份公司
摘要： 用于基材涂布的箱式涂布设备(10)包括含有蒸发源(14)的真空室(12)。基材支架(16)相对于蒸发源面对面设置，使得蒸发的材料可撞击在由所述基材支架保持的基材上。除了蒸发源和基材支架之外，还设置至少一个另外的功能部件(20)、即迈斯纳捕集器(20)和/或高真空阀机构，防护罩布置(52)被分配至该功能部件，用于防止蒸发的材料撞击在所述部件上。该防护罩布置具有百叶窗部分(56)，百叶窗部分(56)可以从覆盖通过防护罩布置的通道(60)并且用于屏蔽所述部件的关闭的屏蔽位置转移到基本上清空通道以允许气体和蒸气基本上自由通过的打开的泵送位置，并且反之亦然。
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公开(公告)号：CN102814712B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201210292681.4
申请日：2009-02-24
申请人： 萨特隆股份公司
IPC分类号： B24B13/005
CPC分类号： B24B13/0057
摘要： 本发明提出了一种用于保持工件特别是镜片坯件(B)的封堵件(10)及其使用方法，所述封堵件包括基体(12)，所述基体具有工件安装面部分(14)，通过封堵材料(16)可以将所述工件封堵在所述工件安装面部分上；以及夹紧部分(18)，通过所述夹紧部分可以将封堵的工件固定在加工所述工件的机器或装置。所述基体由具有限定的低吸水性的材料组成和/或被密封成至少减小真空条件下水份形成湿气排出，使得所述封堵件适合用在真空涂敷工艺中。另外，所述夹紧部分适合被基本上垂直于径向的力夹紧，这些力互相抵消，因而不会使基体变形，和/或所述工件安装面部分设有预定的棱镜度数。
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公开(公告)号：CN102975098B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201210292774.7
申请日：2009-02-24
申请人： 萨特隆股份公司
IPC分类号： B24B13/005
CPC分类号： B24B13/0057
摘要： 本发明提出了一种用于保持工件特别是镜片坯件(B)的封堵件(10)及其使用方法，所述封堵件包括基体(12)，所述基体具有工件安装面部分(14)，通过封堵材料(16)可以将所述工件封堵在所述工件安装面部分上；以及夹紧部分(18)，通过所述夹紧部分可以将封堵的工件固定在加工所述工件的机器或装置。所述基体由具有限定的低吸水性的材料组成和/或被密封成至少减小真空条件下水份形成湿气排出，使得所述封堵件适合用在真空涂敷工艺中。另外，所述夹紧部分适合被基本上垂直于径向的力夹紧，这些力互相抵消，因而不会使基体变形，和/或所述工件安装面部分设有预定的棱镜度数。
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公开(公告)号：CN102975098A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210292774.7
申请日：2009-02-24
申请人： 萨特隆股份公司
IPC分类号： B24B13/005
CPC分类号： B24B13/0057
摘要： 本发明提出了一种用于保持工件特别是镜片坯件(B)的封堵件(10)及其使用方法，所述封堵件包括基体(12)，所述基体具有工件安装面部分(14)，通过封堵材料(16)可以将所述工件封堵在所述工件安装面部分上；以及夹紧部分(18)，通过所述夹紧部分可以将封堵的工件固定在加工所述工件的机器或装置。所述基体由具有限定的低吸水性的材料组成和/或被密封成至少减小真空条件下水份形成湿气排出，使得所述封堵件适合用在真空涂敷工艺中。另外，所述夹紧部分适合被基本上垂直于径向的力夹紧，这些力互相抵消，因而不会使基体变形，和/或所述工件安装面部分设有预定的棱镜度数。
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公开(公告)号：CN108456856A
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201810154032.5
申请日：2018-02-22
申请人： 萨特隆股份公司
CPC分类号： C23C14/564 , C23C14/0635 , C23C14/24 , C23C14/52 , C23C14/042 , C23C14/54
摘要： 用于基材涂布的箱式涂布设备(10)包括含有蒸发源(14)的真空室(12)。基材支架(16)相对于蒸发源面对面设置，使得蒸发的材料可撞击在由所述基材支架保持的基材上。除了蒸发源和基材支架之外，还设置至少一个另外的功能部件(20)、即迈斯纳捕集器(20)和/或高真空阀机构，防护罩布置(52)被分配至该功能部件，用于防止蒸发的材料撞击在所述部件上。该防护罩布置具有百叶窗部分(56)，百叶窗部分(56)可以从覆盖通过防护罩布置的通道(60)并且用于屏蔽所述部件的关闭的屏蔽位置转移到基本上清空通道以允许气体和蒸气基本上自由通过的打开的泵送位置，并且反之亦然。
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公开(公告)号：CN101945730B
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN200980105414.8
申请日：2009-02-24
申请人： 萨特隆股份公司
IPC分类号： B24B13/005
CPC分类号： B24B13/0057
摘要： 本发明提出了一种用于保持工件特别是镜片坯件(B)的封堵件(10)及其使用方法，所述封堵件包括基体(12)，所述基体具有工件安装面部分(14)，通过封堵材料(16)可以将所述工件封堵在所述工件安装面部分上；以及夹紧部分(18)，通过所述夹紧部分可以将封堵的工件固定在加工所述工件的机器或装置。所述基体由具有限定的低吸水性的材料组成和/或被密封成至少减小真空条件下水份形成湿气排出，使得所述封堵件适合用在真空涂敷工艺中。另外，所述夹紧部分适合被基本上垂直于径向的力夹紧，这些力互相抵消，因而不会使基体变形，和/或所述工件安装面部分设有预定的棱镜度数。
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公开(公告)号：CN102814712A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201210292681.4
申请日：2009-02-24
申请人： 萨特隆股份公司
IPC分类号： B24B13/005
CPC分类号： B24B13/0057
摘要： 本发明提出了一种用于保持工件特别是镜片坯件(B)的封堵件(10)及其使用方法，所述封堵件包括基体(12)，所述基体具有工件安装面部分(14)，通过封堵材料(16)可以将所述工件封堵在所述工件安装面部分上；以及夹紧部分(18)，通过所述夹紧部分可以将封堵的工件固定在加工所述工件的机器或装置。所述基体由具有限定的低吸水性的材料组成和/或被密封成至少减小真空条件下水份形成湿气排出，使得所述封堵件适合用在真空涂敷工艺中。另外，所述夹紧部分适合被基本上垂直于径向的力夹紧，这些力互相抵消，因而不会使基体变形，和/或所述工件安装面部分设有预定的棱镜度数。
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