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公开(公告)号：CN105950041B
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201610059877.7
申请日：2016-01-28
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/40 , C08J7/04 , C09D101/28 , C09D183/04 , C09D129/04 , C09D7/61 , C08L67/00
Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的离型膜，其剥离力小，即使以贴合于粘合剂层的状态经时间流逝，剥离力也难以变大，且有机硅成分向粘合剂层转移少，不会降低贴合的粘合剂层的粘合力。该剥离性优异的离型膜的特征在于，其为在基材膜(1)的一个面上设有厚度0.4～2μm、含有有机硅类离型剂的离型剂层(4)、在另一个面上设有含有作为微粒(3)的无机微粒及/或聚合物微粒的粘合剂树脂层(2)的离型膜(5)，微粒(3)、粘合剂树脂层(2)及离型剂层(4)满足条件(1)及(2)：(1)微粒(3)的体积基准平均粒径为离型剂层(4)厚度的2倍以上；(2)粘合剂树脂层(2)的厚度在微粒(3)的体积基准平均粒径的25～60％的范围内。
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公开(公告)号：CN103194152B
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201210545119.8
申请日：2012-12-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J183/04 , C09J133/00 , B32B7/12 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件、工业制品。所述表面保护膜为即使被粘物密合层的粘合力降低，在制造表面保护膜的工序中，被粘物密合层与作为用于保护其表面的膜的覆盖膜之间也不发生浮起，具有表面平滑的被粘物密合层，从被粘物剥离时能够轻松地剥离，在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物保护被粘物的表面保护膜，且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少。表面保护膜10具有在透明基材1的至少一面上层积由硅酮树脂形成的表面平滑的被粘物密合层2得到的被粘物密合膜5，为了保护被粘物密合层2的表面，将在基材4的一面上形成粘合剂层3的覆盖膜6经由粘合剂层3贴合至被粘物密合层2的表面。
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公开(公告)号：CN118725756A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410371807.X
申请日：2024-03-29
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/25 , C09J7/30 , C09J7/40 , C09D161/32 , C09D171/02 , C09D5/20
Abstract: 本发明提供一种不易发生压缩且使用了非硅酮类剥离层的带剥离膜的表面保护膜。一种带剥离膜的表面保护膜(10)，其中，表面保护膜(16)具有：第一基材层(14)，由聚对苯二甲酸乙二醇酯膜构成；以及粘合剂层(13)，使(甲基)丙烯酸酯类共聚物交联而成，表面保护膜(16)是光学用或电子用的表面保护膜，剥离膜(15)具有第二基材层(11)和形成于第二基材层(11)的一面的剥离层(12)，在剥离膜(15)的剥离层(12)中包含氨基结构，剥离膜(15)的剥离层(12)中的Si在荧光X射线下为0.5kcps以下。
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公开(公告)号：CN107225831B
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201710062191.8
申请日：2017-01-25
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: B32B27/36 , B32B27/06 , B32B33/00 , B32B3/08 , B32B7/06 , C09D183/04 , C09D7/61 , C08J7/04 , C08L67/02
Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的脱模膜，其剥离力小，在贴合于粘着剂层的状态下，剥离力也难以经时增大，向粘着剂层的硅酮成分的转移少，因此贴合的粘着剂层的粘着力不降低，且在脱模膜的使用时、及将脱模膜从被粘物上剥离时的带电量少。该脱模膜(5)具有该脱模剂层在基材膜(1)的至少一个面上依次层叠有含有抗静电剂且不含有微粒的第一脱模剂层(2)、含有微粒(3)的第二脱模剂层(4)的两层结构的脱模剂层，其特征在于，所述第一脱模剂层(2)与所述第二脱模剂层(4)的总厚度为0.4～2.0μm，从所述第二脱模剂层(4)的表面到微粒(3)的顶点的突出高度为所述总厚度以上，且两个脱模剂层(2)、(4)包含硅酮类脱模剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106553395B
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201610602186.7
申请日：2016-07-27
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的离型膜，其剥离力小，在贴合于粘着剂层上的状态下即使经过长时间剥离力也不易变大，且由于向粘着剂层转移的硅酮成分少，不降低贴合的粘着剂层的粘合力。所述离型膜的特征在于，其为在基材膜(1)的至少一个面上，顺次层叠不含微粒的第一离型剂层(2)、含有作为微粒(3)的无机微粒及/或聚合物微粒的第二离型剂层(4)而成的离型膜(5)，第一离型剂层(2)的厚度和第二离型剂层(4)的厚度相加的总厚度为0.4～2.0μm，从第二离型剂层(4)的表面上突出的微颗粒(3)的到达顶点的平均突出高度在所述总厚度以上，且第二离型剂层(4)含有硅酮类离型剂。
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公开(公告)号：CN107225831A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201710062191.8
申请日：2017-01-25
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: B32B27/36 , B32B27/06 , B32B33/00 , B32B3/08 , B32B7/06 , C09D183/04 , C09D7/12 , C08J7/04 , C08L67/02
Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的脱模膜，其剥离力小，在贴合于粘着剂层的状态下，剥离力也难以经时增大，向粘着剂层的硅酮成分的转移少，因此贴合的粘着剂层的粘着力不降低，且在脱模膜的使用时、及将脱模膜从被粘物上剥离时的带电量少。该脱模膜(5)具有该脱模剂层在基材膜(1)的至少一个面上依次层叠有含有抗静电剂且不含有微粒的第一脱模剂层(2)、含有微粒(3)的第二脱模剂层(4)的两层结构的脱模剂层，其特征在于，所述第一脱模剂层(2)与所述第二脱模剂层(4)的总厚度为0.4～2.0μm，从所述第二脱模剂层(4)的表面到微粒(3)的顶点的突出高度为所述总厚度以上，且两个脱模剂层(2)、(4)包含硅酮类脱模剂。
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公开(公告)号：CN106553395A
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201610602186.7
申请日：2016-07-27
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的离型膜，其剥离力小，在贴合于粘着剂层上的状态下即使经过长时间剥离力也不易变大，且由于向粘着剂层转移的硅酮成分少，不降低贴合的粘着剂层的粘合力。所述离型膜的特征在于，其为在基材膜(1)的至少一个面上，顺次层叠不含微粒的第一离型剂层(2)、含有作为微粒(3)的无机微粒及/或聚合物微粒的第二离型剂层(4)而成的离型膜(5)，第一离型剂层(2)的厚度和第二离型剂层(4)的厚度相加的总厚度为0.4～2.0μm，从第二离型剂层(4)的表面上突出的微颗粒(3)的到达顶点的平均突出高度在所述总厚度以上，且第二离型剂层(4)含有硅酮类离型剂。
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公开(公告)号：CN105950041A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201610059877.7
申请日：2016-01-28
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J101/28
Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的离型膜，其剥离力小，即使以贴合于粘合剂层的状态经时间流逝，剥离力也难以变大，且有机硅成分向粘合剂层转移少，不会降低贴合的粘合剂层的粘合力。该剥离性优异的离型膜的特征在于，其为在基材膜(1)的一个面上设有厚度0.4～2μm、含有有机硅类离型剂的离型剂层(4)、在另一个面上设有含有作为微粒(3)的无机微粒及/或聚合物微粒的粘合剂树脂层(2)的离型膜(5)，微粒(3)、粘合剂树脂层(2)及离型剂层(4)满足条件(1)及(2)：(1)微粒(3)的体积基准平均粒径为离型剂层(4)厚度的2倍以上；(2)粘合剂树脂层(2)的厚度在微粒(3)的体积基准平均粒径的25～60％的范围内。
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公开(公告)号：CN103194152A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201210545119.8
申请日：2012-12-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J183/04 , C09J133/00 , B32B7/12 , G02B1/10
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件、工业制品。所述表面保护膜为即使被粘物密合层的粘合力降低，在制造表面保护膜的工序中，被粘物密合层与作为用于保护其表面的膜的覆盖膜之间也不发生浮起，具有表面平滑的被粘物密合层，从被粘物剥离时能够轻松地剥离，在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物保护被粘物的表面保护膜，且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少。表面保护膜10具有在透明基材1的至少一面上层积由硅酮树脂形成的表面平滑的被粘物密合层2得到的被粘物密合膜5，为了保护被粘物密合层2的表面，将在基材4的一面上形成粘合剂层3的覆盖膜6经由粘合剂层3贴合至被粘物密合层2的表面。
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