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公开(公告)号：CN104371581B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201410312033.X
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN104449481B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201410397590.6
申请日：2014-08-13
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J133/00 , C09J133/08 , C09J11/06 , C09J7/02 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种具有优良的抗静电性能、在低剥离速度和高剥离速度下粘结力的平衡性优良、并且耐久性和再加工性也优良的粘结剂组合物以及表面保护膜。一种粘结剂组合物，其中，该粘结剂组合物包括：含有(A)烷基的碳原子数为C4～C18的(甲基)丙烯酸酯单体、(B)含羟基的可共聚单体、(C)含羧基的可共聚单体、(D)聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯单体以及(E)不含羟基而含氮的乙烯基单体或者含烷氧基的(甲基)丙烯酸烷基酯单体中的至少一种的共聚物的丙烯酸类聚合物；而且，还含有(F)三官能以上的异氰酸酯化合物、(G)交联抑制剂、(H)交联催化剂、(I)抗静电剂，所述丙烯酸类聚合物的酸值为0.01～8.0。
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公开(公告)号：CN104745116A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201510158149.7
申请日：2013-04-28
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09J183/04 , C09J183/12
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件。具体地，提供向被粘物的污染少的表面保护膜，没有经时劣化且具有优异的防止剥离带电性能的表面保护膜，以及使用上述表面保护膜的光学部件。在透明基材膜1的一面上形成粘合剂层2、在该粘合剂层2上贴合有剥离膜5的表面保护膜10中，剥离膜5通过在树脂膜3的一面上层压剥离剂层4得到，所述剥离剂层4含有以二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂和在20℃为液体的硅酮类化合物7。粘合剂层2由共聚或混合含有聚氧化亚烷基团的化合物得到的(甲基)丙烯酸类聚合物形成，并且含有抗静电剂。
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公开(公告)号：CN104342044B
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201410242459.2
申请日：2014-06-03
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09D183/04 , C09D7/12 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在该粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，所述剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面形成剥离剂层(4)而成，该剥离剂层(4)是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和熔点为30～80℃的离子性化合物的树脂组合物来形成；所述粘结剂层(2)是丙烯酸类粘结剂层。
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公开(公告)号：CN104342045B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201410312324.9
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09D183/04 , C09D7/12 , G02B1/10 , G02B5/30
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104342045A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410312324.9
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09D183/04 , C09D7/12 , G02B1/10 , G02B5/30
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN104419338B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201410312177.5
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面有凹凸的光学用膜也可使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用其的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)而成，抗静电剂成分是熔点小于30℃的离子性化合物，通过抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN103421436B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201310181273.6
申请日：2013-05-16
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08
Abstract: 本发明提供一种对被粘附体的污染少、不会经时劣化且具有优异的防剥离静电性能的表面保护膜、以及使用该表面保护膜的光学部件。在透明基材膜（1）的单面形成有粘结剂层（2），在该粘结剂层（2）上贴合有剥离膜（5）的表面保护膜（10）中，粘结剂层（2）含有防静电剂，剥离膜（5）是在树脂膜（3）的单面层叠剥离剂层（4）而成，所述剥离剂层（4）包含以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的有机硅类化合物（7）。粘结剂层（2）由与含有聚氧化烯基的化合物共聚合的（甲基）丙烯酸类聚合物形成、或者由混合了含有聚氧化烯基的化合物的（甲基）丙烯酸类聚合物形成。
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公开(公告)号：CN104962209A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201510230694.2
申请日：2013-05-16
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J151/08
Abstract: 本发明提供用于形成对被粘附体的污染少的粘结膜的粘结膜用剥离膜，进而，提供用于形成具有优异的防剥离静电性能的粘结膜的粘结膜用剥离膜、以及使用该粘结膜用剥离膜的粘结膜。本发明的粘结膜用剥离膜(5)能够保护至少在基材膜(1)的单面层叠有粘结剂层(2)的粘结膜的该粘结剂层(2)，并且能够剥离，其中，至少在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，并通过该剥离剂层(4)贴合在粘结剂层(2)的表面上，上述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的硅类化合物。
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公开(公告)号：CN104419338A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410312177.5
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面有凹凸的光学用膜也可使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用其的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)而成，抗静电剂成分是熔点小于30℃的离子性化合物，通过抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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