一种共光路偏振点衍射同步移相干涉系统及方法

    公开(公告)号:CN114719741B

    公开(公告)日:2024-01-30

    申请号:CN202210273845.2

    申请日:2022-03-19

    IPC分类号: G01B9/02 G01B11/24

    摘要: 本发明一种共光路偏振点衍射同步移相干涉系统及方法,属于光学干涉检测领域;包括沿光路依次设置的测试光路、衍射光路和移相光路;所述测试光路包括沿光路依次设置的He‑Ne激光器、线偏振片、二分之一波片、第一四分之一波片、扩束镜和待测样品,用于获得待测信息;所述衍射光路包括沿光路依次设置的缩束镜、高倍物镜、针孔线偏振点衍射板和第一成像透镜,用于获得参考光与被测光;所述移相光路包括沿光路依次设置的第二四分之一波片、第二成像透镜和阵列式偏振相机,用于实现参考光与被测光之间的空间移相,同时形成四幅干涉图像。本发明测量精度高,结构紧凑,抗干扰性好,可实现动态面型的测量。

    一种共光路偏振点衍射同步移相干涉系统及方法

    公开(公告)号:CN114719741A

    公开(公告)日:2022-07-08

    申请号:CN202210273845.2

    申请日:2022-03-19

    IPC分类号: G01B9/02 G01B11/24

    摘要: 本发明一种共光路偏振点衍射同步移相干涉系统及方法,属于光学干涉检测领域;包括沿光路依次设置的测试光路、衍射光路和移相光路;所述测试光路包括沿光路依次设置的He‑Ne激光器、线偏振片、二分之一波片、第一四分之一波片、扩束镜和待测样品,用于获得待测信息;所述衍射光路包括沿光路依次设置的缩束镜、高倍物镜、针孔线偏振点衍射板和第一成像透镜,用于获得参考光与被测光;所述移相光路包括沿光路依次设置的第二四分之一波片、第二成像透镜和阵列式偏振相机,用于实现参考光与被测光之间的空间移相,同时形成四幅干涉图像。本发明测量精度高,结构紧凑,抗干扰性好,可实现动态面型的测量。

    柔性薄膜材料共形贴附顺应性分析方法及系统

    公开(公告)号:CN117056995B

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202311282544.7

    申请日:2023-10-07

    摘要: 本发明公开了柔性薄膜材料共形贴附顺应性分析方法及系统,包括步骤:基于位点标记图案将柔性薄膜材料裁剪为初始图形;将裁剪后的柔性薄膜材料在目标表面工件的目标图形区域中共形贴附;获取位点标记图案之间的距离、柔性薄膜材料上位点标记图案共形贴附前后的距离场分布;计算得到实验测量的初始图形和目标图形之间的测量共形映射关系;得到描述共形顺应性的拟合函数模型中滑动项系数值与黏附项系数值;建立共形贴附场景下初始图形和目标图形之间的模拟共形映射关系,进行共形贴附顺应性能否实现的定量判断,基于模拟共形映射关系对共形贴附顺应性状态描述。本申请能够对柔性薄膜材料共形贴附顺应性进行分析模拟,指导柔性电子器件的设计制造。

    柔性薄膜材料共形贴附顺应性分析方法及系统

    公开(公告)号:CN117056995A

    公开(公告)日:2023-11-14

    申请号:CN202311282544.7

    申请日:2023-10-07

    摘要: 本发明公开了柔性薄膜材料共形贴附顺应性分析方法及系统,包括步骤:基于位点标记图案将柔性薄膜材料裁剪为初始图形;将裁剪后的柔性薄膜材料在目标表面工件的目标图形区域中共形贴附;获取位点标记图案之间的距离、柔性薄膜材料上位点标记图案共形贴附前后的距离场分布;计算得到实验测量的初始图形和目标图形之间的测量共形映射关系;得到描述共形顺应性的拟合函数模型中滑动项系数值与黏附项系数值;建立共形贴附场景下初始图形和目标图形之间的模拟共形映射关系,进行共形贴附顺应性能否实现的定量判断,基于模拟共形映射关系对共形贴附顺应性状态描述。本申请能够对柔性薄膜材料共形贴附顺应性进行分析模拟,指导柔性电子器件的设计制造。

    一种基于简化光学纳米谐振腔的面内位移传感单元及方法

    公开(公告)号:CN110360935B

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201910702334.6

    申请日:2019-07-31

    IPC分类号: G01B11/02

    摘要: 本发明一种基于简化光学纳米谐振腔的面内位移传感单元及方法包括一个激光器、一个光隔离器、一个可动亚波长硅光栅及覆盖于其上的银膜、一层覆盖在硅基底上的亚波长银膜光栅、一层空气间隙、一个硅基底和一个分光棱镜;利用近场光学谐振腔的谐振增强原理,设计了光栅组的结构参数和相对位置,使得谐振腔出射的反射光强对可动亚波长硅光栅的面内位移非常敏感,从而实现超高灵敏度的面内位移测量。本发明用两组银膜代替了寻常光学纳米谐振腔中的两组光栅,整个传感单元由单片绝缘体上硅晶圆制作而成,大大降低了加工难度;优化后的结构参数使得传感单元拥有比现有谐振腔方案更高的光强位移灵敏度,因此可实现高集成度、可靠性和精度的面内位移测量。

    基于印刷与光刻结合方式的高精度柔性微电路加工方法

    公开(公告)号:CN110739267A

    公开(公告)日:2020-01-31

    申请号:CN201910863482.6

    申请日:2019-09-12

    摘要: 本发明公开了基于印刷与光刻结合方式的高精度柔性微电路加工方法,包括以下步骤:旋涂光刻胶,光刻,对准印刷,去除光刻胶,后处理。本发明中由于采用基于印刷与光刻结合方式的高精度柔性电极加工技术,使用印刷技术在衬底上印刷导电膜,使加工工艺简化、成本大幅降低,使印刷工艺的分辨率提高到光刻水平,使得可用于加工柔性电极的材料种类大幅增加。印刷工艺可在室温下进行,对于许多对温度敏感的柔性基底也可满足加工条件要求。同时,印刷工艺在常温常压下就可以进行,对工作环境要求低,工业上可以建立“旋涂光刻胶-前烘-光刻-显影-后烘-印刷镀膜-去胶-后处理”这一流水线作业模式来加工高精度柔性电极,可大幅提高加工效率。

    一种基于四区域等线宽相位调制光栅的面外位移传感单元

    公开(公告)号:CN113048887B

    公开(公告)日:2022-09-30

    申请号:CN202110237134.5

    申请日:2021-03-03

    IPC分类号: G01B11/02

    摘要: 本发明一种基于四区域等线宽相位调制光栅的面外位移传感单元,属于位移传感技术领域;包括覆盖在被测物体上的铬膜、二氧化硅基底及覆盖于二氧化硅基底上的铬膜;将被测物体固定于固定外框的内顶面,在被测物体下表面覆盖一层铬膜;二氧化硅基底上表面均分为多个等宽的区域,每四个连续区域为一个单元;通过连接结构将二氧化硅基底水平固定于所述固定外框内的中部,并在二氧化硅基底每个单元的第一区域和第三区域表面覆盖一层铬膜,得到四区域等线宽相位调制光栅,由四区域等线宽相位调制光栅、覆盖在被测物体上的铬膜以及空气间隙构成了新型相位调制光学谐振腔;当空气间隙在每周期的10μm范围内时,该传感单元的面外位移测量灵敏度最高,可达0.25%/nm。

    一种基于近场光学谐振腔的面外位移传感单元及方法

    公开(公告)号:CN110836640B

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN201911130641.8

    申请日:2019-11-19

    IPC分类号: G01B11/02

    摘要: 本发明公开了一种基于近场光学谐振腔的面外位移传感单元及方法,属于位移传感领域。所述面外位移传感单元包括一个激光器、一个分光棱镜、一个光电探测器、一个由可动亚波长硅光栅、硅基底和覆盖在两者上的错位亚波长银膜构成的近场光学谐振腔;本发明结合严格耦合波分析法和遗传算法优化得到了近场光学谐振腔的最优参数,使得从谐振腔出射的反射光强对可动亚波长硅光栅的面外位移非常敏感,并且对其面内位移相对不敏感。本发明设计的面外位移传感单元不仅拥有超越已报道位移传感单元的超高灵敏度,并且将多层可动光栅简化为了双层金属,使得结构相对简单,加工难度大大降低,因此可实现超高精度、高度集成的面外位移测量。

    一种基于表面等离激元的开环式面外加速度传感器及方法

    公开(公告)号:CN110865204B

    公开(公告)日:2020-09-25

    申请号:CN201911130667.2

    申请日:2019-11-19

    IPC分类号: G01P15/03 G01B11/02 G01D5/34

    摘要: 本发明一种基于表面等离激元的开环式面外加速度传感器,属于加速度计领域;包括加速度敏感结构、近场光学谐振腔和压电薄膜;加速度敏感结构由质量块、蛇形悬臂梁和硅外框构成;近场光学谐振腔由亚波长硅光栅、空气间隙、硅基底和覆盖在亚波长硅光栅及硅基底上的上下银膜构成。通过耦合波分析法和遗传算法优化得到的近场光学谐振腔,其出射光强对腔长变化异常敏感;加速度敏感结构提供了合适的机械性能;压电薄膜可以调控光腔腔长,使得加速度传感器工作在灵敏度最大处。本发明利用了表面等离激元的耦合谐振,拥有超越已报道加速度传感器的超高灵敏度,并且压电薄膜提供了零位调整和调制的途径,可以实现具有更高可行性的超灵敏加速度测量。

    一种基于表面等离激元的开环式面外加速度传感器及方法

    公开(公告)号:CN110865204A

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201911130667.2

    申请日:2019-11-19

    IPC分类号: G01P15/03 G01B11/02 G01D5/34

    摘要: 本发明一种基于表面等离激元的开环式面外加速度传感器,属于加速度计领域;包括加速度敏感结构、近场光学谐振腔和压电薄膜;加速度敏感结构由质量块、蛇形悬臂梁和硅外框构成;近场光学谐振腔由亚波长硅光栅、空气间隙、硅基底和覆盖在亚波长硅光栅及硅基底上的上下银膜构成。通过耦合波分析法和遗传算法优化得到的近场光学谐振腔,其出射光强对腔长变化异常敏感;加速度敏感结构提供了合适的机械性能;压电薄膜可以调控光腔腔长,使得加速度传感器工作在灵敏度最大处。本发明利用了表面等离激元的耦合谐振,拥有超越已报道加速度传感器的超高灵敏度,并且压电薄膜提供了零位调整和调制的途径,可以实现具有更高可行性的超灵敏加速度测量。