一种梯度涂层材料、其制备方法及应用

    公开(公告)号:CN115786850B

    公开(公告)日:2024-01-19

    申请号:CN202211602055.0

    申请日:2022-12-13

    IPC分类号: C23C14/06 C23C14/18

    摘要: 本发明公开了一种梯度涂层材料、其制备方法及应用,涉及涂层材料技术领域。梯度涂层材料包括依次沉积在硬质合金基底上的粘接层、中间过渡层和顶部耐磨层,中间过渡层和顶部耐磨层中均含有Ti、N和掺杂元素,掺杂元素为硅或硅铝混合物以及为达到特定功能也可额外添加其他功能性元素,在中间过渡层中掺杂元素的含量从底部至顶部逐渐增加。可以在顶层形成类似蜂窝状的非晶a‑Si3N4包裹纳米TiN晶的复合结构,通过细晶强化增加涂层的硬度,而较软的非晶a‑Si3N4可以通过吸收裂纹的能量和偏转裂纹的方向阻延裂纹的扩展,提高涂层的韧性。可以实现高耐磨、强结合的梯度涂层制备,能满足钢轨在线铣削加工的要求。

    一种梯度涂层材料、其制备方法及应用

    公开(公告)号:CN115786850A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211602055.0

    申请日:2022-12-13

    IPC分类号: C23C14/06 C23C14/18

    摘要: 本发明公开了一种梯度涂层材料、其制备方法及应用,涉及涂层材料技术领域。梯度涂层材料包括依次沉积在硬质合金基底上的粘接层、中间过渡层和顶部耐磨层,中间过渡层和顶部耐磨层中均含有Ti、N和掺杂元素,掺杂元素为硅或硅铝混合物以及为达到特定功能也可额外添加其他功能性元素,在中间过渡层中掺杂元素的含量从底部至顶部逐渐增加。可以在顶层形成类似蜂窝状的非晶a‑Si3N4包裹纳米TiN晶的复合结构,通过细晶强化增加涂层的硬度,而较软的非晶a‑Si3N4可以通过吸收裂纹的能量和偏转裂纹的方向阻延裂纹的扩展,提高涂层的韧性。可以实现高耐磨、强结合的梯度涂层制备,能满足钢轨在线铣削加工的要求。

    一种激光刻蚀和电化学阳极氧化结合制备多孔硅的方法

    公开(公告)号:CN109592685A

    公开(公告)日:2019-04-09

    申请号:CN201811495877.7

    申请日:2018-12-07

    IPC分类号: C01B33/021

    摘要: 一种激光刻蚀和电化学阳极氧化结合制备多孔硅的方法,其特征如下:首先采用皮秒脉冲激光对硅片的抛光面进行刻蚀,在硅片的抛光面形成布满纵横交错凹槽的刻蚀区域,所述每个凹槽的深度为1.5-2.5μm,宽度为2-5μm,相邻凹槽中心之间的距离为8-10μm;然后对刻蚀后的硅片依次进行清洗和电化学阳极氧化处理;所述电化学阳极氧化处理的电流为50-80mA,时间为8-15min。该方法制备的多孔硅孔洞呈四角星形,孔隙率大,内部呈蜂窝状结构,吸附能力强,并且内部结构稳定,不发生坍塌,易于实现多孔硅为骨架的纳米复合物含能材料的制备。

    一种含钴类硬质合金铣刀的退磁处理方法

    公开(公告)号:CN105469931A

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201510995743.1

    申请日:2015-12-28

    IPC分类号: H01F13/00

    CPC分类号: H01F13/006

    摘要: 本发明提出了一种含钴类硬质合金铣刀的退磁处理方法,包括以下步骤:a、使用退磁机对含钴类硬质合金铣刀进行充磁处理,得到磁化的含钴类硬质合金铣刀;b、使用退磁机对磁化的含钴类硬质合金铣刀进行退磁处理。该方法操作步骤简单,可以一次性将含钴类硬质合金铣刀全面退磁,退磁效果好,退磁处理后的铣刀磁化强度小于5Gs,且该方法可降低含钴类硬质合金铣刀的残余应力,增加了其在修复钢轨过程中的使用寿命和耐磨性。

    一种含钴类硬质合金铣刀的退磁处理方法

    公开(公告)号:CN105469931B

    公开(公告)日:2018-04-06

    申请号:CN201510995743.1

    申请日:2015-12-28

    IPC分类号: H01F13/00

    摘要: 本发明提出了一种含钴类硬质合金铣刀的退磁处理方法,包括以下步骤:a、使用退磁机对含钴类硬质合金铣刀进行充磁处理,得到磁化的含钴类硬质合金铣刀;b、使用退磁机对磁化的含钴类硬质合金铣刀进行退磁处理。该方法操作步骤简单,可以一次性将含钴类硬质合金铣刀全面退磁,退磁效果好,退磁处理后的铣刀磁化强度小于5Gs,且该方法可降低含钴类硬质合金铣刀的残余应力,增加了其在修复钢轨过程中的使用寿命和耐磨性。

    一种刀具涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN115058687A

    公开(公告)日:2022-09-16

    申请号:CN202210665173.X

    申请日:2022-06-13

    摘要: 本发明公开了一种刀具涂层及其制备方法,属于刀具涂层材料技术领域。本发明的刀具涂层包括结合层、应力缓冲层、过渡层和功能层;结合层由纯Cr层组成;应力缓冲层由Cr层和CrN层交替叠加而成,其厚度为500nm~1000nm,调制周期10nm~200nm,调制比0.8~1.5;过渡层由Cr和C元素梯度变化形成;功能层由Cr掺杂DLC形成。本发明的涂层具有硬度高、内应力小、附着力强和摩擦系数低等特性,可以大幅度提高切削刀具使用寿命,以及工件尺寸精度和表面光洁度;涂层的制备方法具有离化率高、涂层设备结构简单和可批量化处理等特点,易于实现工业生产,具有良好的应用前景。

    一种激光刻蚀和电化学阳极氧化结合制备多孔硅的方法

    公开(公告)号:CN109592685B

    公开(公告)日:2020-05-19

    申请号:CN201811495877.7

    申请日:2018-12-07

    IPC分类号: C01B33/021

    摘要: 一种激光刻蚀和电化学阳极氧化结合制备多孔硅的方法,其特征如下:首先采用皮秒脉冲激光对硅片的抛光面进行刻蚀,在硅片的抛光面形成布满纵横交错凹槽的刻蚀区域,所述每个凹槽的深度为1.5‑2.5μm,宽度为2‑5μm,相邻凹槽中心之间的距离为8‑10μm;然后对刻蚀后的硅片依次进行清洗和电化学阳极氧化处理;所述电化学阳极氧化处理的电流为50‑80mA,时间为8‑15min。该方法制备的多孔硅孔洞呈四角星形,孔隙率大,内部呈蜂窝状结构,吸附能力强,并且内部结构稳定,不发生坍塌,易于实现多孔硅为骨架的纳米复合物含能材料的制备。