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公开(公告)号：CN103907056B
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201280053361.1
申请日：2012-10-03
Applicant: 西安大略大学
CPC classification number: G03F7/2002 , B01D67/0034 , B01D2323/30 , B01D2323/345 , B01D2325/08 , B05D5/00 , G03F7/38 , Y10T428/24496
Abstract: 本专利公开了一种均匀孔径、特定形状以及规则孔分布的独立自支撑多孔膜加工方法，以及其在纳米颗粒图案合成中的应用。本方法包括将光致抗蚀剂层涂覆于基底上表面，首先将其加热相应时间段，然后通过具有预设图案的掩模版使该光致抗蚀剂层通过紫外曝光，并控制所述紫外线辐射剂量的强度和时间实现剂量控制，以便所述紫外线辐射剂量通过并进入所述光致抗蚀剂层顶部比与所述基底表面紧邻的光致抗蚀剂层底部经受更多的交联，从而在所述光致抗蚀剂层的厚度内产生交联梯度。由于与基低表面相邻的膜部分与膜表面相比交联程度低，去除掩模版后容易将膜层从基底表面分离。分离后的膜形成是具有特定图形分布的独立自支撑多孔膜。当沉积在UV透明基底上时，该方法也可以用正性光致抗蚀剂材料，以便将光致抗蚀剂从其顶部通过掩模对掩模版进行UV曝光并且从透明基底的背部掩模版进行直接无掩模的UV曝光。
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公开(公告)号：CN104768868B
公开(公告)日：2017-09-12
申请号：CN201380042768.9
申请日：2013-06-18
Applicant: 西安大略大学 , 朗盛丁基私人有限公司
CPC classification number: G03F7/0037 , B08B17/065 , B81B2203/0361 , B81C1/00031 , B81C1/00206 , B82Y30/00 , C03C2217/76 , G03F7/004 , G03F7/2024 , Y10T428/24372 , Y10T428/24405
Abstract: 此处公开的是一种具有改性的表面以赋予多尺度粗糙度、从而提供超疏水和/或超疏油性质的基材。表面包括由具有凹凸形状的多个纳米颗粒覆盖的微米尺度柱的图案。还选择表面的面积分数以提供期望的超疏油性质。此处还公开的是一种用于产生改性的表面的方法，包括光刻法，可选地随后气相沉积。基材可以形成为有用的制品或应用于预成型的制品。
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公开(公告)号：CN103907056A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201280053361.1
申请日：2012-10-03
Applicant: 西安大略大学
CPC classification number: G03F7/2002 , B01D67/0034 , B01D2323/30 , B01D2323/345 , B01D2325/08 , B05D5/00 , G03F7/38 , Y10T428/24496
Abstract: 本专利公开了一种均匀孔径、特定形状以及规则孔分布的独立自支撑多孔膜加工方法，以及其在纳米颗粒图案合成中的应用。本方法包括将光致抗蚀剂层涂覆于基底上表面，首先将其加热相应时间段，然后通过具有预设图案的掩模版使该光致抗蚀剂层通过紫外曝光，并控制所述紫外线辐射剂量的强度和时间实现剂量控制，以便所述紫外线辐射剂量通过并进入所述光致抗蚀剂层顶部比与所述基底表面紧邻的光致抗蚀剂层底部经受更多的交联，从而在所述光致抗蚀剂层的厚度内产生交联梯度。由于与基低表面相邻的膜部分与膜表面相比交联程度低，去除掩模版后容易将膜层从基底表面分离。分离后的膜形成是具有特定图形分布的独立自支撑多孔膜。当沉积在UV透明基底上时，该方法也可以用正性光致抗蚀剂材料，以便将光致抗蚀剂从其顶部通过掩模对掩模版进行UV曝光并且从透明基底的背部掩模版进行直接无掩模的UV曝光。
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公开(公告)号：CN104768868A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201380042768.9
申请日：2013-06-18
Applicant: 西安大略大学 , 朗盛丁基私人有限公司
CPC classification number: G03F7/0037 , B08B17/065 , B81B2203/0361 , B81C1/00031 , B81C1/00206 , B82Y30/00 , C03C2217/76 , G03F7/004 , G03F7/2024 , Y10T428/24372 , Y10T428/24405
Abstract: 此处公开的是一种具有改性的表面以赋予多尺度粗糙度、从而提供超疏水和/或超疏油性质的基材。表面包括由具有凹凸形状的多个纳米颗粒覆盖的微米尺度柱的图案。还选择表面的面积分数以提供期望的超疏油性质。此处还公开的是一种用于产生改性的表面的方法，包括光刻法，可选地随后气相沉积。基材可以形成为有用的制品或应用于预成型的制品。
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